All-oxide crystalline microelectromechanical systems: Bending the functionalities of transition-metal oxide thin films

Advanced Materials

Volumn 21, Issue 23, 2009, Pages 2377-2381

  Pellegrino, Luca ^a   Biasotti, Michele ^a,b   Bellingeri, Emilio ^a   Bernini, Cristina ^a   Siri, Antonio Sergio ^a,b   Marré, Daniele ^a,b  

^a Laboratory of Innovative and Artificial Materials Genoa   (Italy)

^b UNIVERSITY OF GENOA   (Italy)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

AFM TIP; CRYSTALLINE THIN FILMS; EPITAXIAL HETEROSTRUCTURE; EXTERNAL ELECTRIC FIELD; FLEXIBLE SUBSTRATE; FUNCTIONAL OXIDE FILMS; MECHANICAL DEFORMATION; MEMSDEVICES; MICRO ELECTRO MECHANICAL SYSTEM; MICROELECTROMECHANICAL SYSTEMS; SACRIFICIAL LAYER; SRTIO; TRANSITION-METAL OXIDES;

COMPOSITE MICROMECHANICS; CRYSTALLINE MATERIALS; ELECTRIC FIELDS; EPITAXIAL FILMS; EPITAXIAL GROWTH; LITHIUM COMPOUNDS; MANGANESE COMPOUNDS; MECHATRONICS; MEMS; METALLIC COMPOUNDS; MICROELECTROMECHANICAL DEVICES; OXIDE FILMS; PULSED LASER DEPOSITION; SUBSTRATES; TRANSITION METALS;

TENSILE STRAIN;

EID: 67649389931     PISSN: 09359648     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/adma.200803360     Document Type: Article

References (42)

