Improved dielectric properties of Al2 O3 -doped Pb0.6 Ba0.4 Zr O3 thin films for tunable microwave applications

Applied Physics Letters

Volumn 91, Issue 13, 2007, Pages

  Wu, Lin Jung ^a   Wu, Jenn Ming ^a  

^a NATIONAL TSING HUA UNIVERSITY   (Taiwan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ALUMINUM; CAPACITANCE MEASUREMENT; DIELECTRIC PROPERTIES; MICROWAVE DEVICES; SEMICONDUCTOR DOPING;

DISSIPATION FACTOR; FIGURE OF MERIT (FOM); LOSS MECHANISM; TUNABLE MICROWAVE APPLICATIONS;

THIN FILMS;

EID: 34848812842     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.2785130     Document Type: Article

References (20)

1. O. G. Vendik, E. K. Hollmann, A. B. Kozyrev, and A. M. Prudan, J. Supercond. 12, 325 (1999).
2. M. J. Lancaster, J. Powell, and A. Porch, Supercond. Sci. Technol. 11, 1323 (1998).
3. M. W. Cole, P. C. Joshi, M. H. Ervin, M. C. Wood, and R. L. Pfeffer, Thin Solid Films 374, 34 (2000).
4. M. H. Wu and J. M. Wu, Appl. Phys. Lett. 86, 022909 (2005).
5. L. J. Wu and J. M. Wu, Appl. Phys. Lett. 90, 072901 (2007).
6. K. B. Chong, L. B. Kong, L. F. Chen, L. Yan, C. Y. Tan, T. Yang, C. K. Ong, and T. Osipowicz, J. Appl. Phys. 95, 1416 (2004).
7. S. Gevorgian, Int. J. RF Microwave Comput.-Aided Eng. 8, 433 (1998).
8. K. M. Johnson, J. Appl. Phys. 33, 2826 (1962).
9. J. S. Kim, B. H. Park, T. J. Choi, S. H. Shin, J. C. Lee, M. J. Lee, S. A. Seo, and I. K. Yoo, Integr. Ferroelectr. 66, 205 (2004).
10. J. Sigman, P. G. Clem, and C. D. Nordquist, Appl. Phys. Lett. 89, 132909 (2006).
11. S. Gevorgian and P. K. Petrov, Appl. Phys. Lett. 79, 1861 (2001).
12. X. Liang, Z. Meng, and W. Wu, J. Am. Ceram. Soc. 87, 2218 (2004).
13. S. Garcia, R. Font, J. Portelles, R. J. Quinones, J. Heiras, and J. M. Siqueiros, J. Electroceram. 6, 101 (2001).
14. Z. G. Ban, S. P. Alpay, and J. V. Mantese, Phys. Rev. B 67, 184104 (2003).
15. V. Nagarajan, C. L. Jia, H. Kohlstedt, R. Waser, I. B. Misirlioglu, S. P. Alpay, and R. Ramesh, Appl. Phys. Lett. 86, 192910 (2005).
16. S. P. Alpay, I. B. Misirlioglu, V. Nagarajan, and R. Ramesh, Appl. Phys. Lett. 85, 2044 (2004).
17. A. K. Tagantsev, V. O. Sherman, K. F. Astafiev, J. Venkatesh, and N. Setter, J. Electroceram. 11, 5 (2003).
18. K. Khamchane, A. Vorobiev, T. Claeson, and S. Gevorgian, J. Appl. Phys. 99, 034103 (2006).
19. K. F. Astafiev, V. O. Sherman, A. K. Tagantsev, N. Setter, T. Kaydanova, and D. S. Ginley, Appl. Phys. Lett. 84, 2385 (2004).
20. S. Zhong, S. P. Alpay, M. W. Cole, E. Ngo, S. Hirsch, and J. D. Demaree, Appl. Phys. Lett. 90, 092901 (2007).