Resistive switching characteristics of HfO2 grown by atomic layer deposition

Journal of the Korean Physical Society

Volumn 49, Issue SUPPL. 2, 2006, Pages

  Kim, Kyong Rae ^a   Park, In Sung ^a   Hong, Jin Pyo ^a   Lee, Sang Seol ^a   Choi, Bang Lim ^a   Ahn, Jinho ^a  

^a Hanyang University   (South Korea)

Author keywords

Atomic layer deposition; HfO2; MIM; Re RAM; Resistive switching

Indexed keywords

EID: 33846342615     PISSN: 03744884     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: None     Document Type: Conference Paper

References (16)

1. S. Seo, M. J. Lee, D. H. Seo, E. J. Jeoung, D.-S. Suh, Y. S. Joung, I. K. Yoo, I. R. Hwang, S. H. Kim, I. S. Byun, J.-S. Kim, J. S. Choi and B. H. Park, Appl. Phys. Lett. 85, 5655 (2004).
2. J. R. Contreras, H. Kohlstedt, U. Poppe, R. Waser, C. Buchal and N. A. Pertsev, Appl. Phys. Lett. 83, 4595 (2003).
3. S. Q. Lui, N. J. Wu and A. Ignatiev, Appl. Phys. Lett. 76, 2749 (2000).
4. I. G. Baek, M. S. Lee, S. Seo, M. J. Lee, D. H. Seo, D.-S. Suh, J. C. Park, S. O. Park, H. S. Kim, I. K. Yoo, U-I. Chung and J. T. Moon, Tech. Dig. Int. Electron Devices Meeting 587 (2004).
5. B. J. Choi, D. S. Jeong, S. K. Kim, S. Choi, J. H. Oh, C. Rohde, H. J. Kim, C. S. Hwang, K. Szot, R. Waser, B. Reichenberg and S. Tiedke, J. Appl. Phys. 98, 033715 (2005).
6. T. W. Hickmott, J. Appl. Phys. 33, 2669 (1962).
7. T. W. Hickmott, J. Vac. Sci. Technol. 6, 828 (1970).
8. T. Suntola, Mater. Sci. Rep. 4, 262 (1989).
9. W.-J. Lee, J.-H. Lee, C. O. Park, Y.-S. Lee, S.-J. Shin and S.-K. Rha, J. Korean Phys. Soc. 45, 1352 (2004).
10. T. Lee, H.-K. Ko, Y. Kim, J. Ahn, Y.-B. Kim, K. S. Kim and D.-K. Choi, J. Korean Phys. Soc. 45, 1308 (2004).
11. P. D. Greene, E. L. Bush and I. R. Rawlings, Proc. Symp. on Deposited Thin Film Dielectric Materials, edited by F. Vratny (The Electrochemical Society, New York, 1969), p. 167.
12. P. D. Kirsch, C. S. Kang, J. Lozano, J. C. Lee and J. G. Ekerdt, J. Appl. Phys. 91, 4353 (2002).
13. T. A. Patterson, J. C. Carver, D. E. Leyden and D. M. Hercules, J. Phys. Chem. 80, 1702 (1976).
14. J.-W. Park, J.-W. Park, D.-Y. Kim and J.-K. Lee, J. Vac. Sci. Technol. A 23, 1309 (2005).
15. Z. Xu, M. Houssa, S. De Gendt and M. Heyns, Appl. Phys. Lett. 80, 1975, (2002).
16. T.-H. Perng, C.-H. Chien, C.-W. Chen, P. Lehnen and C.-Y. Chang, Thin Solid Films 469-470, 345 (2004).