-
1
-
-
0032620880
-
-
W. Zhu, C. Bower, O. Zhou, G. Kochanski, and S. Jin, Appl. Phys. Lett. 75, 873 (1999).
-
(1999)
Appl. Phys. Lett.
, vol.75
, pp. 873
-
-
Zhu, W.1
Bower, C.2
Zhou, O.3
Kochanski, G.4
Jin, S.5
-
3
-
-
79956029524
-
-
K. B. K. Teo, M. Chhowalla, G. A. J. Amaratunga, W. I. Milne, G. Pirio, P. Legagneux, F. Wyczisk, D. Pribat, and D. G. Hasko, Appl. Phys. Lett. 80, 2011 (2002).
-
(2002)
Appl. Phys. Lett.
, vol.80
, pp. 2011
-
-
Teo, K.B.K.1
Chhowalla, M.2
Amaratunga, G.A.J.3
Milne, W.I.4
Pirio, G.5
Legagneux, P.6
Wyczisk, F.7
Pribat, D.8
Hasko, D.G.9
-
4
-
-
33644879997
-
-
T. T. Tan, H. S. Sim, S. P. Lau, H. Y. Yang, M. Tanemura, and J. Tanaka, Appl. Phys. Lett. 88, 103105 (2006).
-
(2006)
Appl. Phys. Lett.
, vol.88
, pp. 103105
-
-
Tan, T.T.1
Sim, H.S.2
Lau, S.P.3
Yang, H.Y.4
Tanemura, M.5
Tanaka, J.6
-
5
-
-
17944365793
-
-
Y. B. Zhang, S. P. Lau, L. Huang, and M. Tanemura, Appl. Phys. Lett. 86, 123115 (2005).
-
(2005)
Appl. Phys. Lett.
, vol.86
, pp. 123115
-
-
Zhang, Y.B.1
Lau, S.P.2
Huang, L.3
Tanemura, M.4
-
6
-
-
34047248530
-
-
H. S. Sim, S. P. Lau, H. Y. Yang, L. K. Ang, M. Tanemura, and K. Yamaguchi, Appl. Phys. Lett. 90, 143103 (2007).
-
(2007)
Appl. Phys. Lett.
, vol.90
, pp. 143103
-
-
Sim, H.S.1
Lau, S.P.2
Yang, H.Y.3
Ang, L.K.4
Tanemura, M.5
Yamaguchi, K.6
-
7
-
-
42549097921
-
-
L. Hudanski, E. Minoux, L. Gangloff, K. B. K. Teo, J. P. Schnel, S. Xavier, J. Robertson, W. I. Milne, and P. Legagneux, Nanotechnology 19, 105201 (2008).
-
(2008)
Nanotechnology
, vol.19
, pp. 105201
-
-
Hudanski, L.1
Minoux, E.2
Gangloff, L.3
Teo, K.B.K.4
Schnel, J.P.5
Xavier, S.6
Robertson, J.7
Milne, W.I.8
Legagneux, P.9
-
8
-
-
0035855041
-
-
L. Nilsson, O. Groening, P. Groening, and L. Schlapbach, Appl. Phys. Lett. 79, 1036 (2001).
-
(2001)
Appl. Phys. Lett.
, vol.79
, pp. 1036
-
-
Nilsson, L.1
Groening, O.2
Groening, P.3
Schlapbach, L.4
-
9
-
-
0000297469
-
-
L. Nilsson, O. Groening, C. Emmenegger, O. Kuettel, E. Schaller, and L. Schlapbach, Appl. Phys. Lett. 76, 2071 (2000).
-
(2000)
Appl. Phys. Lett.
, vol.76
, pp. 2071
-
-
Nilsson, L.1
Groening, O.2
Emmenegger, C.3
Kuettel, O.4
Schaller, E.5
Schlapbach, L.6
-
10
-
-
33744832012
-
-
K. F. Hii, R. R. Vallance, S. B. Chikkamaranhalli, M. P. Menguc, and A. M. Rao, J. Vac. Sci. Technol. B 24, 1081 (2006).
-
(2006)
J. Vac. Sci. Technol. B
, vol.24
, pp. 1081
-
-
Hii, K.F.1
Vallance, R.R.2
Chikkamaranhalli, S.B.3
Menguc, M.P.4
Rao, A.M.5
-
12
-
-
24644467915
-
-
R. C. Smith, J. D. Carey, R. D. Forrest, and S. R. P. Silva, J. Vac. Sci. Technol. B 23, 632 (2005).
-
(2005)
J. Vac. Sci. Technol. B
, vol.23
, pp. 632
-
-
Smith, R.C.1
Carey, J.D.2
Forrest, R.D.3
Silva, S.R.P.4
-
14
-
-
2942581329
-
-
M. Tanemura, T. Okita, H. Yamauchi, and S. Tanemura, Appl. Phys. Lett. 85, 3831 (2004).
-
(2004)
Appl. Phys. Lett.
, vol.85
, pp. 3831
-
-
Tanemura, M.1
Okita, T.2
Yamauchi, H.3
Tanemura, S.4
-
15
-
-
0037021309
-
-
J.-M. Bonard, K. A. Dean, B. F. Coll, and C. Klinke, Phys. Rev. Lett. 89, 197602 (2002).
-
(2002)
Phys. Rev. Lett.
, vol.89
, pp. 197602
-
-
Bonard, J.-M.1
Dean, K.A.2
Coll, B.F.3
Klinke, C.4
-
16
-
-
28344444847
-
-
Z. Xu, X. D. Bai, E. G. Wang, and Z. L. Wang, Appl. Phys. Lett. 87, 163106 (2005).
-
(2005)
Appl. Phys. Lett.
, vol.87
, pp. 163106
-
-
Xu, Z.1
Bai, X.D.2
Wang, E.G.3
Wang, Z.L.4
-
17
-
-
33645500628
-
-
J. Y. Huang, K. Kempa, S. H. Jo, S. Chen, and Z. F. Ren, Appl. Phys. Lett. 87, 053110 (2005).
-
(2005)
Appl. Phys. Lett.
, vol.87
, pp. 053110
-
-
Huang, J.Y.1
Kempa, K.2
Jo, S.H.3
Chen, S.4
Ren, Z.F.5
|