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Volumn 93, Issue 1, 2008, Pages 159-163

Optimal design of plasmonic nanostructures for plasmon-interference assisted lithography

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LITHOGRAPHY; OPTICAL DESIGN; OPTIMIZATION;

EID: 51949117976     PISSN: 09462171     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1007/s00340-008-3194-0     Document Type: Article
Times cited : (7)

References (15)


* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.