Electron-beam detection of bits reversibly recorded on epitaxial InSe/GaSe/Si phase-change diodes

Japanese Journal of Applied Physics, Part 1: Regular Papers and Short Notes and Review Papers

Volumn 45, Issue 4 A, 2006, Pages 2580-2592

  Chaiken, Alison ^a   Gibson, Gary A ^a   Chen, John ^a,b   Yeh, Bao S ^a,b   Jasinski, J B ^a,c   Liliental Weber, Z ^a,d   Nauka, K ^a   Yang, C C ^a   Lindig, D D ^a,b   Subramanian, S ^a,b  

^a HEWLETT PACKARD LABORATORIES   (United States)

^b HEWLETT PACKARD COMPANY   (United States)

^c University of California   (United States)

^d LAWRENCE BERKELEY NATIONAL LABORATORY   (United States)

Author keywords

Data storage; Electron beam; GaSe; InSe; Nucleation; Optical recording; Phase change; Recrystallization; Scanned probe

Indexed keywords

CRYSTALLINE MATERIALS; ELECTRON BEAMS; EPITAXIAL GROWTH; INDUCED CURRENTS; SEMICONDUCTING INDIUM COMPOUNDS;

DATA STORAGE; GASE; INSE; PHASE CHANGE; RECRYSTALLIZATION; SCANNED PROBE;

DIODES;

EID: 33645709029     PISSN: 00214922     EISSN: 13474065     Source Type: Journal    
DOI: 10.1143/JJAP.45.2580     Document Type: Article

References (55)

