Charge injection and polarization fatigue in ferroelectric thin films

Journal of Applied Physics

Volumn 102, Issue 7, 2007, Pages

  Jiang, A Q ^a   Lin, Y Y ^a   Tang, T A ^a  

^a FUDAN UNIVERSITY   (China)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

CHARGE INJECTION; COERCIVE FORCE; DOMAIN WALLS; FATIGUE OF MATERIALS; FERROELECTRIC DEVICES; HYSTERESIS LOOPS; PERMITTIVITY; REMANENCE;

COERCIVE VOLTAGE; FATIGUE CYCLING; TWO IN-SERIES;

THIN FILMS;

EID: 35348819360     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.2786886     Document Type: Article

References (33)

1. E. L. Colla, D. V. Taylor, A. K. Tagantsev, and N. Setter, Appl. Phys. Lett. 72, 2478 (1998).
2. G. Le Rhun, G. Poullain, and R. Bouregba, J. Appl. Phys. 96, 3876 (2004).
3. G. Zhu, Z. Zeng, L. Zhang, and X. Yan, Appl. Phys. Lett. 89, 102905 (2006).
4. D. V. Taylor, D. Damjanovic, E. Colla, and N. Setter, Ferroelectrics 225, 91 (1999).
5. A. Q. Jiang, Y. Y. Lin, and T. A. Tang, Appl. Phys. Lett. 89, 32906 (2006).
6. M. Grossman, D. Bolten, O. Lohse, U. Boettger, R. Waser, and S. Tiedke, Appl. Phys. Lett. 77, 2405 (1994).
7. H. N. Al-Shareef, D. Dimos, T. J. Boyle, W. L. Warren, and B. A. Tuttle, Appl. Phys. Lett. 68, 690 (1996).
8. A. Q. Jiang, J. F. Scott, and M. Dawber, J. Appl. Phys. 92, 6756 (2002).
9. G. L. Yuan, J. M. Liu, S. T. Zhang, D. Wu, Y. P. Wang, Z. G. Liu, H. L. W. Chan, and C. L. Choy, Appl. Phys. Lett. 84, 954 (2004).
10. M. Dawber and J. F. Scott, Appl. Phys. Lett. 0003-6951 10.1063/1.125938 76, 1060 (2000); M. Dawber and J. F. Scott, Appl. Phys. Lett. 76, 3655 (2000).
11. M. Dawber and J. F. Scott, Appl. Phys. Lett. 0003-6951 10.1063/1.125938 76, 1060 (2000); M. Dawber and J. F. Scott, Appl. Phys. Lett. 76, 3655 (2000).
12. W. L. Warren, D. Dimos, B. A. Tuttle, G. E. Pike, R. W. Schwartz, P. J. Clew, and D. C. McIntyre, J. Appl. Phys. 77, 6695 (1995).
13. A. K. Tagantsev, I. Stolichnov, E. L. Colla, and N. Setter, J. Appl. Phys. 90, 1387 (2001).
14. A. M. Bratkovsky and A. P. Levanyuk, Phys. Rev. Lett. 84, 3177 (2000).
15. P. K. Larsen, G. J. Dormans, D. J. Taylor, and P. J. Van Veldhoven, J. Appl. Phys. 76, 2405 (1994).
16. X. J. Lou, M. Zhang, S. A. T. Redfern, and J. F. Scott, Phys. Rev. Lett. 97, 177601 (2006).
17. A. Q. Jiang, C. Wang, B. L. Chen, and Z. H. Chen, Appl. Phys. Lett. 86, 202904 (2005).
18. A. Q. Jiang, D. P. Chu, P. Migliorato, T. Kijima, E. Natori, and T. Shimoda, Appl. Phys. Lett. 87, 12905 (2005).
19. D. J. Johnson, D. T. Amm, E. Griswold, K. Sreenivas, G. Yi, and M. Sayer, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 200, 289 (1990).
20. Y. Park, J. K. Lee, I. Chung, and J.-Y. Lee, J. Appl. Phys. 89, 2327 (2001).
21. A. Jiang, M. Dawber, J. F. Scott, C. Wang, P. Migliorato, and M. Gregg, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 42, 6973 (2003).
22. A. Q. Jiang, Y. Y. Lin, and T. A. Tang, J. Appl. Phys. 101, 104105 (2007).
23. E. L. Colla, I. Stolichnov, P. E. Bradely, and N. Setter, Appl. Phys. Lett. 82, 1604 (2003).
24. M. Molotskii, A. Agronin, P. Urenski, M. Shvebelman, G. Rosenman, and Y. Rosenwaks, Phys. Rev. Lett. 90, 107601 (2003).
25. S. Hong, B. Ecabart, E. L. Colla, and N. Setter, Appl. Phys. Lett. 84, 2382 (2004).
26. S. Hong and N. Setter, Appl. Phys. Lett. 81, 3437 (2002).
27. A. Kuroda, S. Kurimura, and Y. Uesu, Appl. Phys. Lett. 69, 1565 (1996).
28. M. Grossmann, O. Lohse, D. Bolten, U. Boettger, and R. Waser, J. Appl. Phys. 92, 2688 (2002).
29. C.-L. Jia, V. Nagarajan, J.-Q. He, L. Houben, T. Zhao, R. Ramesh, K. Urban, and R. Waser, Nat. Mater. 6, 64 (2007).
30. A. Q. Jiang, Y. Y. Lin, T. A. Tang, and Q. Zhang, Appl. Phys. Lett. 90, 142901 (2007).
31. J. C. Shin, C. S. Hwang, H. J. Kim, and S. O. Park, Appl. Phys. Lett. 75, 3411 (1999).
32. M. Brazier, S. Mansour, and M. McElfresh, Appl. Phys. Lett. 74, 4032 (1999).
33. A. M. Bratkovsky and A. P. Levanyuk, Phys. Rev. Lett. 86, 3642 (2001).