Designing various self-assembled ZnOx quantum dots/islands on silicon with distinctive characteristics by magnetron sputter

Crystal Growth and Design

Volumn 9, Issue 5, 2009, Pages 2021-2025

  Liang, Yu Han ^a   Huang, Jun Han ^a   Chang, Neng Chieh ^a   Liu, Chuan Pu ^a  

^a NATIONAL CHENG KUNG UNIVERSITY   (Taiwan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 66249133921     PISSN: 15287483     EISSN: 15287505     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/cg8014018     Document Type: Article

References (28)

1. Asahi, H. Adv. Mater. 1997, 9, 1019-1026.
2. Liu, D. C.; Lee, C. P. U.S. Patent 5 482 890, 1996.
3. Tan, S. T.; Sun, X. W.; Zhang, X. H. J. Cryst. Growth 2006, 290, 518-522.
4. Liu, C. P.; Wang, R. C.; Kuo, C. L.; Liang, Y. H.; Chen, W. Y. Recent Pat. Nanotechnol. 2007, 1, 11-20.
5. Vispute, R. D.; Talyansky, V.; Choopun, S.; Sharma, R. P.; Venkatesan, T.; He, M.; Tang, X.; Halpern, J. B.; Spencer, M. G.; Li, Y. X.; Salamanca-Riba, L. G.; Iliadis, A. A.; Jones, K. A. Appl. Phys. Lett. 1998, 73, 348-350.
6. Botello-Mendez, A. R.; Lopez-Urias, F.; Terrones, M.; Terrones, H. Nano Lett. 2008, 8, 1562-1565.
7. Wang, X.; Zhou, J.; Song, J.; Liu, J.; Xu, N.; Wang, Z. L. Nano Lett. 2006, 6, 2768-2772.
8. Leschkies, K. S.; Divakar, R.; Basu, J.; Enache-Pommer, E.; Boercker, J. E.; Carter, C. B.; Kortshagen, U. R.; Norris, D. J.; Aydil, E. S. Nano Lett. 2007, 7, 1793-1798.
9. Lu, J. G.; Ye, Z. Z.; Huang, J. Y.; Zhu, L. P.; Zhao, B. H. Appl. Phys. Lett. 2006, 88, 063110-1063110-1063113
10. Bae, C. H.; Park, S. M.; Park, S. C.; Ha, J. S. Nanotechnology 2006, 17, 381-384.
11. Nakamura, A.; Okamatsu, K.; Tawara, T.; Gotoh, H.; Temmyo, J.; Matsui, Y. Jpn. J. Appl. Phys. 2008, 47, 3007-3009.
12. Kim, S. W.; Fujita, S.; Fujita, S. Appl. Phys. Lett. 2002, 81, 5036-5038.
13. Gong, Q.; Offermans, P.; Nötzel, R.; Koenraad, P. M.; Wolter, J. H. Appl. Phys. Lett. 2004, 85, 5697-5699.
14. Chen, Y.; Zhu, Z.; Bagnall, D. M. J. Cryst. Growth 1998, 184-185, 269-273.
15. Chen, Y.; Zhu, Z.; Bagnall, D. M. J. Cryst. Growth 1998, 184-185, 269-273. (15) Labanda, J. G. C.; Barnett, S. A.; Hultman, L. J. Vac. Sci. Technol., B 1998, 16, 1885-1998.
16. Jiang, Y.; Huang, Q. A. Semicond. Sci. Technol. 2005, 20, 524-531.
17. Chapman, B. In Glow Discharge Processes; Wiley: New York, 1980.
18. Ashkenov, N.; Mbenkum, B. N.; Bundesmann, C.; Riede, V.; Lorenz, M.; Spemann, D.; Kaidashev, E. M.; Kasic, A.; Schubert, M.; Grundmann, M.; Wagner, G.; Neumann, H.; Darakchieva, V.; Arwin, H.; Monemar, B. J. Appl. Phys. 2003, 93, 126-133.
19. Fonoberov, V. A.; Balandin, A. A. Phys. Rev. B 2004, 70, 233205-233209.
20. Senger, R. T.; Bajaj, K. K. Phys. Rev. B 2003, 68, 045313-045321.
21. Rajalakshmi, M.; Arora, A. K.; Bendre, B. S.; Mahamuni, S. J. Appl. Phys. 2000, 87, 2445-2448.
22. Alim, K. A.; Fonoberov, V. A.; Shamsa, M.; Balandin, A. A. J. Appl. Phys. 2005, 97, 124313-1124313-1124315
23. Damen, T. C.; Porto, S. P. S.; Tell, B. Phys. Rev. 1966, 142, 570-574.
24. Sano, M.; Miyamoto, K.; Kato, H.; Yao, T. J. Appl. Phys. 2004, 95, 5527-5531.
25. Zhou, X.; Xie, Z. X.; Jiang, Z. Y.; Kuang, Q.; Zhang, S. H.; Xu, T.; Huang, R. B.; Zheng, L. S. Chem. Commun. 2005, 44, 5572-5574.
26. Exarhos, G. J.; Rose, A.; Windisch, C. F., Jr. Thin Solid Films 1997, 308-309, 56-62.
27. Brus, L. E. J. Chem. Phys. 1984, 80, 4403-4407.
28. Rickerby, D. S.; Matthews, A. In Advanced Surface Coatings: A Handbook of Engineering; Chapman and Hall: New York, 1991; Vol.94.