Critical thickness of antiferromagnetic layer in exchange biasing bilayer system

Journal of the Physical Society of Japan

Volumn 77, Issue 4, 2008, Pages

  Mitsumata, Chiharu ^a   Sakuma, Akimasa ^b   Fukamichi, Kazuaki ^b   Tsunoda, Masakiyo ^b   Takahashi, Migaku ^b  

^a HITACHI CABLE LTD   (Japan)

^b TOHOKU UNIVERSITY   (Japan)

Author keywords

Antiferromagnetic; Critical thickness; Exchange bias; Magnetic domain wall; Spin structure

Indexed keywords

EID: 54349120794     PISSN: 00319015     EISSN: 13474073     Source Type: Journal    
DOI: 10.1143/JPSJ.77.044602     Document Type: Article

References (36)

1. C. Tsang, R. E. Fontana, T. Lin, D. E. Heim, V. S. Speriosu, B. A. Gurney, and M. L. Williams: IEEE Trans. Magn. 30 (1994) 3801.
2. H. S. Jung and W. D. Doyle: IEEE Trans. Magn. 37 (2001) 2294.
3. R. Jungblut, R. Coehoorn, M. T. Johnson, J. aan de Stegge, and A. Reinders: J. Appl. Phys. 75 (1994) 6659.
4. P. J. van der Zaag, A. R. Ball, L. F. Feiner, R. M. Wolf, and P. A. A. van der Heijden: J. Appl. Phys. 79 (1996) 5103.
5. H. Xi and R. M. White: Phys. Rev. B 61 (2000) 80.
6. J. Nogués and I. K. Schuller: J. Magn. Magn. Mater. 192 (1999) 203.
7. A. E. Berkowitz and K. Takano: J. Magn. Magn. Mater. 200 (1999) 552.
8. R. Coehoorn: in Handbook of Magnetic Materials, ed. K. H. J. Buschow (Elsevier, Amsterdam, 2003) Vol. 15, pp. 4-197.
9. A. P. Malozemoff: Phys. Rev. B 35 (1987) 3679.
10. D. Mauri, H. C. Siegmann, P. S. Bagus, and E. Kay: J. Appl. Phys. 62 (1987) 3047.
11. M. Tsunoda and M. Takahashi: J. Magn. Soc. Jpn. 28 (2004) 55.
12. M. D. Stiles and R. D. McMichael: Phys. Rev. B 59 (1999) 3722.
13. N. C. Koon: Phys. Rev. Lett. 78 (1997) 4865.
14. H. Fujiwara, C. Hou, M. Sun, H. S. Cho, and K. Nishioka: IEEE Trans. Magn. 35 (1999) 3082.
15. C. Mitsumata, A. Sakuma, and K. Fukamichi: Phys. Rev. B 68 (2003) 014437.
16. C. Mitsumata, A. Sakuma, and K. Fukamichi: IEEE Trans. Magn. 39 (2003) 2738.
17. R. Y. Umetsu, C. Mitsumata, A. Sakuma, and K. Fukamichi: Trans. Magn. Soc. Jpn. 3 (2003) 59.
18. T. C. Schulthess and W. H. Butler: J. Appl. Phys. 83 (1998) 7225.
19. A. Sakuma, R. Y. Umetsu, and K. Fukamichi: Phys. Rev. B 66 (2002) 014432.
20. A. Sakuma, K. Fukamichi, K. Sasao, and R. Y. Umetsu: Phys. Rev. B 67 (2003) 024420.
21. J. S. Kasper and J. S. Kouvel: J. Phys. Chem. Solids 11 (1959) 231.
22. E. Krén, E. Nagy, I. Nagy, L. Pál, and P. Szabó: J. Phys. Chem. Solids 29 (1968) 101.
23. E. Krén, G. Kádár, L. Pál, J. Sólyom, P. Szabó, and T. Tarnóczi: Phys. Rev. 171 (1968) 574.
24. A. Sakuma: J. Magn. Magn. Mater. 187 (1998) 105.
25. D. Mauri, E. Kay, D. Scholl, and J. K. Howard: J. Appl. Phys. 62 (1987) 2929.
26. M. Takahashi and M. Tsunoda: J. Phys. D 35 (2002) 2365.
27. C. Mitsumata, A. Sakuma, and K. Fukamichi: J. Phys. Soc. Jpn. 76 (2007) 024704.
28. J. Villain, R. Bidaux, J.-P. Carton, and R. Conte: J. Phys. (Paris) 41 (1980) 1263.
29. C. L. Henley: J. Appl. Phys. 61 (1987) 3962.
30. M. W. Long: J. Phys.: Condens. Matter 1 (1989) 2857.
31. M. Saito, Y. Kakihara, T. Watanabe, and N. Hasegawa: J. Magn. Soc. Jpn. 21 (1997) 505.
32. T. Sato, M. Tsunoda, and M. Takahashi: J. Magn. Magn. Mater. 240 (2002) 277.
33. Y. K. Kim, S.-R. Lee, S. A. Song, G.-S. Park, H. S. Yang, and K.-I. Min: J. Appl. Phys. 89 (2001) 6907.
34. K. Imakita, M. Tsunoda, and M. Takahashi: J. Appl. Phys. 97 (2005) 10K106.
35. K. Hoshino, R. Nakatani, H. Hoshiya, Y. Sugita, and S. Tsunashima: Jpn. J. Appl. Phys. 35 (1996) 607.
36. H. Li, P. P. Freitas, Z. Wang, J. B. Sousa, P. Gogol, and J. Chapman: J. Appl. Phys. 89 (2001) 6904.