-
1
-
-
33746864879
-
-
1530-6984 10.1021/nl060708x.
-
K. Keem, D. Y. Jeong, S. Kim, M. S. Lee, I. -S. Yeo, U. -I. Chung, and J. -T. Moon, Nano Lett. 1530-6984 10.1021/nl060708x, 6, 1454 (2006).
-
(2006)
Nano Lett.
, vol.6
, pp. 1454
-
-
Keem, K.1
Jeong, D.Y.2
Kim, S.3
Lee, M.S.4
Yeo, I.-S.5
Chung, U.-I.6
Moon, J.-T.7
-
2
-
-
33644898897
-
-
1530-6984 10.1021/nl052239
-
C. S. Lao, J. Liu, P. X. Gao, L. Y. Zhang, D. Davidovic, R. Tummala, and Z. L. Wang, Nano Lett. 1530-6984 10.1021/nl052239p, 6, 263 (2006).
-
(2006)
Nano Lett.
, vol.6
, pp. 263
-
-
Lao, C.S.1
Liu, J.2
Gao, P.X.3
Zhang, L.Y.4
Davidovic, D.5
Tummala, R.6
Wang, Z.L.7
-
3
-
-
34248140089
-
-
1530-6984 10.1021/nl070111x.
-
C. Soci, A. Zhang, B. Xiang, S. A. Dayeh, D. P. R. Aplin, J. Park, X. Y. Bao, Y. H. Lo, and D. Wang, Nano Lett. 1530-6984 10.1021/nl070111x, 7, 1003 (2007).
-
(2007)
Nano Lett.
, vol.7
, pp. 1003
-
-
Soci, C.1
Zhang, A.2
Xiang, B.3
Dayeh, S.A.4
Aplin, D.P.R.5
Park, J.6
Bao, X.Y.7
Lo, Y.H.8
Wang, D.9
-
4
-
-
17944364470
-
-
0003-6951 10.1063/1.1883715.
-
Z. Fan and J. G. Lu, Appl. Phys. Lett. 0003-6951 10.1063/1.1883715, 86, 123510 (2005).
-
(2005)
Appl. Phys. Lett.
, vol.86
, pp. 123510
-
-
Fan, Z.1
Lu, J.G.2
-
5
-
-
2542502582
-
-
0003-6951 10.1063/1.1738932.
-
Q. Wan, Q. H. Li, Y. J. Chen, T. H. Wang, X. L. He, J. P. Li, and C. L. Lin, Appl. Phys. Lett. 0003-6951 10.1063/1.1738932, 84, 3654 (2004).
-
(2004)
Appl. Phys. Lett.
, vol.84
, pp. 3654
-
-
Wan, Q.1
Li, Q.H.2
Chen, Y.J.3
Wang, T.H.4
He, X.L.5
Li, J.P.6
Lin, C.L.7
-
6
-
-
35048841574
-
-
C. S. Lao, M. C. Park, Q. Kuang, Y. L. Deng, A. K. Sood, D. L. Polla, and Z. L. Wang, J. Am. Chem. Soc., 129, 12096 (2007).
-
(2007)
J. Am. Chem. Soc.
, vol.129
, pp. 12096
-
-
Lao, C.S.1
Park, M.C.2
Kuang, Q.3
Deng, Y.L.4
Sood, A.K.5
Polla, D.L.6
Wang, Z.L.7
-
7
-
-
10844227362
-
-
0947-8396 10.1007/s00339-004-3045-8.
-
Y. W. Heo, B. S. Kang, L. C. Tien, D. P. Norton, F. Ren, J. R. L. A. Roche, and S. J. Pearton, Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. 0947-8396 10.1007/s00339-004-3045-8, 80, 497 (2005).
-
(2005)
Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process.
, vol.80
, pp. 497
-
-
Heo, Y.W.1
Kang, B.S.2
Tien, L.C.3
Norton, D.P.4
Ren, F.5
Roche, J.R.L.A.6
Pearton, S.J.7
-
8
-
-
2942746520
-
-
D. Wang, C. J. Otten, W. E. Buhro, and J. G. Lu, IEEE Trans. Nanotechnol., 3, 328 (2004).
-
(2004)
IEEE Trans. Nanotechnol.
, vol.3
, pp. 328
-
-
Wang, D.1
Otten, C.J.2
Buhro, W.E.3
Lu, J.G.4
-
9
-
-
29044443037
-
-
1071-1023 10.1116/1.2130355.
-
T. Brintlinger, M. S. Fuhrer, J. Melngailis, I. Utke, T. Bret, A. Perentes, P. Hoffmann, M. Abourida, and P. Doppelt, J. Vac. Sci. Technol. B 1071-1023 10.1116/1.2130355, 23, 3174 (2005).
-
(2005)
J. Vac. Sci. Technol. B
, vol.23
, pp. 3174
-
-
Brintlinger, T.1
Fuhrer, M.S.2
Melngailis, J.3
Utke, I.4
Bret, T.5
Perentes, A.6
Hoffmann, P.7
Abourida, M.8
Doppelt, P.9
-
10
-
-
33748908475
-
-
J. Kjelstrup-Hansen, S. Dohn, D. N. Madsen, K. Molhave, and P. Boggild, J. Nanosci. Nanotechnol., 6, 1995 (2006).
-
(2006)
J. Nanosci. Nanotechnol.
, vol.6
, pp. 1995
-
-
Kjelstrup-Hansen, J.1
Dohn, S.2
Madsen, D.N.3
Molhave, K.4
Boggild, P.5
-
11
-
-
27544433025
-
-
0304-3991 10.1016/j.ultramic.2005.06.038.
-
S. Dohn, J. Kjelstrup-Hansen, D. N. Madsen, K. Molhave, and P. Boggild, Ultramicroscopy 0304-3991 10.1016/j.ultramic.2005.06.038, 105, 209 (2005).
-
(2005)
Ultramicroscopy
, vol.105
, pp. 209
-
-
Dohn, S.1
Kjelstrup-Hansen, J.2
Madsen, D.N.3
Molhave, K.4
Boggild, P.5
-
12
-
-
0035831290
-
-
0036-8075 10.1126/science.1058120.
-
Z. W. Pan, Z. R. Dai, and Z. L. Wang, Science 0036-8075 10.1126/science.1058120, 291, 1947 (2001).
-
(2001)
Science
, vol.291
, pp. 1947
-
-
Pan, Z.W.1
Dai, Z.R.2
Wang, Z.L.3
-
14
-
-
5444271055
-
-
0003-6951 10.1063/1.1792373.
-
Y. W. Heo, L. C. Tien, D. P. Norton, B. S. Kang, F. Ren, B. P. Gila, and S. J. Pearton, Appl. Phys. Lett. 0003-6951 10.1063/1.1792373, 85, 2002 (2004).
-
(2004)
Appl. Phys. Lett.
, vol.85
, pp. 2002
-
-
Heo, Y.W.1
Tien, L.C.2
Norton, D.P.3
Kang, B.S.4
Ren, F.5
Gila, B.P.6
Pearton, S.J.7
|