Structure and magnetic properties of N-doped L10-ordered FePt-C nanocomposite films

Journal of Applied Physics

Volumn 99, Issue 3, 2006, Pages

  Mi, W B ^a   Jiang, E Y ^a   Bai, H L ^a   Liu, Hui ^b  

^a TIANJIN UNIVERSITY   (China)

^b NANKAI UNIVERSITY   (China)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

AMORPHOUS MATERIALS; ANNEALING; ARSENIC; DIFFUSION; MAGNETIC VARIABLES MEASUREMENT; SUPERPARAMAGNETISM;

FACING-TARGET SPUTTERING; FEPT-C NANOCOMPOSITE FILMS; N-DOPED FILMS;

NANOSTRUCTURED MATERIALS;

EID: 33645499499     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.2170584     Document Type: Article

References (33)

1. O. A. Ivanov, L. V. Solina, and V. A. Demshina, Phys. Met. Metallogr. 35, 81 (1973).
2. T. Klemmer, D. Hoydick, H. Okumura, B. Zhang, and W. A. Soffa, Scr. Metall. Mater. 33, 1793 (1995).
3. K. Watanabe and H. Msumoto, J. Jpn. Inst. Met. 48, 930 (1984).
4. T. Shima, T. Moriguchi, S. Mitani, and K. Takanashi, Appl. Phys. Lett. 80, 288 (2002).
5. S. W. Yung, Y. H. Chang, and M. P. Hung, J. Magn. Magn. Mater. 116, 411 (1992).
6. M. Watanabe and M. Homma, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 35, L1264 (1996).
7. J. P. Liu, C. P. Luo, Y. Liu, and D. J. Sellmyer, Appl. Phys. Lett. 72, 483 (1998).
8. S. K. Chen, F. T. Yuan, G. S. Chen, and W. C. Chang, Physica B 327, 366 (2003).
9. R. A. Ristau, K. Barmak, L. H. Lewis, K. R. Coffy, and J. K. Howard, J. Appl. Phys. 86, 4527 (1999).
10. C. M. Kuo, P. C. Kuo, and H. C. Wu, J. Appl. Phys. 85, 2264 (1999).
11. Y. K. Takahashi, M. Ohnuma, and K. Hono, J. Magn. Magn. Mater. 246, 259 (2002).
12. H. Y. Wang, Z. W. Ma, E. Y. Jiang, Y. J. He, and H. S. Huang, Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. A68, 559 (1999).
13. H. L. Bai, E. Y. Jiang, P. Wu, Z. D. Lou, Y. Wang, and C. D. Wang, Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. 69, 641 (1999).
14. H. L. Bai and E. Y. Jiang, Thin Solid Films 353, 157 (1999).
15. S. Kang, J. W. Harrell, and D. E. Nikles, Nano Lett. 2, 1033 (2002).
16. R. S. Ruoff, D. C. Lorents, B. Chan, R. Malhotra, and S. Subramoney, Science 259, 346 (1993);
17. Y. Saito, Carbon 33, 979 (1995);
18. J. Jiao and S. Seraphin, J. Appl. Phys. 83, 2442 (1998).
19. J. J. Host, J. A. Block, K. Parvin, V. P. Dravid, J. L. Alpers, T. Sezen, and R. LaDuca, J. Appl. Phys. 83, 793 (1998).
20. A. R. Miedema, P. F. Chatel, and F. R. Boer, Physica B & C 100, 1 (1980).
21. A. K. Niessen, A. R. Miedema, F. R. Boer, and R. Boom, Physica B & C 151, 401 (1988).
22. W. B. Mi, Z. Q. Li, P. Wu, E. Y. Jiang, H. L. Bai, D. L. Hou, and X. L. Li, J. Appl. Phys. 97, 043903 (2005).
23. W. B. Mi, L. Guo, E. Y. Jiang, Z. Q. Li, P. Wu, and H. L. Bai, J. Phys. D 36, 2393 (2003).
24. B. E. Warren, X-Ray Diffraction (Addison-Wesley, Reading, MA, 1969), Chap. 12.
25. A. Cebollada, D. Weller, J. Stichit, G. R. Harp, R. F. C. Farrow, R. F. Marks, R. Savoy, and J. C. Scott, Phys. Rev. B 50, 3419 (1994).
26. T. Shima, T. Moriguchi, S. Mitani, and K. Takanashi, Appl. Phys. Lett. 80, 288 (2002).
27. Y. Ding, S. A. Majetich, J. Kim, K. Barmak, H. Rollins, and P. Sides, J. Magn. Magn. Mater. 284, 336 (2004).
28. R. G. Agostino, T. Caruso, G. Chiarello, A. Cupolillo, V. Formoso, E. Colavita, and L. Papagno, Phys. Rev. B 68, 035413 (2003).
29. C. Q. Sun, Prog. Mater. Sci. 48, 521 (2003).
30. W. H. Zhong, C. Q. Sun, and S. Li, Solid State Commun. 13, 603 (2004).
31. C. Q. Sun, W. H. Zhong, S. Li, and B. K. Tay, J. Phys. Chem. B 108, 1080 (2004).
32. H. Y. Wang, H. Mao, X. K. Ma, H. Y. Zhang, Y. B. Chen, Y. J. He, and E. Y. Jiang, J. Appl. Phys. 95, 2564 (2004).
33. C. Y. You, Y. K. Takahashi, and K. Hono, J. Appl. Phys. 98, 013902 (2005).