Single-walled carbon nanotubes prepared by large-scale induction thermal plasma process: synthesis, characterization, and purification

Journal of Physical Chemistry C

Volumn 113, Issue 11, 2009, Pages 4340-4348

  Kim, Keun Su ^a   Imris, Matej ^a   Shahverdi, Ali ^a   Alinejad, Yasaman ^a   Soucy, Gervais ^a  

^a UNIVERSITÉ DE SHERBROOKE   (Canada)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

AIR OXIDATIONS; ANALYTICAL TECHNIQUES; BRUNAUER EMMETT TELLERS; ELECTRICAL RESISTIVITIES; FEEDSTOCK MATERIALS; FOUR-PROBE METHODS; GRAPHITIC CARBONS; GRAPHITIC PARTICLES; INDUCTION THERMAL PLASMAS; LIQUID OXIDATIONS; MATERIAL ANALYSIS; MATERIAL PROPERTIES; OXIDE CATALYSTS; PLASMA ARCS; PRODUCTION RATES; PURIFICATION PROTOCOLS; REFLUXING; SPECIFIC SURFACES; THERMAL OXIDATIONS; THERMAL PLASMAS; TWO-STEP PROCESS;

AIR CLEANERS; AMORPHOUS CARBON; ELECTRIC RESISTANCE; FULLERENES; GRAPHITE; IMPURITIES; OXIDATION; PLASMAS; PURIFICATION; SINGLE-WALLED CARBON NANOTUBES (SWCN);

CARBON NANOTUBES;

EID: 65249108664     PISSN: 19327447     EISSN: 19327455     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/jp810096k     Document Type: Article

References (40)

