Investigations of laser evaporation in ambient pressure helium with ultrafast hard X-ray pulses

Journal of Physical Chemistry C

Volumn 111, Issue 12, 2007, Pages 4643-4647

  Shan, Fang ^a   Porter, Rhiannon ^a   Cheng, Neal ^a   Masiel, Daniel J ^a   Guo, Ting ^a  

^a UNIVERSITY OF CALIFORNIA   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

LASER EVAPORATION; NANOSECOND LASER PULSES; X-RAY SOURCE;

ELECTRON IRRADIATION; EVAPORATION; HELIUM; LASER ABLATION; PRESSURE EFFECTS; X RAYS;

ULTRASHORT PULSES;

EID: 34147160660     PISSN: 19327447     EISSN: 19327455     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/jp066559o     Document Type: Article

References (36)

1. Doll, G.; Sell, J.; Taylor, C.; Clarke, R. Phys. Rev. B 1991, 43, 6816.
2. Venkatesan, T.; Wu, X.; Inam, A.; Jeon, Y.; Croft, M.; Chase, E.; Chang, C.; Wachtman, J.; Odom, R.; Dibrozolo, F.; Magee, C. Appl. Phys. Lett. 1988, 53, 1431.
3. Zheng, J.; Huang, Z.; Shaw, D.; Kwok, H. Appl. Phys. Lett. 1989, 54, 280
4. Foltyn, S.; Tiwari, P.; Dye, R.; Le, M.; Wu, X. Appl. Phys. Lett. 1993, 63, 1848.
5. Krebs, H.; Bremert, O. Appl. Phys. Lett. 1993, 62, 2341.
6. Coutal, C.; Azema, A.; Roustan, J. Thin Solid Films 1996, 288, 248.
7. Gilgenbach, R.; Ching, C.; Lash, J.; Lindley, R. Phys. Plasmas 1994, 1, 1619.
8. Mercado, A.; Allmond, C.; Hoekstra, J.; Fitz-Gerald, J. Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. 2005, 87, 591.
9. Amoruso, S.; Armenante, M.; Bruzzese, R.; Spinelli, N.; Velotta, R.; Vitiello, M.; Wang, X. Appl. Surf. Sci. 2003, 208, 39.
10. Klini, A.; Manousaki, A.; Anglos, D.; Fotakis, C. J. Appl. Phys. 2005, 98.
11. D'alessio, L.; De Bonis, A.; Galasso, A.; Morone, A.; Santagata, A.; Teghil, R.; Villani, P.; Zaccagnino, M. Appl. Surf. Sci. 2005, 248, 295.
12. Amoruso, S.; Bruzzese, R.; Vitiello, M.; Nedialkov, N.; Atanasov, P. J. Appl. Phys. 2005, 98.
13. Amoruso, S.; Ausanio, G.; Barone, A.; Bruzzese, E.; Gragnaniello, L.; Vitiello, M.; Wang, X. J. Phys. B: At., Mol. Opt. Phys. 2005, 38, L329.
14. Amoruso, S.; Ausanio, G.; Bruzzese, R.; Lanotte, L.; Scardi, P.; Vitiello, M.; Wang, X. J. Phys.: Condens. Matter 2006, 18, L49.
15. Eliezer, S.; Eliaz, N.; Grossman, E.; Fisher, D.; Gouzman, I.; Henis, Z.; Pecker, S.; Horovitz, Y.; Fraenkel, M.; Maman, S.; Lereah, Y. Phys. Rev. B 2004, 69.
16. Guo, T.; Nikolaev, P.; Thess, A.; Colbert, D. T.; Smalley, R. E. Chem. Phys. Letters 1995, 243, 49.
17. Morales, A. M.; Lieber, C. M. Science 1998, 279, 208.
18. Henley, S.; Carey, J.; Silva, S. Phys. Rev. B 2005, 72.
19. Palau, J.; Sowinska, M.; Varela, M.; Summ, P.; Esteve, J.; Serra, P.; Morenza, J.; Miehe, J. Appl. Surf. Sci. 1995, 86, 59.
20. Chen, L. X.; Jager, W. J. H.; Jennings, G.; Gosztola, D. J.; Munkholm, A.; Hessler, J. P. Science 2001, 292, 262.
21. Saes, M.; Bressler, C.; Abela, R.; Grolimund, D.; Johnson, S. L.; Heimann, P. A.; Chergui, M. Phys. Rev. Lett. 2003, 9004, 7403.
22. Lee, T.; Jiang, Y.; Rose-Petrack, C.; Benesch, F. J. Chem. Phys. 2005, 122.
23. Audebert, P.; Renaudin, P.; Bastiani-Ceccotti, S.; Geindre, J.; Chenais-Popovics, C.; Tzortzakis, S.; Nagels-Silvert, V.; Shepherd, R.; Matsushima, I.; Gary, S.; Girard, F.; Peyrusse, O.; Gauthier, J. Phys. Rev. Lett. 2005, 94.
24. Koningsberger, D. C. A. P., R. X-Ray Absorption: Principles, Applications, Techniques of EXAFS, SEXAFS and XANES; John Wiley & Sons: New York, 1988; Vol. 92.
25. Guo, T.; Spielmann, C.; Walker, B. C.; Barty, C. P. J. Rev. Sci. Instrum. 2001, 72, 41.
26. Ohyanagi, T.; Miyashita, A.; Murakami, K.; Yoda, O. Surf. Rev. Lett. 1996, 3, 187.
27. Makimura, T.; Sakuramoto, T.; Murakami, K. Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 1996, 35, L735.
28. Makimura, T.; Murakami, K. Appl Surf. Sci. 1996, 96-8., 242.
29. Murakami, K.; Makimura, T.; Ono, N.; Sakuramoto, T.; Miyashita, A.; Yoda, O. Appl. Surf. Sci. 1998, 129, 368.
30. Okano, Y.; Oguri, K.; Nishikawa, T.; Nakano, H. Rev. Sci. Instrum. 2006, 77.
31. Samek, O.; Leis, F.; Margetic, V.; Malina, R.; Niemax, K.; Hergenroder, R. Appl. Opt. 2003, 42, 6001.
32. Misra, A.; Thareja, R. IEEE Trans. Plasma Sci. 1999, 27, 1553.
33. Albert, O.; Roger, S.; Glinee, Y.; Loulergue, J.; Etchepare, J.; Boulmer-Leborgne, C.; Perriere, J.; Millon, E. Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. 2003, 76, 319.
34. Shan, F.; Guo, T. J. Chem. Phys. 2005, 122.
35. Cheng, G. J.; Shan, F.; Freyer, A.; Guo, T. Appl. Opt. 2002, 41, 5148.
36. Shan, F.; Couch, V.; Guo, T. J. Phys. Chem. A 2005, 109, 4216.