Deposition characteristics of Co thin films over high aspect ratio trenches by MOCVD using CO2(CO)8 as a precursor

Journal of the Korean Physical Society

Volumn 49, Issue SUPPL. 3, 2006, Pages

  Lee, J ^a   Lee, J G ^a  

^a Kookmin University   (South Korea)

Author keywords

Conformal deposition; CVD Co; Sticking coefficient

Indexed keywords

EID: 33846345857     PISSN: 03744884     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: None     Document Type: Conference Paper

References (13)

1. S. B. Kang, H. S. Kim, K. J. Moon, W. H. Sohn, G. H. Choi, S. H. Kim and N. J. Bae, IEDM Tech. Dig. (Washington DC, 2003), p. 501.
2. M. E. Gross, K. S. Kranz, D. Brasen and H. Luftman, J. Vac. Sci. Technol. B 6, 1548 (1988).
3. B. Y. Lim, A. Rahtu and R. G. Gordon, Nature Materials 2, 749 (2003).
4. H. S. Rhee and B. T. Ahn, J. Electrochem. Soc. 146, 2720 (1999).
5. Y. K. Ko, D. S. Park, B. S. Seo, H. J. Yang, H. J. Shin, J. Y. Kim, J. H. Lee, W. H. Lee, P. J. Reucroft and J. G. Lee, Mater. Chem. Phys. 80, 560 (2003).
6. D. Miksa and T. B. Brill, Ind. Eng. Chem. Res. 41, 5151 (2002).
7. H. J. Yang, H. M. Lee, J. Y. Kim, H. J. Shin, J. H. Lee, J. G. Lee, M. M. Sung, B. S. Cho, J. H. Lee, C. O. Jeong, K. H. Chung, C. M. Lee, E. G. Lee and H. N. Hong, J. Korean Phys. Soc. 47, S397 (2005).
8. H. S. Na, H. J. Kim, S. Y. Kwon, E. J. Yoon, Y. B. Moon and M. H. Kim, J. Korean Phys. Soc. 37, 971 (2000).
9. Synthesis, Functionalization and Surface Treatment of Nano-Particles, edited by M. I. Baraton (American Scientific Publishers, France, 2003), p. 107.
10. H. J. Kim, Y. Egashira and H. Komiyama, Appl. Phys. Lett. 59, 2521 (1991).
11. Y. Akiyama and N. Imaishi, Appl. Phys. Lett. 67, 620 (1995).
12. H. J. Yang, H. M. Lee, J. Y. Kim, J. H. Lee, J. G. Lee, B. S. Cho, C. O. Jeong, K. H. Chung, C. M. Lee and H. N. Hong, J. Korean Phys. Soc. 45, 1263 (2004).
13. J. B. Kim, Y. J. Yoo, R. J. Kim and Y. P. Lee, J. Korean Phys. Soc. 46, S210 (2005).