Control of the microdomain orientation in block copolymer thin films with homopolymers for lithographic application

Langmuir

Volumn 23, Issue 11, 2007, Pages 6404-6410

  Kitano, Hirofumi ^a   Akasaka, Satoshi ^a   Inoue, Tomohiro ^a   Chen, Feng ^a   Takenaka, Mikihito ^a   Hasegawa, Hirokazu ^a   Yoshida, Hiroshi ^b   Nagano, Hideki ^c  

^a KYOTO UNIVERSITY   (Japan)

^b HITACHI LTD   (Japan)

^c HITACHI MAXELL LTD   (Japan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

BLOCK COPOLYMER LITHOGRAPHY; CYLINDRICAL MICRODOMAINS; MAGNETIC MEDIA; NANOPATTERNS;

BLOCK COPOLYMERS; HOMOPOLYMERIZATION; LITHOGRAPHY; MAGNETIC FIELD EFFECTS; MOLECULAR ORIENTATION; SELF ASSEMBLY;

THIN FILMS;

EID: 34249868207     PISSN: 07437463     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/la0637014     Document Type: Article

References (30)

1. Hashimoto, T. In Thermoplastic Elastomers, A Comprehensive Review, Legge, N. R., Holden, G., Schroeder, H. E., Eds.; Hanser: Munich, Germany, 1996.
2. Hasegawa, H.; Hashimoto, T. In Comprehensive Polymer Science, Second Supplement; Aggarwal, S. L., Russo, S., Eds.; Pergamon: New York, 1996.
3. Hamley, I. W. The Physics of Block Copolymers; Oxford University Press: Oxford, U.K., 1998.
4. Segalman, R. A. Mater. Sci. Eng. 2005, R48, 191.
5. Hawker, C. J.; Russell, T. P. MRS Bull. 2005, 30, 952.
6. Park, M.; Harrison, C. K.; Chaikin, P. M.; Register, R. A.; Adamson, D. H. Science 1997, 276, 1401.
7. Naito, K.; Hieda, H.; Sakurai, M.; Kamata, Y.; Asakawa, K. IEEE Trans. Magn. 2002, 38, 1949.
8. Black, C. T.; Guarini, K. W.; Milkove, K. R.; Baker, S. M.; Russell, T. P.; Tuominen, M. T. Appl. Phys. Lett. 2001, 79, 409.
9. Lazzari, M.; López-Quintela, M. A. Adv. Mater. 2003, 15, 1583.
10. Chen, J. Y.; Ross, C. A.; Thomas, E. L.; Smith, H. I.; Vansco, G. J. Appl. Phys. Lett. 2002, 81, 3657.
11. Knoll, A.; Horvat, A.; Lyakhova, K. S.; Krausch, G.; Sevink, G. J. A.; Zvelindovsky, A. V.; Magerle, R. Phys. Rev. Lett. 2004, 89, 035501.
12. Angelescu, D. E.; Waller, J. H.; Adamson, D. H.; Deshpande, P.; Chou, S. Y.; Register, R. A.; Chaikin, P. M. Adv. Mater. 2004, 16, 1736.
13. Thurn-Albrecht, T.; Schotter, J.; Kastle, G. A.; Emley, N.; Shibauchi, T.; Krusin-Elbaura, L.; Guarini, K.; Black, C. T.; Tuorainen, M. T.; Russell, T. P. Science 2000, 290, 2126.
14. Xu, T.; Zvelindovsky, A. V.; Sevink, G. J. A.; Lyakhova, K. S.; Jinnai, H.; Russell, T. P. Macromolecules 2005, 38, 10788.
15. Xu, T.; Stevens, J.; Villa, J. A.; Goldbach, J. T.; Guarini, K. W.; Black, C. T.; Hawker, C. J.; Russell, T. R. Adv. Funct. Mater. 2003, 13, 698.
16. Yang, X.; Xiao, S.; Liu, C.; Pelhos, K.; Minor, K. J. Vac. Sci. Technol. 2004, B22, 3331.
17. Jeong, U.; Ryu, D. Y.; Kho, D. H.; Kim, J. K.; Goldbach, J. T.; Kim, D. H.; Russell, T. P. Adv. Mater. 2004, 16, 533.
18. Kim, S. H.; Misner, M. J.; Xu, T.; Kimura, M.; Russell, T. P. Adv. Mater. 2004, 16, 226.
19. De Rosa, C.; Park, C.; Thomas, E. L.; Lotz, B. Nature 2000, 405, 433.
20. Morkved, T. L.; Lu, M.; Urbas, A. M.; Ehrichs, E. E.; Jaeger, H. M.; Mansky, P.; Russell, T. P. Science 1996, 273, 931.
21. Peng, J.; Gao, X.; Wei, Y.; Wang, H.; Li, B.; Han, Y. J. Chem. Phys. 2005, 122, 114706.
22. Segalman, R. A.; Hexemer, A.; Kramer, E. J. Phys. Rev. Lett. 2003, 91, 196101.
23. Hexemer, A.; Stein, G. E.; Kramer, E. J.; Magonov, S. Macromolecules 2005, 38, 7083.
24. Frank, J. Electron Tomography; Plenum: New York, 1992.
25. Russell, T. P.; Mayes, A. M.; Kunz, M. Z. In Ordering in Macromolecular Systems; Teramoto, A., Kobayashi, M., Norisue, T., Eds.; Springer-Verlag: Berlin, 1994.
26. Mykhaylyk, T. A.; Mykhaylyk, O. O.; Collins, S.; Hamley, I. W. Macromolecules 2004, 37, 3369.
27. Stoykovich, M. P.; Müller, M.; Kim, S. O.; Solak, H. H.; Edwards, E. W.; de Pablo, J. J.; Nealey, P. F. Science 2005, 308, 1442.
28. Yamauchi, K.; Akasaka, S.; Hasegawa, H.; Iatrou, H.; Hadjichristidis, N. Macromolecules 2005, 38, 8022.
29. Ryu, D. Y.; Shin, K.; Drockenmuller, E.; Hawker, C. J.; Russell, T. P. Science 2005, 308, 236.
30. Inoue, T.; Kitano, H.; Akasaka, S.; Takenaka, M.; Chen, F.; Hasegawa, H.; Yoshida, H.; Nagano, H. Manuscript in preparation.