1. G. A. Bertero, S. Malhotra, B. Bian, J. Tsoi, M. Avenell, D. Wachenschwanz and T. Yamashita: IEEE Trans. Magn. 39 (2003) 651.
2. T. Iwanaga, S. Ohkubo, M. Nakano, M. Kubota, H. Honma, T. Ide and R. Katayama: Jpn. J. Appl. Phys. 42 (2003) 1042.
3. E. Betzig, J. K. Trautman, R. Wolfe, E. M. Gyorgy, P. L. Finn, M. H. Kryder and C.-H. Chang: Appl. Phys. Lett. 61 (1992) 142.
4. I. D. Nikolov: Nanotechnology 15 (2004) 1076.
5. B. D. Terris, H. J. Mamin, D. Rugar, W. R. Studenmund and G. S. Kino: Appl. Phys. Lett. 65 (1994) 388.
6. S. Hosaka, T. Shintani, M. Miyamoto, A. Kikukawa, A. Hirotsune, M. Terao, M. Yoshida, K. Fujita and S. Kämmer: J. Appl. Phys. 79 (1996) 8082.
7. D. Saluel, J. Daval, B. Bechevet, C. Germain and B. Valon: J. Magn. Magn. Mater. 193 (1999) 488.
8. O. Bichet, C. D. Wright, Y. Samson and S. Gidon; J. Appl. Phys. 95 (2004) 2360.
9. A. Partovi, D. Peale, M. Wuttig, C. A. Murray, G. Zydzik, L. Hopkins, K. Baldwin, W. S. Hobson, J. Wynn, J. Lopata, L. Dhar, R. Chichester and J. H.-J. Yeh: Appl. Phys. Lett. 75 (1999) 1515.
10. R. Bennewitz, J. N. Crain, A. Kirakosian, J.-L. Lin, J. L. McChesney, D. Y. Petrovykh and F. J. Himpsel: Nanotechnology 13 (2002) 499.
11. P. Vettiger and G. Binnig: Sci. Am. 288 (2003) 46.
12. S.-T. Lam: J. Vac. Sci. Technol. B 21 (2003) 479.
13. G. A. Gibson, T. I. Kamins, M. S. Keshner, S. L. Naberhuis, C. M. Perlov and C. C. Yang: US Patent #5,557,596.
14. G. A. Gibson, A. Chaiken, K. Nauka, C. C. Yang, R. Bicknell, B. S Yeh, J. Chen, H. Liao, J. Jasinski, Z. Liliental-Weber, R. Davidson, A. Holden, S. Subramanian and D. Schut: Appl. Phys. Lett. 86 (2005) 051902.
15. J. H. Coombs, A. P. J. M. Jongenelis, W. van Es-Spiekman and B. A. J. Jacobs: J. Appl. Phys. 78 (1995) 4906.
16. E. Grunbaum, E. Napchan, Z. Barkay, K. Barnham, J. Nelson, C. T. Foxon, J. S. Roberts and D. B. Holt: Semicond. Sci. Technol. 10 (1995) 627.
17. J. Rechid, A. Kampmann and R. Reineke-Koch: Thin Solid Films 361 (2000) 198.
18. M. Chen, K. A. Rubin and R. W. Barton: Appl. Phys. Lett. 49 (1986) 502.
19. T. Nishida, M. Terao, Y. Miyauchi, S. Horigome, T. Kaku and N. Ohta: Appl. Phys. Lett. 50 (1987) 667.
20. M. Horie, N. Nobukuni, K. Kiyono and T. Ohno: Proc. SPIE 4090 (2000) 135.
21. G.-F. Zhou: Mater. Sci. Eng. A 304-306 (2001) 73.
22. G. A. Gibson, H. Birecki, S. L. Naberhuis and A. Chaiken: unpublished.
23. H. N. Bertram and Q. Peng: IEEE Trans. Magn. 34 (1998) 1543.
24. S. El Monkad, M. Eddrief, J. P. Lacharme, K. Amimer and C. A. Sébenne: Surf. Sci. 352-354 (1996) 833.
25. J. F. Sánchez-Royo, A. Segura, O. Lang, E. Schaar, C. Pettenkofer, W. Jaegermann, L. Roa and A. Chevy: J. Appl. Phys. 90 (2001) 2818.
26. J. E. Palmer, T. Saitoh, T. Yodo and M. Tamura: J. Cryst. Growth 147 (1995) 283.
27. W. Jaegermann, A. Klein and C. Pettenkofer: in Electron Spectroscopies Applied to Low-Dimensional Materials, ed. H. P. Hughes and H. I. Starnberg (Kluwer Academic, Dordrecht, 2000).
28. N. Nakayama, T. Kuramachi, T. Tanbo, H. Ueba and C. Tatsuyama: Surf. Sci. 244 (1991) 58.
29. L. Brahim Otsmane, J. Y. Emery, M. Jouanne and M. Balkanski: Appl. Surf. Sci. 65-66 (1993) 479.
30. J. Jasinski, Z. Liliental-Weber, A. Chaiken, G. A. Gibson, K. Nauka, C. C. Yang and R. Bicknell-Tassius: Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 803 (2003) 15.
31. M. Budiman, A. Yamada and M. Konagai: Jpn. J. Appl. Phys. 37 (1998) 4092.
32. J. Ager, J. Wu, K. M. Yu, W. Walukiewicz and K. Nauka: unpublished results.
33. C. Ulrich, D. Olguin, A. Cantarero, A. R. Goni, K. Syassen and A. Chevy: Phys. Status Solidi B 221 (2000) 777.
34. F. J. Manjón, Y. van de Vijver, A. Segura, V. Muñoz, Z. X. Liu and C. Ulrich; Phys. Status Solidi B 211 (1999) 105.
35. A. M. Gabor, J. R. Tuttle, D. S. Albin, M. A. Contreras, R. Noufi and A. M. Hermann: Appl. Phys. Lett. 65 (1994) 198.
36. A. Segura, J. P. Guesdon, J. M. Besson and A. Chevy: J. Appl. Phys. 54 (1983) 876.
37. J. F. Sánchez-Royo, A. Segura, A. Chevy and L. Roa: J. Appl. Phys. 79 (1996) 204.
38. V. Weidenhof, I. Friedrich, S. Ziegler and M. Wuttig: J. Appl. Phys. 86 (1999) 5879.
39. Y. Nishi, H. Kando and M. Terao: Jpn. J. Appl. Phys. 41 (2002) 631.
40. S. Subramanian: unpublished.
41. B. J. Kooi, W. M. G. Groot and J. Th. M. De Hosson: J. Appl. Phys. 95 (2004) 924.
42. C. A. Volkert and M. Wuttig: J. Appl. Phys. 86 (1999) 1808.
43. K. Maschke and F. Lévy: in Landolt-Börnstein New Series Group III, ed. O. Madelung, M. Schulz and H. Weiss (Springer-Verlag, Berlin, 1984) Vol. 17f, p. 304.
44. P. Hovington, D. Drouin and R. Gauvin: Scanning 19 (1997) 1.
45. K. A. Rubin, D. P. Birnie III and M. Chen: J. Appl. Phys. 71 (1992) 3680.
46. K. Shimakawa, A. Kolobov and S. R. Elliott: Adv. Phys. 44 (1995) 475.
47. K. A. Rubin: Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 230 (1992) 239.
48. Binary Alloy Phase Diagrams, ed. T. B. Massalski, H. Okamoto, P. R. Subramanian and L. Kacprzak (ASM International, Materials Park, OH, 1990).
49. O. F. Zhou, H. J. Borg, J. C. N. Rijpers, M. H. R. Lankhorst and J. J. L. Horikx; Proc. SPIE 4090 (2000) 108.
50. G. F. Zhou and B. A. J. Jacobs: Jpn. J. Appl. Phys. 38 (1999) 1625.
51. T. Nishida, M. Terao and M. Nakazawa: ISOM '87, Tokyo, 1987, Jpn. J. Appl. Phys. 26 (1987) Suppl. 26-4, p. 67.
52. J. H. Coombs, A. P. J. M. Jongenelis, W. van Es-Spiekman and B. A. J. Jacobs: J. Appl. Phys. 78 (1995) 4918.
53. M. Terao, T. Nishida, Y. Miyauchi, S. Horigome, T. Kaku and N. Ohta: Proc. SPIE 695 (1986) 105.
54. N. Ohshima: J. Appl. Phys. 79 (1996) 8357.
55. Y. Sugiyama, R. Chiba, S. Fujimori and N. Funakoshi: J. Non-Cryst. Solids 122 (1990) 83.