1. M. Imada, A. Fujimori, Y. Tokura, Rev. Mod. Phys. 1998, 70, 1039.
2. J. H. Haeni, P. Irvin, W. Chang, R. Uecker, P. Reiche, Y. L. Li, S. Choudhury, W. Tian, M. E. Hawley, B. Craigo, A. K. Tagantsev, X. Q. Pan, S. K. Streiffer, L. Q. Chen, S. W. Kirchoefer, J. Levy, D. G. Schlom, Nature 2004, 430, 758.
3. a) D. Fuchs, E. Arac, C. Pinta, S. Schuppler, R. Schneider, H. v. Löhneysen, Phys. Rev. B 2008, 77, 014434.
4. b) D. Fuchs, C. Pinta, T. Schwarz, P. Schweiss, P. Nagel, S. Schuppler, R. Schneider, M. Merz, G. Roth, H. v. Löhneysen, Phys. Rev. B 2007, 75, 144402.
5. F. Tsui, M. C. Smoak, T. K. Nath, C. B. Eom, Appl, Phys. Lett. 2008, 76, 2421.
6. I. C. Infante, F. Sánchez, J. Fontcuberta, M. Wojcik, E. Jedryka, S. Estrade, F. Peiró, J. Arbiol, V. Laukhin, J. P. Espinós, Phys. Rev. B 2007, 76, 224415.
7. P. Dey, T. K. Nath, A. Taraphder, Appl. Phys. Lett. 2007, 91, 012511.
8. K. Nagashima, T. Yanagida, H. Tanaka, T. Kawai, Phys. Rev. B 2006, 74, 172106.
9. Y. Ogimoto, M. Nakamura, N. Takubo, H. Tamaru, M. Izumi, K. Miyano, Phys. Rev. B 2005, 71, 060403(R).
10. T. Dhakal, J. Tosado, A. Biswas, Phys. Rev. B 2007, 75, 092404.
11. J. Dvorak, Y. U. Idzerda, S. B. Ogale, Sanjay Shinde, Tao Wu, T. Venkatesan, R. Godfrey, J. Appl. Phys. 2005, 97, 10Cl 02.
12. Q.Gan, R.A. Rao, C.B. Eom, J. L.Garrett, M. Lee, Appl. Phys. Lett. 1998, 72, 978.
13. a) J. M. Gregg, R. M. Bowman, Appl. Phys. Lett. 1997, 71, 3649.
14. b) P. Zubko, C. Catalan, A. Buckley, P. R. L. Welche, J. F. Scott, Phys. Rev. Lett. 2007, 99, 167601.
15. a) C. Thiele, K. Dörr, S. Fähler, L. Schultz, D. C. Meyer, A. A. Levin, P. Paufler, Appl. Phys. Lett. 2005, 87, 262502.
16. b) C. Thiele, K. Dörr, O. Bilani, J. Rodel, L. Schultz, Phys. Rev. B 2007, 75, 054408.
17. a) R. K. Zheng, Y. Wang, J. Wang, K. S. Wong, H. L. W. Chan, C. L. Choy, H. S. Luo, Phys. Rev. B 2006, 74, 094427.
18. b) R. K. Zheng, J. Wang, X. Y. Zhou, Y. Wang, H. L. W. Chan, C. L. Choy, H. S. Luo J. Appl. Phys. 2006, 99, 123714.
19. a) O. Bilani-Zeneli, A. D. Rata, A. Herklotz, O. Mieth, L. M. Eng, L. Schultz, M. D. Biegalski, H. M. Christen, K. Dörr, J. Appl. Phys. 2008, 704, 054108.
20. b) A. A. Levin, A. I. Pommrich, T. Weißbach, D. C. Meyer, O. Bilani-Zeneli, J. Appl. Phys. 2008, 103, 054102.
21. W. Eerenstein, M. Wiora, J. L. Prieto, J. F. Scott, N. D. Mathur, Nat. Mater. 2007, 6, 348.
22. A. D. Rata, A. Herklotz, K. Nenkov, L. Schultz, K. Dörr, Phys. Rev. Lett. 2008, 100, 076401.
23. M. K. Lee, T. K. Nath, C. B. Eom, M. C. Smoak, F. Tsui, Appl. Phys. Lett. 2000, 77, 3547.
24. H. Tabata, T. Kawai, IEICE Tram. Electron. 1997, E80-C, 918.
25. C. Thiele, K. Dörr, L. Schultz, E. Beyreuther, W.-M. Lin, Appl. Phys. Lett. 2005, 87, 162512.
26. A. Herklotz, L. Schultz, K. Dörr, unpublished.
27. J. L. Macmanus-Driscoll, P. Zerrer, H. Wang, H. Yang, J. Yoon, A. Fouchet, R. Yu, M. G. Blamire, Q. Jia, Nat. Mater. 2008, 7, 314.
28. H. Zheng, J. Wang, S. E. Lofland, Z. Ma, L. Mohaddes-Ardabili, T. Zhao, L. Salamanca-Riba, S. R. Shinde, S. B. Ogale, F. Bai, D. Viehland, Y. Jia, D. G. Schlom, M. Wuttig, A. Roytburd, R. Ramesh, Science 2004, 303, 661.
29. X. Wang, J. Song, J. Liu, Z. L. Wang, Science 2007, 376, 102.
30. J. Wu, Q. Gu, B. S. Guiton, N. P. de Leon, L. Ouyang, H. Park, Nano Lett. 2006, 6, 2313.
31. L. P. Lee, M. J. Burns, K. Char, Appl. Phys. Lett. 1992, 67, 2706.
32. L. Méchin, J.-C. Villegier, D. Bloyet J. Appl. Phys. 1997, 81, 7039.
33. J. H. Kim, A. M. Grishin, Appl. Phys. Lett. 2005, 87, 033502-1.
34. I. Kanno, S. Fujii, T. Kamada, R. Takayama, Appl. Phys. Lett. 1997, 70, 1378.
35. H. W. Jang, S. H. Baek, D. Ortiz, C. M. Folkman, C. B. Eom, Y. H. Chu, P. Shafer, R. Ramesh, V. Vaithyanathan, D. G. Schlom, Appl. Phys. Lett. 2008, 92, 062910.
36. S. C. Minne, S. R. Manalis, A. Atalar, C. F. Quate, Appl. Phys. Lett. 1996, 68, 1427.
37. K. Arshak, D. Morris, A. Arshak, O. Korostynska, J. Mater. Sci. Mater. Electron. 2006, 77, 767.
38. L. Pellegrino, M. Biasotti, A. S. Siri, Potent TO2008A000257.
39. Y. Tokura, Colossal Magneto resistive Oxides, Gordon and Breach, Singapore 2000.
40. Comsol Multiphasics® version 3.4.
41. a) L. Pellegrino, E. Bellingeri, A. S. Siri, D. Marré, Appl. Phys. Lett. 2005, 87, 064102-1;
42. b) L. Pellegrino, Y. Yanagisawa, M. Ishikawa, T. Matsumoto, H.Tanaka, T. Kawai, Adv. Mater. 2006, 78, 3099.