High-aspect-ratio cylindrical nanopore arrays and their use for templating titania nanoposts

Advanced Materials

Volumn 20, Issue 4, 2008, Pages 738-742

  Park, Oun Ho ^a   Cheng, Joy Y ^a   Hart, Mark W ^a   Topuria, Teya ^a   Rice, Philip M ^a   Krupp, Leslie E ^a   Miller, Robert D ^a   Ito, Hiroshi ^a   Kim, Ho Cheol ^a  

^a IBM ALMADEN RESEARCH CENTER   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ABS RESINS; ETCHING; FILMS; NANOPORES; NANOSTRUCTURED MATERIALS; ORGANIC POLYMERS; OXYGEN; PLASMA ETCHING; POLYMERS; POLYSTYRENES; RESINS; SILICON; TITANIUM DIOXIDE; TITANIUM OXIDES;

ASSEMBLED LAYERS; CYLINDRICAL NANOPORES; DIBLOCK-COPOLYMER; DIRECT CONTACTS; ETCH MASKS; FUNCTIONAL MATERIALS; MICRODOMAINS; NANOPOROUS FILMS; NANOPOROUS TEMPLATES; OXYGEN PLASMA ETCHINGS; TEMPLATING; TITANIA; TRANSFER LAYERS;

ASPECT RATIO;

EID: 42149177643     PISSN: 09359648     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/adma.200701236     Document Type: Article

References (30)

1. K. Rajeshwar, N. R. de Tacconi, C. R. Chenthamarakshan, Chem. Mater. 2001, 13, 2765.
2. T. Thurn-Albrecht, J. Schotter, G. A. Kästle, N. Emley, T. Shibauchi, L. Krusin-Elbaum, K. Guarini, C. T. Black, M. T. Tuominen, T. P. Russell, Science 2000, 290, 2126.
3. B. O'Regan, D. T. Schwartz, S. M. Zakeeruddin, M. Grätzel, Adv. Mater. 2000, 12, 1263.
4. K. M. Coakley, M. D. McGehee, Chem. Mater. 2004, 16, 4533.
5. M. Steinhart, R. B. Wehrspohn, U. Gösele, J. H. Wendorff, Angew. Chem. Int. Ed. 2004, 43, 1334.
6. O. Jessensky, F. Müller, U. Gösele, Appl. Phys. Lett. 1998, 72, 1173.
7. A. P. Li, F. Müller, A. Birner, K. Nielsch, U. Gösele, J. Appl. Phys. 1998, 84, 6023.
8. K. Honda, T. N. Rao, D. A. Tryk, A. Fujishima, M. Watanabe, K. Yasui, H. Masuda, J. Electochem. Soc. 2000, 147, 659.
9. K. Honda, T. N. Rao, D. A. Tryk, A. Fujishima, M. Watanabe, K. Yasui, H. Masuda, J. Electochem. Soc. 2001, 148, 668.
10. F. Buyukserin, M. Kang, C. R. Martin, Small 2007, 3, 106.
11. R. A. Segalman, Mater. Sci. Eng. R 2005, 48, 191.
12. C. J. Hawker, T. P. Russell, MRS Bull 2005, 30, 952.
13. P. Mansky, Y. Liu, E. Huang, T. P. Russell, C. J. Hawker, Science 1997, 275, 458.
14. T. Thurn-Albrecht, R. Steiner, J. DeRouchey, C. M. Stafford, E. Huang, M. Bai, M. T. Tuominen, C. J. Hawker, T. P. Russell, Adv. Mater. 2000, 12, 787.
15. T. Xu, H.-C. Kim, J. DeRouchey, C. Seney, C. Levesque, P. Martin, C. Stafford, T. P. Russell, Polymer 2001, 42, 9091.
16. U. Jeong, D. Y. Ryu, D. H. Kho, J. K. Kim, J. T. Goldbach, D. H. Kim, T. P. Russell, Adv. Mater. 2004, 16, 533.
17. Z. Lin, D. H. Kim, X. Wu, L. Boosahda, D. Stone, L. LaRose, T. P. Russell, Adv. Mater. 2002, 14, 1373.
18. T. Thurn-Albrecht, J. DeRouchey, T. P. Russell, H. M. Jaeger, Macromolecules 2000, 33, 3250.
19. E. M. Freer, L. E. Krupp, W. D. Hinsberg, P. M. Rice, J. L. Hedrick, J. N. Cha, R. D. Miller, H.-C. Kim, Nano Lett. 2005, 5, 2014.
20. H. Jagannathan, H.-C. Kim, E. M. Freer, L. Sundstrom, T. Topuria, P. M. Rice, M. Deal, Y. Nishi, J. Vac. Sci. Technol. B 2006, 24, 2220.
21. H. Ito, Adv. Polym. Sci. 2005, 172, 37.
22. L. Sundström, L. Krupp, E. Delenia, C. Rettner, M. Sanchez, M. Hart, Y. Zhang, H.-C. Kim, Appl. Phys. Lett. 2006, 88, 243107.
23. P. D. Nellist, S. T. Pennycook, Ultramicroscopy 1999, 78, 111.
24. C. Goh, K. M. Coakley, M. D. McGehee, Nano Lett. 2005, 5, 1545.
25. O. K. Varghese, D. Gong, M. Paulose, K. G. Ong, E. C. Dickey, C. A. Grimes, Adv. Mater. 2003, 15, 624.
26. R. Sanz, A. Johansson, M. Skupinski, J. Jensen, G. Possner, M. Borman, M. Vazques, K. Hjort, Nano Lett. 2006, 6, 1065.
27. A. Shishido, I. B. Diviliansky, I. C. Khoo, T. S. Mayer, S. Nishimura, G. L. Egan, T. E. Mallouk, Appl. Phys. Lett. 2001, 79, 3332.
28. N. Tohge, G. Zhao, F. Chiba, Thin Solid Films 1999, 351, 85.
29. M. S. M. Saifullah, K. R. V. Subramanian, E. Tapley, D.-J. Kang, M. E. Welland, M. Butler, Nano Lett. 2003, 3, 1587.
30. O.-H. Park, J. Y. Cheng, H. S. Kim, P. Rice, T. Topuria, R. D. Miller, H.-C. Kim, Appl. Phys. Lett. 2007, 90, 233102.