-
2
-
-
0027594811
-
-
S. Okazaki, M. Kogoma, M. Uehara, Y. Kimura, J. Phys. D: Appl. Phys. 1993, 26, 889.
-
(1993)
J. Phys. D: Appl. Phys
, vol.26
, pp. 889
-
-
Okazaki, S.1
Kogoma, M.2
Uehara, M.3
Kimura, Y.4
-
3
-
-
0034247479
-
-
N. Gherardi, G. Gouda, E. Gat, A. Ricard, F. Massines, Plasma Sources Sci. Technol. 2000, 9, 340.
-
(2000)
Plasma Sources Sci. Technol
, vol.9
, pp. 340
-
-
Gherardi, N.1
Gouda, G.2
Gat, E.3
Ricard, A.4
Massines, F.5
-
4
-
-
4644316900
-
-
F. Massines, P. Ségur, N. Gherardi, C. Khamphan, A. Ricard, Surf. Coat. Technol. 2003, 174, 8.
-
(2003)
Surf. Coat. Technol
, vol.174
, pp. 8
-
-
Massines, F.1
Ségur, P.2
Gherardi, N.3
Khamphan, C.4
Ricard, A.5
-
5
-
-
29844439371
-
-
Y. Sawada, S. Ogawa, M. Kogoma, J. Phys. D: Appl. Phys. 1995, 28, 1661.
-
(1995)
J. Phys. D: Appl. Phys
, vol.28
, pp. 1661
-
-
Sawada, Y.1
Ogawa, S.2
Kogoma, M.3
-
6
-
-
18244424156
-
-
I. P. Vinogradov, A. Dinkelmann, A. Lunk, Surf. Coat. Technol. 2003, 174, 509.
-
(2003)
Surf. Coat. Technol
, vol.174
, pp. 509
-
-
Vinogradov, I.P.1
Dinkelmann, A.2
Lunk, A.3
-
7
-
-
0034435659
-
-
K. Schmidt-Szalowski, Z. Rzanek-Boroch, J. Sentek, Z. Rymuza, Z. Kusznierewicz, M. Misiak, Plasmas Polym. 2000, 5, 173.
-
(2000)
Plasmas Polym
, vol.5
, pp. 173
-
-
Schmidt-Szalowski, K.1
Rzanek-Boroch, Z.2
Sentek, J.3
Rymuza, Z.4
Kusznierewicz, Z.5
Misiak, M.6
-
8
-
-
1342331897
-
-
S. Martin, F. Massines, N. Gherardi, C. Jimenez, Surf. Coat. Technol. 2004, 177, 693.
-
(2004)
Surf. Coat. Technol
, vol.177
, pp. 693
-
-
Martin, S.1
Massines, F.2
Gherardi, N.3
Jimenez, C.4
-
9
-
-
28844433289
-
-
F. Massines, N. Gherardi, A. Fornelli, S. Martin, Surf. Coat. Technol. 2005, 200, 1855.
-
(2005)
Surf. Coat. Technol
, vol.200
, pp. 1855
-
-
Massines, F.1
Gherardi, N.2
Fornelli, A.3
Martin, S.4
-
10
-
-
23044487679
-
-
X. Zhu, F. Arefi-Khonsari, C. Petit-Etienne, M. Tatoulian, Plasma Process. Polym. 2005, 2, 407.
-
(2005)
Plasma Process. Polym
, vol.2
, pp. 407
-
-
Zhu, X.1
Arefi-Khonsari, F.2
Petit-Etienne, C.3
Tatoulian, M.4
-
11
-
-
3543095020
-
-
F. Fracassi, R. d'Agostino, F. Fanelli, A. Fornelli, F. Palumbo, Plasmas Polym. 2003, 8, 259.
-
(2003)
Plasmas Polym
, vol.8
, pp. 259
-
-
Fracassi, F.1
d'Agostino, R.2
Fanelli, F.3
Fornelli, A.4
Palumbo, F.5
-
12
-
-
33645236376
-
-
Y. H. Choi, J. H. Kim, Y. S. Hwang, Thin Solid Films 2006, 506, 389.
-
(2006)
Thin Solid Films
, vol.506
, pp. 389
-
-
Choi, Y.H.1
Kim, J.H.2
Hwang, Y.S.3
-
13
-
-
0035782988
-
-
A. Sonnenfeld, T. M. Tun, L. Zafickova, K. V. Kozlov, H. E. Wagner, J. F. Behnke, R. Hippler, Plasmas Polym. 2001, 4, 237.
-
(2001)
Plasmas Polym
, vol.4
, pp. 237
-
-
Sonnenfeld, A.1
Tun, T.M.2
Zafickova, L.3
Kozlov, K.V.4
Wagner, H.E.5
Behnke, J.F.6
Hippler, R.7
-
14
-
-
36348943606
-
-
D. Magni, C. Deschenaux, C. Hollenstein, A. Creatore, P. Fayet, J. Phys. D: Appl Phys. 2001, 34, 97.
-
(2001)
J. Phys. D: Appl Phys
, vol.34
, pp. 97
-
-
Magni, D.1
Deschenaux, C.2
Hollenstein, C.3
Creatore, A.4
Fayet, P.5
-
15
-
-
23044512125
-
-
P. Raynaud, B. Despax, Y. Segui, H. Caquineau, Plasma Proc. Polym. 2005, 2, 45.
-
(2005)
Plasma Proc. Polym
, vol.2
, pp. 45
-
-
Raynaud, P.1
Despax, B.2
Segui, Y.3
Caquineau, H.4
-
16
-
-
29944445827
-
-
S. E. Alexandrov, N. McSporran, M. Hitchman, Chem. Vap. Deposition 2005, 11, 481.
-
(2005)
Chem. Vap. Deposition
, vol.11
, pp. 481
-
-
Alexandrov, S.E.1
McSporran, N.2
Hitchman, M.3
-
17
-
-
0037472671
-
-
R. Foest, F. Adler, F. Sigeneger, M. Schmidt, Surf. Coat. Technol. 2003, 163, 323.
-
(2003)
Surf. Coat. Technol
, vol.163
, pp. 323
-
-
Foest, R.1
Adler, F.2
Sigeneger, F.3
Schmidt, M.4
-
18
-
-
0001096840
-
-
R. Basner, R. Foest, M. Schmidt, K. Becker, H. Deutsch, Int. J. Mass Spectrom. 1998, 176, 245.
-
(1998)
Int. J. Mass Spectrom
, vol.176
, pp. 245
-
-
Basner, R.1
Foest, R.2
Schmidt, M.3
Becker, K.4
Deutsch, H.5
|