Femtosecond Laser-Nanostructured substrates for Surface-Enhanced raman scattering

Langmuir

Volumn 25, Issue 3, 2009, Pages 1790-1794

  Diebold, Eric D ^a,b   Mack, Nathan H ^a,b   Doom, Stephen K ^a,b   Mazur, Eric ^a,b  

^a HARVARD UNIVERSITY   (United States)

^b LOS ALAMOS NATIONAL LABORATORY   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ADSORBED MOLECULES; ENHANCEMENT FACTORS; FEMTO-SECOND LASERS; NANOSTRUCTURED SUBSTRATES; SINGLE MOLECULES; SPECTROSCOPIC CHARACTERIZATIONS; SURFACE-ENHANCED RAMAN SCATTERINGS; THERMAL DEPOSITIONS;

PULSED LASER APPLICATIONS; RAMAN SCATTERING; RAMAN SPECTROSCOPY; SILVER; ULTRASHORT PULSES;

SUBSTRATES;

EID: 61849171086     PISSN: 07437463     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/la803357q     Document Type: Article

References (31)

1. Jeanmaire, D. L.; van Duyne, R. P. J. Electroanal. Chem. 1977, 84, 1.
2. Albrecht, M. G.; Creighton, J. A. J. Am. Chem. Soc. 1977, 99, 5215.
3. Kneipp, K.; Wang, Y.; Kneipp, H.; Perelman, L. T.; Itzkan, I.; Dasari, R.; Feld, M. S. Phys. Rev. Lett. 1997, 78, 1667.
4. Nie, S. M.; Emery, S. R. Science 1997, 275, 1102.
5. Van Duyne, R. P.; Hulteen, J. C; Treichel, D. A. J. Chem. Phys. 1993, 99, 2101.
6. Freeman, R. G.; Grabar, K. C; Allison, K. J.; Bright, R. M.; Davis, J. A.; Guthrie, A. P.; Hommer, M. B.; Jackson, M. A.; Smith, P. C; Walter, D. G.; Natan, M. J. Science 1995, 267, 1629.
7. Kneipp, K.; Kneipp, H.; Itzkan, I.; Dasari, R. R.; Feld, M. S. Chem. Rev. 1999, 99, 2957.
8. Campion, A.; Kambhampati, P. Chem. Soc. Rev. 1998, 27, 241.
9. Chan, S.; Kwon, S.; Koo, T. W.; Lee, L. P.; Berlin, A. A. Adv. Mater. 2003, 15, 1595.
10. Sharma, S. N.; Sharma, R. K.; Bhagavannarayana, G.; Samanta, S. B.; Sood, K. N.; Lakshmikumar, S. T. Mater. Lett. 2006, 60, 1166.
11. Shen, M. Y.; Crouch, C. H.; Carey, J. E.; Mazur, E. Appl. Phys. Lett. 2004, 85, 5694.
12. Joo, T. H.; Kim, M. S.; Kim, K. J. Raman Spectrosc. 1987, 18, 57.
13. Tull, B. R.; James, E.; Carey, E. M.; McDonald, J.; Yalisove, S. M. Mater. Res. Soc. Bull. 2006, 31, 626.
14. Crouch, C. H.; Carey, J. E.; Warrender, J. M; Aziz, M. J.; Mazur, E.; Genin, F. Y. Appl. Phys. Lett. 2004, 84, 1850.
15. Sheehy, M. A.; Winston, L.; Carey, J. E.; Friend, C. A.; Mazur, E. Chem. Mater. 2005, 17, 3582.
16. Smith, D. L., Thin-Film Deposition: Principles and Practice; McGraw-Hill: New York, 1995.
17. Michaels, A. M.; Jiang, J.; Brus, L. J. Phys. Chem. B 2000, 104, 11965.
18. Munro, C. H.; Smith, W. E.; Garner, M.; Clarkson, J.; White, P. C. Langmuir 1995, 11, 3712.
19. Kerker, M.; Siiman, O.; Wang, D. S. J. Phys. Chem. 1984, 88, 3168.
20. Bergman, J. G.; Chemla, D. S.; Liao, P. F.; Glass, A. M.; Pinczuk, A.; Hart, R. M.; Olson, D. H. Opt. Lett. 1981, 6, 33.
21. McFarland, A. D.; Young, M. A.; Dieringer, J. A.; Van Duyne, R. P. J. Phys. Chem. B 2005, 109, 11279.
22. Ru, E. C. L.; Blackie, E.; Meyer, M.; Etchegoin, P. G. J. Phys. Chem. C 2007, 111, 13794.
23. Cai, W. B.; Ren, B.; Li, X. Q.; She, C. X.; Liu, F. M.; Cai, X. W.; Tian, Z. Q. Surf. Sci. 1998, 406, 9.
24. Kneipp, K.; Wang, Y.; Kneipp, H.; Itzkan, I.; Dasari, R. R.; Feld, M. S. Phys. Rev. Lett. 1996, 76, 2444.
25. Fang, Y.; Seong, N. H.; Dlott, D. D. Science 2008, 321, 388.
26. Venables, J. A.; Spiller, G. D. T.; Hanbucken, M. Rep. Prog. Phys. 1984, 47, 399.
27. Yoshida, S.; Yamaguchi, T.; Kinbara, A. J Opt. Soc. Am. 1971, 61, 62.
28. Felidj, N.; Aubard, J.; Levi, G.; Krenn, J. R.; Hohenau, A.; Schider, G.; Leitner, A.; Aussenegg, F. R. Appl. Phys. Lett. 2003, 82, 3095.
29. Kneipp, K.; Kneipp, H.; Itzkan, I.; Dasari, R. R.; Feld, M. S. J. Phys.: Condens. Matter 2002, 14, R597.
30. Kreibig, U.; Genzel, L. Surf. Sci. 1985, 156, 678.
31. Bain, C. D.; Troughton, E. B.; Tao, Y. T.; Evall, J.; Whitesides, G. M.; Nuzzo, R. G. J. Am. Chem. Soc. 1989, 111, 321.