Thermal evaporation processing of nano and submicron tin oxide rods

Journal of Physical Chemistry B

Volumn 110, Issue 23, 2006, Pages 11210-11216

  Shukla, S ^a   Venkatachalapathy, V ^a   Seal, S ^a  

^a University of Central Florida   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ALUMINA; EVAPORATION; MORPHOLOGY; OXIDES; SYNTHESIS (CHEMICAL); TIN COMPOUNDS;

GROWTH MECHANISMS; SUBMICRON; THERMAL EVAPORATION; TIN OXIDE RODS;

NANOSTRUCTURED MATERIALS;

EID: 33745713467     PISSN: 15206106     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/jp061009b     Document Type: Article

References (34)

1. Arnold, M. S.; Avouris, P.; Pan, Z. W.; Wang, Z. L. J. Phys. Chem. B 2003, 107, 659.
2. Chopra, K. L.; Major, S.; Pandya, D. K. Thin Solid Films 1982, 102, 1.
3. Ding, J.; McAvoy, T. J.; Cavicchi, R. E.; Semancik, S.; Sens. Actuators, B 2001, 77, 597.
4. Shukla, S.; Ludwig, L.; Cho, H. J.; Drake, C.; Seal, S. J. Appl. Phys. 2005, 98, 104306.
5. Shukla, S.; Agrawal, R.; Ludwig, L.; Cho, H. J.; Seal, S. J. Appl. Phys. 2005, 97, 054307.
6. Meyyappan, M.; Shukla, S.; Seal, S. Interface 2005, 14, 41.
7. Calestani, D.; Zha, M.; Salviati, G.; Lazzarini, L.; Zanotti, L.; Comini, E.; Sberveglieri, G. J. Cryst. Growth 2005, 275, e2083.
8. Ramgir, N. S.; Mulla, I. S.; Vijaymohanan, K. P. J. Phys. Chem. B 2005, 109, 12297.
9. Cai, D.; Su, Y.; Chen, Y.; Jiang, J.; He, Z.; Chen, L. Mater. Lett. 2005, 59, 1984.
10. Wang, Y.; Lee, J. Y.; Deivaraj, C. J. Phys. Chem. B 2004, 108, 13589.
11. Ramgir, N. S.; Mulla, I. S.; Vijaymohanan, K. P. J. Phys. Chem. B 2004, 108, 14815.
12. Zhang, R.-Q.; Lifshitz, Y.; Lee, S.-T. Adv. Mater. 2003, 15, 635.
13. Dai, Z. R.; Pan, Z. L.; Wang, Z. L. Adv. Funct. Mater. 2003, 13, 9.
14. Li, S. Y.; Lee, C. Y.; Lin, P.; Tseng, T. Y. Nanotechnol. 2005, 16, 451.
15. Chen, Y. Q.; Jiang, J.; Wang, B.; Hou, J. G. J. Phys. D. Appl. Phys. 2004, 37, 3319.
16. Liang, C.; Meng, G.; Lei, Y.; Phillip, F.; Zhang, L. Adv. Mater. 2001, 13, 1330.
17. Bae, S. Y.; Na, C. W.; Kang, N. J.; Park, J. J. Phys. Chem. B 2005, 109, 2526.
18. Xing, Y. J.; Xi, Z. H.; Zhang, X. D.; Song, J. H.; Wang, R. M.; Xu, J.; Xue, Z. Q.; Yu, D. P. Appl. Phys. A 2005, 80, 1527.
19. Gao, P. X.; Zhong, L. W. J. Phys. Chem. B 2004, 108, 7534.
20. Ding, Y.; Gao, P. X.; Wang Z. L. J. Am. Chem. Soc. 2004, 126, 2066.
21. Yang, P.; Yan, H.; Mao, S.; Russo, R.; Jonhnson, J.; Saykally, R.; Morris, N.; Pham, J.; He, R.;, Choi, H.-J., Adv. Funct. Mater. 2002, 12, 323.
22. Wu, J.-M.; Shih, H. C.; Wu, W.-T. Chem. Phys. Lett. 2005, 413, 490.
23. Wu, J.-M.; Shih, H. C.; Wu, W.-T.; Tseng, Y.-K.; Chen, I.-C. J. Crys. Growth 2005, 281, 384.
24. Wu, J.-M.; Shih, H. C.; Wu, W.-T. Chem. Phys. Lett. 2005, 413, 490.
25. Noda, T.; Suzuki, H.; Araki, H.; Yang, W.; Shi, Y.; Tosa, M. Appl. Surf. Sci. 2005, 241, 231.
26. Kolb, F. M.; Hofmeister, H.; Zacharias, M.; Gosele, U. Appl. Phys. A 2005, 80, 1405.
27. Pan, Z. W.; Dai, Z. R.; Xu, L.; Lee, S. T.; Wang, Z. L. J. Phys. Chem. 2001, 105, 2507.
28. Varghese, O. K.; Gong, D.; Paulose, M.; Ong, K. G.; Dickey, E. C.; Grimes, C. A. Adv. Mater. 2003, 15, 624.
29. Gong, D.; Grimes, C. A.; Varghese, O. K.; Hu, W.; Singh, R. S.; Chen, Z.; Dickey, E. C. J. Mater. Res. 2001, 16, 3331.
30. Shukla, S.; Brinley, E.; Cho, H. J.; Seal, S. Polymer 2005, 46, 12130.
31. Wagner, R. S.; Ellis, W. C. Appl. Phys. Lett. 1964, 4, 889.
32. Wu, Y.; Yan, H.; Huang, M.; Messer, B.; Song, J. H.; Yang, P. Chem. Eur. J. 2002, 8, 1261.
33. Fan, H. J.; Scholz, R.; Kolb, F. M.; Zacharias, M. Appl. Phys. Lett. 2004, 85, 4142.
34. Fan, H. J.; Scholz, R.; Kolb, F. M.; Zacharias, M.; Gosele U.; Heyroth, F.; Eisenschmidt, C.; Hempel, T.; Christen, J. Appl. Phys. A 2004, 79, 1895.