Properties of highly (100) oriented Pb (Mg1/3,Nb 2/3)O3-PbTiO3 films on LaNiO3 bottom electrodes

Applied Physics Letters

Volumn 91, Issue 23, 2007, Pages

  Li, Y W ^a   Hu, Z G ^a   Yue, F Y ^a   Yang, G Y ^a   Shi, W Z ^a   Meng, X J ^b   Sun, J L ^b   Chu, J H ^a,b  

^a EAST CHINA NORMAL UNIVERSITY   (China)

^b SHANGHAI INSTITUTE OF TECHNICAL PHYSICS   (China)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ELECTRODES; FERROELECTRICITY; OXYGEN VACANCIES; PEROVSKITE; POLARIZATION; SILICON;

BOTTOM ELECTRODES; DIELECTRIC RESPONSE MODELS; POLARIZATION RELAXATION; SILICON SUBSTRATE;

THIN FILMS;

EID: 36948998772     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.2822421     Document Type: Article

References (26)

1. V. Bobnar, Z. Kutnjak, R. Blinc, and A. Levstik, Phys. Rev. Lett. 84, 5892 (2000).
2. T. Y. Koo, P. M. Gehring, G. Shirane, V. Kiryukhin, S.-G. Lee, and S.-W. Cheong, Phys. Rev. B 65, 144113 (2002).
3. A. Y. Liu, X. J. Meng, J. Q. Xue, J. L. Sun, J. Chen, and J. H. Chu, Appl. Phys. Lett. 87, 072903 (2005).
4. X. Y. Zhao, B. J. Fang, H. Cao, Y. P. Guo, and H. S. Luo, Mater. Sci. Eng., B 96, 254 (2002).
5. J.-H. Park, J. Park, J.-G. Park, B.-K. Kim, and Y. Kim, J. Eur. Ceram. Soc. 21, 1383 (2001).
6. M. Algueró, J. Ricote, R. Jiḿnez, P. Ramos, J. Carreaud, B. Dkhil, J. M. Kiat, J. Holc, and M. Kosec, Appl. Phys. Lett. 91, 112905 (2007).
7. Y. L. Lu, J. J. Zheng, M. C. Golomb, F. L. Wang, H. Jiang, and J. Zhao, Appl. Phys. Lett. 74, 3764 (1999).
8. W. S. Tsang, K. Y. Chan, C. L. Mark, and K. H. Wong, Appl. Phys. Lett. 83, 1599 (2003).
9. S. H. Seo, H. C. Kang, and D. Y. Noh, Appl. Phys. Lett. 84, 3133 (2004).
10. X. Wan, H. Xu, T. He, D. Lin, and H. Luo, J. Appl. Phys. 93, 4766 (2003).
11. J. Peng, H.-S. Luo, D. Lin, H.-Q. Xu, T.-H. He, and W.-Q. Jin, Appl. Phys. Lett. 85, 6221 (2004).
12. Z.-Y. Cheng, R. S. Katiyar, X. Yao, and A. Guo, Phys. Rev. B 55, 8165 (1997).
13. G. R. Bai, S. K. Streiffer, P. K. Baumann, O. Auciello, and K. Ghosh, Appl. Phys. Lett. 76, 3106 (2000).
14. N. J. Donnelly, G. Gatalan, C. Morros, R. M. Bowman, and J. M. Gregg, J. Appl. Phys. 93, 9924 (2003).
15. A. Laha, S. Bhattacharyya, and S. B. Krupanidhi, Mater. Sci. Eng., B 106, 111 (2004).
16. S. Jaydeep, S. Yadav, B. P. Malla, A. R. Kulkarni, and N. Venkatramani, Appl. Phys. Lett. 81, 3840 (2002).
17. K. H. Yoon, B. D. Lee, J. Park, and J. H. Park, J. Appl. Phys. 90, 1968 (2001).
18. A. Laha, S. Saha, and S. B. Krupanidhi, Thin Solid Films 424, 274 (2003).
19. X.-J. Meng, J.-L. Sun, J. Yu, H.-J. Ye, S.-L. Guo, and J.-h. Chu, Appl. Surf. Sci. 171, 68 (2001).
20. G. S. Wang, J. G. Cheng, X. J. Meng, J. Yu, Z. Q. Lai, J. Tang, S. L. Guo, and J. H. Chu, Appl. Phys. Lett. 78, 4172 (2001).
21. K. S. Cole and R. H. Cole, J. Chem. Phys. 9, 341 (1941).
22. P. Lunkenheimer, V. Bobnar, A. V. Pronin, A. I. Ritus, A. A. Volkov, and A. Loidl, Phys. Rev. B 66, 052105 (2002).
23. A. Tselev, C. M. Brooks, S. M. Anlage, H. Zheng, L. Salamanca-Riba, R. Ramesh, and M. A. Subramania, Phys. Rev. B 70, 144101 (2004).
24. A. K. Jonscher, J. Phys. D 32, R57 (1999).
25. A. K. Jonscher, Nature (London) 267, 673 (1977).
26. D. Kobor, B. Guiffard, L. Lebrun, A. Hajjaji, and D. Guyomar, J. Phys. D 40, 2920 (2007).