Mechanisms of performance improvement for polymer light-emitting diodes fabricated on (NH4)2Sx-treated indium-tin oxide substrates

Electrochemical and Solid-State Letters

Volumn 9, Issue 10, 2006, Pages

  Lin, Yow Jon ^a   You, Chang Feng ^a   Chou, Wei Yang ^b   Lin, Shih Ting ^b  

^a NATIONAL CHANGHUA UNIVERSITY OF EDUCATION   (Taiwan)

^b NATIONAL CHENG KUNG UNIVERSITY   (Taiwan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ELECTRIC POTENTIAL; INDIUM COMPOUNDS; LEAKAGE CURRENTS; ORGANIC POLYMERS; OXYGEN; PHOTOELECTRON SPECTROSCOPY; QUANTUM EFFICIENCY; SUBSTRATES;

CURRENT-LUMINANCE-VOLTAGE CHARACTERISTICS; INDIUM-TIN OXIDE SUBSTRATES; OXYGEN VACANCIES; POLYMER LIGHT-EMITTING DIODES;

LIGHT EMITTING DIODES;

EID: 33747721513     PISSN: 10990062     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1149/1.2225599     Document Type: Article

References (23)

1. D. Braun and A. J. Heeger, Appl. Phys. Lett., 58, 1982 (1991).
2. G. Gustafssoll, Y. Cao, G. M. Treacy, F. Klavetter, N. Colaneri, and A. J. Heeger, Nature (London), 357, 477 (1992).
3. Y. J. Lin, W. Y. Chou, and S. T. Lin, Appl. Phys. Lett., 88, 071108 (2006).
4. B. H. Cumpston and K. F. Jensen, Appl. Phys. Lett., 69, 3941 (1996).
5. S. M. Tadayyon, K. Griffiths, P. R. Norton, C. Tripp, and Z. Popovic, J. Vac. Sci. Teclnol. A, 17, 1773 (1999).
6. S. Y. Kim, ;. L. Lee, K. B. Kim, and Y. H. Tak, Appl. Phys. Lett., 86, 133504 (2005).
7. I. M. Chan, T. Y. Hsu, and F. C. Hong, Appl. Phys. Lett., 81, 1899 (2002).
8. K. B. Kim, Y. H. Tak, Y. S. Han, K. H. Baik, M.H. Yoon, and M. H. Lee, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2, 42, L438 (2002).
9. P. W. M. Blom, M. J. M. de Jong, and J. J. M. Vleggaar, Appl. Phys. Lett., 68, 3308 (1996).
10. Y. J. Lin, W. Y. Chou, S. T. Lin, and Y. M. Chen, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2, 44, L1218 (2005).
11. H. Kim, A. Piqué, J. S. Horwitz, H. Mattoussi, H. Murata, Z. H. Kafafi, and D. B. Chrisey, Appl. Phys. Lett., 74, 3444 (1999).
12. C. Qiu, H. Chen, M. Wong, and H. S. Kwok, IEEE Trans. Electron Devices, 48, 2131 (2001).
13. C. C. Wu, C. I. Wu, J. C. Sturm, and A. Kahn, Appl. Phys. Lett., 70, 1348 (1997).
14. J. C. Scott, J. Vac. Sci. Technol. A, 21, 521 (2003).
15. J. X. Tang, Y. Q. Li, X. Dong, S. D. Wang, C. S. Lee, L. S. Hung, and S. T. Lee, Appl. Surf. Sci., 239, 117 (2004).
16. S. Y. Kim, J. M. Baik, H. K. Yu, and J. L. Lee, J. Appl. Phys., 98, 093707 (2005).
17. S. Sapp, S. Luebben, Y. B. Losovyj, P. Jeppson, D. L. Schulz, and A. N. Caruso, Appl. Phys. Lett., 88, 152107 (2006).
18. N. Koch, A. Kahn, J. Ghijsen, J. J. Pireaux, J. Scwartz, R. L. Johnson, and A. Elschner, Appl. Phys. Lett., 82, 70 (2003).
19. A. J. Makinen, I. G. Hill, R. Shashindhar, N. Nikolov, and Z. H. Kafafi, Appl. Phys. Lett., 79, 557 (2001).
20. K. K. Lee, H. W. Jang, K. B. Kim, Y. H. Tak, and J. L. Lee, J. Appl. Phys., 95, 586 (2004).
21. Y. J. Lin, C. W. Hsu, Y. M. Chen, and Y. C. Wang, J. Electron. Mater., 34, L9 (2005).
22. Y. J. Lin, I. D. Baikie, W. Y. Chou, S. T. Lin, H. C. Chang, Y. M. Chen, and W. F. Liu, J. Vac. Sci. Teclnol. A, 23, 1305 (2005).
23. S. Halder, T. Schneller, R. Meyer, and R. Waser, J. Appl. Phys., 97, 114904 (2005).