1. Iijima, S.; Ichihashi, T. Nature 1993, 363, 603.
2. Bethune, D. S.; Kiang, C. H.; De Vries, M. S.; Gorman, G.; Savoy, R.; Vazquez, J.; Beyers, R. Nature 1993, 363, 605.
3. Yakobson, B. I.; Smalley, R. E. Am. Sci. 1997, 85, 324.
4. Wong, E. W.; Sheehan, P. E.; Lieber, C. M. Science 1997, 277, 1971.
5. Ouyang, M.; Huang, J.-L.; Lieber, C. M. Acc. Chem. Res. 2002, 35, 1018.
6. Ye, Y.; Ahn, C. C.; Witham, C.; Fultz, B. Appl. Phys. Lett. 1999, 74, 2307.
7. Terrones, M.; Hsu, W. K.; Kroto, H. W.; Walter, D. R. M. Top. Curr. Chem. 1999, 199, 189.
8. Baughman, R. H.; Zakhidov, A. A.; de Heer, W. A. Science 2002, 297, 787.
9. Sinha, N.; Yeow, J. T.-W. IEEE Trans. Nanobiosci. 2005, 4, 180.
10. Mahar, B.; Laslau, C.; Yip, R.; Sun, Y. IEEE Sens. J. 2007, 7, 266.
11. Kim, K. S.; Cota-Sanchez, G.; Kingston, K. C.; Imris, M.; Simard, B.; Soucy, G. J. Phys. D: Appl. Phys. 2007, 40, 2375.
12. Boulos, M. I. IEEE Trans. Plasma Sci. 1991, 19, 1078.
13. Fauchais, P.; Vardelle, A. IEEE Trans. Plasma Sci. 1997, 25, 1258.
14. Pfender, E. Plasma Chem. Plasma Process. 1999, 19, 1.
15. Bandow, S.; Rao, A. M.; Williams, K. A.; Thess, A.; Smalley, R. E.; Eklund, P. C. J. Phys. Chem. B 1997, 101, 8839.
16. Niyogi, S.; Hu, H.; Hamon, M. A.; Bhowmik, P.; Zhao, B.; Rozenzhak, S. M.; Chen, J.; Itkis, M. E.; Meier, M. S.; Haddon, R. C. J. Phys. Chem. B 2001, 123, 733.
17. Zimmerman, J. L.; Bradley, R. K.; Huffman, C. B.; Hauge, R. H.; Margrave, J. L. Chem. Mater. 2000, 12, 1361.
18. Hu, H.; Zhao, B.; Itkis, M E.; Haddon, R. C. J. Phys. Chem. B 2003, 107, 13838.
19. Park, T.-J.; Banerjee, S.; Hemraj-Benny, T.; Wong, S. S. J. Mater. Chem. 2006, 16, 141.
20. Rinzler, A. G.; Liu, J.; Dai, H.; Nikolaev, P.; Huffman, C. B.; Rodriguez-Macias, F. J.; Boul, P. J.; Lu, A. H.; Heymann, D.; Colbert, D. T.; Lee, R. S.; Fischer, J. E.; Rao, A. M.; Eklund, P. C.; Smalley, R. E. Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. 1998, 67, 29.
21. Hu, H.; Yu, A.; Kim, E.; Zhao, B.; Itkis, M. E.; Bekyarova, E.; Haddon, R. C. J. Phys. Chem. B 2005, 109, 11520.
22. Tohji, K.; Takahashi, H.; Shinoda, Y.; Shimizu, N.; Jeyadevan, B.; Matsuoka, I. J. Phys. Chem. B 1997, 101, 1974.
23. Shelimov, K. B.; Esenaliev, R. O.; Rinzler, A. G.; Huffman, C. B.; Smalley, R. Chem. Phys. Lett. 1998, 282, 429.
24. Shi, Z.; Lian, Y.; Liao, F.; Zhou, X.; Gu, Z.; Zhang, Y.; Iijima, S. Solid State Commun. 1999, 112, 35.
25. Smith, M. R.; Hedges, S. W.; LaCount, R.; Kern, D.; Shah, N.; Huffman, G. P.; Bockrath, B. Carbon 2003, 41, 1221.
26. Kingston, C. T.; Jakubek, Z. J.; Dénommée, S.; Simard, B. Carbon 2004, 42, 1657.
27. Chiang, I. W.; Brinson, B. E.; Huang, A. Y.; Willis, P. A.; Bronikowski, M. J.; Margrave, J. L.; Smalley, R. E.; Hauge, R. H. J. Phys. Chem. B 2001, 105, 8297.
28. Donnet, J. B.; Bansal, R. C.; Wang, M. J. Carbon Black; Marcel Dekker: New York, 1993.
29. Chiang, I. W.; Brinson, B. E.; Smalley, R. E.; Margrave, J. L.; Hauge, R. H. J. Phys. Chem. B 2001, 105, 1157.
30. Ren, Z. F.; Huang, Z. P.; Xu, J. W.; Wang, J. H.; Bush, P.; Siegal, M. P.; Provencio, P. N. Science 1998, 282, 1105.
31. Meyyappan, M.; Delzeit, L.; Cassell, A.; Hash, D. Plasma Sources Sci. Technol. 2003, 12, 205.
32. Bachilo, S. M.; Strano, M. S.; Kittrell, C.; Hauge, R. H.; Smalley, R. E.; Weisman, R. B. Science 2002, 298, 2361.
33. Kamegawa, K.; Nishikubo, K.; Yoshida, H. Carbon 1998, 36, 433.
34. Rao, A. M.; Richter, E.; Bandow, S.; Chase, B.; Eklund, P. C.; Williams, K. A.; Fang, S.; Subbaswamy, K. R.; Menon, M.; Thess, A.; Smalley, R. E.; Dresselhaus, G.; Dresselhaus, M. S. Science 1997, 275, 187.
35. Holden, J. M.; Ping, Z.; Bi, X. X.; Eklund, P. C.; Bandow, S.; Jishi, R. A.; Das, C. K.; Dresselhaus, G.; Dresselhaus, M. S. Chem. Phys. Lett. 1994, 220, 186.
36. Itkis, M. E.; Perea, D. E.; Jung, R.; Niyogi, S.; Haddon, R. C. J. Am. Chem. Soc. 2005, 127, 3439.
37. Yang, C.-M.; Kaneko, K.; Yudasaka, M.; Iijima, S. Nano Lett. 2002, 2, 385.
38. Peigney, A.; Laurent, C.; Flahaut, E.; Bacsa, R. R.; Rousset, A. Carbon 2001, 39, 507.
39. Eswaramoorthy, M.; Sen, R.; Rao, C. N. R. Chem. Phys. Lett. 1999, 304, 207.
40. Yu, A.; Bekyarova, E.; Itkis, M. E.; Fakhrutdinov, D.; Webster, R.; Haddon, R. C. J. Am. Chem. Soc. 2006, 128, 9902.