Freestanding vertically aligned arrays of individual carbon nanotubes on metallic substrates for field emission cathodes

Applied Physics Letters

Volumn 85, Issue 2, 2004, Pages 305-307

  Mauger, M ^a   Binh, Vu Thien ^a   Levesque, A ^a   Guillot, D ^a  

^a UNIVERSITÉ LYON 1   (France)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

COMBUSTION; COMPOSITION; CURRENT DENSITY; ELECTRIC FIELDS; FIELD EMISSION CATHODES; NICKEL; NUCLEATION; ORGANIC SOLVENTS; PLASMA ENHANCED CHEMICAL VAPOR DEPOSITION; SOL-GELS;

FREESTANDING VERTICALLY ALIGNED ARRAYS; METALLIC SUBSTRATES; NANOCATALYSTS;

CARBON NANOTUBES;

EID: 3242877129     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.1773366     Document Type: Article

References (23)

1. W. Zhu, G. P. Kochanski, S. Jin, and L. Seibles, J. Appl. Phys. 78, 2707 (1995).
2. B. S. Satyanarayana, A. Hart, W. I. Milne, and J. Robertson, Appl. Phys. Lett. 71, 1430 (1997).
3. G. A. J. Amaratunga and S. R. P. Silva, Appl. Phys. Lett. 68, 2529 (1996).
4. A. N. Obraztsov, I. Yu. Pavlovsky, and A. P. Volkov, J. Vac. Sci. Technol. B 17, 654 (1999).
5. B. F. Coll, J. E. Jaskie, J. L. Markham, E. P. Menu, A. A. Talin, and P. von Allmen, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 498, 185 (1998).
6. B. S. Satyanarayana, J. Robertson, and W. I. Milne, J. Appl. Phys. 87, 3126 (2000).
7. G. A.J. Amaratunga, M. Baxendale, N. Rupesinghe, I. Alexandrou, M. Chhowalla, T. Butler, A. Munindradasa, C. I. Kiley, L. Zhang, and T. Sakai, New Diamond Front. Carbon Technol. 9, 31 (1999).
8. I. Musa, D. A. Munindrasdasa, G. A. Amaratunga, and W. Eccleston, Nature (London) 395, 362 (1998).
9. J. M. Bonard, J. P. Salvetat, T. Stockli, L. Forro, and A. Chatelain, Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. 69, 245 (1999).
10. V. Semet, V. Thien Binh, P. Vincent, D. Guillot, K. B. K. Teo, M. Chhowalla, G. A. J. Amaratunga, W. I. Milne, P. Legagneux, and D. Pribat, Appl. Phys. Lett. 81, 343 (2002).
11. S. T. Purcell, P. Vincent, C. Journet, and V. Thien Binh, Phys. Rev. Lett. 88, 105502 (2002).
12. M. Sveningsson, R.-E. Morjan, O. A. Nerushev, Y. Sato, J. Bäckström, E. E. B. Campbell, and F. Rohmund, Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. 73, 409 (2001).
13. R. Forbes, C. J. Edgecombe, and U. Valdre, Ultramicroscopy 95, 57 (2003).
14. Z. F. Ren, Z. P. Huang, J. W. Xu, J. H. Wang, P. Bush, M. P. Siegal, and P. N. Provencio, Science 282, 1105 (1998).
15. C. Bower, W. Zhu, S. Jin, and O. Zhou, Appl. Phys. Lett. 77, 830 (2000).
16. V. L. Merkulov, D. H. Lowndes, Y. Y. Wei, G. Eres, and E. Voelkl, Appl. Phys. Lett. 76, 3555 (2000).
17. M. Chhowalla, K. B. K. Teo, C. Ducati, N. L. Rupesinghe, G. A. J. Amaratunga, A. C. Ferrari, D. Roy, J. Robertson, and W. I. Milne, J. Appl. Phys. 90, 5308 (2001).
18. L. Delzeit, I. McAninch, B. A. Cruden, D. Hash, B. Chen, J. Han, and M. Meyyappan, J. Appl. Phys. 91, 6027 (2002).
19. Z. F. Ren, Z. P. Huang, D. Z. Wang, J. G. Wen, J. W. Xu, J. H. Wang, L. E. Calvet, J. Chen, J. F. Klemic, and M. A. Reed, Appl. Phys. Lett. 75, 1086 (1999).
20. K. B. K. Teo, S.-B. Lee, M. Chhowalla, V. Semet, V. Thien Binh, O. Greening, M. Castignolles, A. Loiseau, G. Pirio, P. Legagneux, D. Pribat, D. G. Hasko, H. Ahmed, G. A. I. Amaratung, and W. I. Milne, Nanotechnology 14, 204 (2003).
21. Chn Syukri, T. Ban, Y. Ohya, and Y. Takahashi, Mater. Chem. Phys. 78, 645 (2003).
22. V. Thien Binh and A. Levesque, French Patent application No. 03,80,973 (filed July 2003).
23. L. Nilsson, O. Groening, Ch. Emmenegger, O. Kuettel, E. Schaller, L. Schlapbach, H. Kind, J. M. Bonard, and K. Kern, Appl. Phys. Lett. 76, 2071 (2000).