Characterization of pattern transfer in the fabrication of magnetic nanostructure arrays by block copolymer lithography

Applied Physics Letters

Volumn 90, Issue 23, 2007, Pages

  Kubo, T ^a,b   Parker, J S ^a   Hillmyer, M A ^a   Leighton, C ^a  

^a University of Minnesota   (United States)

^b FUJI ELECTRIC CO   (Japan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

BLOCK COPOLYMERS; DEGRADATION; LITHOGRAPHY; POLYSTYRENES; REACTIVE ION ETCHING; SOLUTIONS;

PATTERN TRANSFER; VARIABLE TEMPERATURE MAGNETOMETRY;

NANOSTRUCTURED MATERIALS;

EID: 34250742468     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.2743900     Document Type: Article

References (25)

1. R. F. Service, Science 314, 1868 (2006).
2. K. Naito, H. Hieda, M. Sakurai, Y. Kamata, and K. Asakawa, IEEE Trans. Magn. 38, 1949 (2002).
3. C. J. Hawker and T. P. Russell, MRS Bull. 30, 953 (2005).
4. C. Park, J. Yoon, and E. L. Thomas, Polymer 44, 6725 (2003).
5. K. Liu, S. M. Baker, M. Tuominen, T. P. Russell, and I. K. Schuller, Phys. Rev. B 63, 060403 (R) (2001).
6. M. I. Montero, K. Liu, O. M. Stoll, A. Hoffmann, I. K. Schuller, J. J. Åkerman, J. I. Martin, J. L. Vicent, S. M. Baker, T. P. Russell, C. Leighton, and J. Nogues, J. Phys. D 35, 2398 (2002).
7. J. Y. Cheng, W. Jung, and C. A. Ross, Phys. Rev. B 70, 064417 (2004).
8. K. Shin, K. A. Leach, J. T. Goldbach, D. H. Kim, J. Y. Jho, M. Tuominen, C. J. Hawker, and T. P. Russell, Nano Lett. 2, 933 (2002).
9. R. Olayo-Valles, M. S. Lund, C. Leighton, and M. A. Hillmyer, J. Mater. Chem. 14, 2729 (2004).
10. C. T. Black, K. W. Guarini, K. R. Milkove, S. M. Baker, T. P. Russell, and M. T. Tuominen, Appl. Phys. Lett. 0003-6951 10.1063/1.1383805 79, 409 (2001); K. W. Guarini, C. T. Black, Y. Zhang, H. Kim, E. M. Sikorski, and I. V. Babich, J. Vac. Sci. Technol. B 20, 2788 (2002).
11. C. T. Black, K. W. Guarini, K. R. Milkove, S. M. Baker, T. P. Russell, and M. T. Tuominen, Appl. Phys. Lett. 0003-6951 10.1063/1.1383805 79, 409 (2001); K. W. Guarini, C. T. Black, Y. Zhang, H. Kim, E. M. Sikorski, and I. V. Babich, J. Vac. Sci. Technol. B 20, 2788 (2002).
12. K. Asakawa and T. Hiraoka, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 41, 6112 (2002).
13. M.-V. Meli, A. Badia, P. Grutter, and R. B. Lennox, Nano Lett. 2, 131 (2002).
14. R. G. H. Lammertink, M. A. Hempenius, J. E. van den Enk, V. Z.-H. Chan, E. L. Thomas, and G. J. Vansco, Adv. Mater. (Weinheim, Ger.) 12, 98 (2000).
15. S. H. Kim, M. J. Misner, T. Xu, M. Kimura, and T. P. Russell, Adv. Mater. (Weinheim, Ger.) 16, 226 (2004).
16. T. L. Morkved, M. Lu, A. M. Urbas, E. E. Ehrichs, H. M. Jaeger, P. Mansky, and T. P. Russell, Science 273, 931 (1996).
17. M. R. Hammond, S. W. Sides, G. H. Fredrickson, E. J. Kramer, J. Ruokolainen, and S. F. Hahn, Macromolecules 36, 8712 (2003).
18. A. Niemz, K. Bandyhopadhyay, E. Tan, K. Cha, and S. M. Baker, Langmuir 22, 11092 (2006).
19. S. Guo, J. Rzayev, T. S. Bailey, A. S. Zalusky, R. Olayo-Valles, and M. A. Hillmyer, Chem. Mater. 18, 1719 (2006).
20. T. S. Bailey, J. Rzayev, and M. A. Hillmyer, Macromolecules 39, 8772 (2006).
21. R. Olayo-Valles, S. Guo, M. S. Lund, C. Leighton, and M. A. Hillmyer, Macromolecules 38, 10101 (2005).
22. C. T. Yu, H. Jiang, L. Shen, P. J. Flanders, and G. J. Mankey, J. Appl. Phys. 87, 6322 (2000).
23. A. Y. Toporov, R. M. Langford, and A. K. Petford-Long, Appl. Phys. Lett. 77, 3063 (2000).
24. M. J. Pechan, C. Yu, R. L. Compton, J. P. Park, and P. A. Crowell, J. Appl. Phys. 97, 10J903 (2005).
25. K. Liu and C. L. Chien, IEEE Trans. Magn. 34, 1021 (1998).