Impurity redistribution due to recrystallization of preamorphized silicon

Journal of Vacuum Science and Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures

Volumn 23, Issue 5, 2005, Pages 2021-2029

  Duffy, R ^a   Venezia, V C ^a   Van Der Tak, K ^a   Hopstaken, M J P ^a   Maas, G C J ^a   Roozeboom, F ^a   Tamminga, Y ^a   Dao, T ^a  

^a PHILIPS RESEARCH LABORATORIES   (Netherlands)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

CRYSTALLIZATION; SOLUBILITY;

PREAMORPHIZED SILICON; REDISTRIBUTION EFFECT;

AMORPHOUS SILICON;

EID: 31144474748     PISSN: 10711023     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1116/1.2044813     Document Type: Article

References (37)

1. S. Severi, K. G. Anil, B. J. Pawlak, R. Duffy, K. Henson, R. Lindsay, A. Lauwers, A. Veloso, J. F. de Marneffe, J. Ramos, R. A. Camillo-Castillo, P. Eyben, W. Vandervorst, M. Jurczak, S. Biesemans, and K. De Meyer, Tech. Dig. - Int. Electron Devices Meet. 2004, p. 99.
2. M. Y. Tsai and B. G. Streetman, J. Appl. Phys. 50, 183 (1979).
3. J. S. Williams, Nucl. Instrum. Methods Phys. Res. 209, 219 (1983).
4. J. S. Williams and R. G. Elliman, Appl. Phys. Lett. 40, 266 (1982).
5. J. S. Williams and R. G. Elliman, Nucl. Instrum. Methods 182, 389 (1981).
6. R. G. Elliman and Z. W. Fang, J. Appl. Phys. 73, 3313 (1993).
7. P. Blood, W. L. Brown, and G. L. Miller, J. Appl. Phys. 50, 173 (1979).
8. J. S. Williams and K. T. Short, J. Appl. Phys. 53, 8663 (1982).
9. J. Narayan and O. W. Holland, Appl. Phys. Lett. 41, 239 (1982).
10. F. A. Trumbore, Bell Syst. Tech. J. 39, 205 (1960).
11. R. P. Thornton, R. G. Elliman, and J. S. Williams, J. Mater. Res. 5, 1003 (1990).
12. W. Scott and R. J. Hager, J. Electron. Mater. 8, 581 (1979).
13. R. Duffy, V. C. Venezia, A. Heringa, B. J. Pawlak, M. J. P. Hopstaken, Y. Tamminga, T. Dao, F. Roozeboom, C. C. Wang, C. H. Diaz, and P. B. Griffin, J. Vac. Sci. Technol. B 22, 865 (2004).
14. B. J. Pawlak, R. Surdeanu, B. Colombeau, A. J. Smith, N. E. B. Cowern, R. Lindsay, W. Vandervorst, B. Brijs, O. Richard, and F. Cristiano, Appl. Phys. Lett. 84, 2055 (2004).
15. G. L. Olson and J. A. Roth, Mater. Sci. Rep. 3, 1 (1988).
16. S.-P. Jeng, T.-P. Ma, R. Canteri, M. Anderle, and G. W. Rubloff, Appl. Phys. Lett. 61, 1310 (1992).
17. M. Y. Tsai, D. S. Day, B. G. Streetman, P. Williams, and C. A. Evans, Jr., J. Appl. Phys. 50, 188 (1979).
18. R. G. Wilson, J. Appl. Phys. 54, 6879 (1983).
19. Y. Kim, H. Z. Massoud, and R. B. Fair, Appl. Phys. Lett. 53, 2197 (1988).
20. A. J. Walker, J. Appl. Phys. 71, 2033 (1992).
21. R. Duffy, V. C. Venezia, A. Heringa, B. J. Pawlak, M. J. P. Hopstaken, G. C. J. Maas, Y. Tamminga, T. Dao, F. Roozeboom, and L. Pelaz, Appl. Phys. Lett. 84, 4283 (2004).
22. S. Mirabella, G. Impellizzeri, E. Bruno, L. Romano, M. G. Grimaldi, F. Priolo, E. Napolitani, and A. Carnera, Appl. Phys. Lett. 86, 121905 (2005).
23. A. Y. Kuznetsov, B. G. Svensson, O. Nur, and L. Hultman, J. Appl. Phys. 84, 6644 (1998).
24. A. Polman, J. S. Custer, E. Snoeks, and G. N. van den Hoven, Appl. Phys. Lett. 62, 507 (1993).
25. J. S. Custer, A. Polman, and H. M. van Pinxteren, J. Appl. Phys. 75, 2809 (1994).
26. O. V. Aleksandrov, Y. A. Nikolaev, N. A. Sobolev, V. I. Sakharov, and I. T. Serenkov, Semiconductors 33, 606 (1999).
27. F. Priolo and E. Rimini, Mater. Sci. Rep. 5, 319 (1990).
28. Y. Tamminga and W. J. M. J. Josquin, Appl. Phys. Lett. 32, 13 (1978).
29. J. S. Williams and R. G. Elliman, Appl. Phys. Lett. 37, 829 (1980).
30. L. Csepregi, J. W. Mayer, and T. W. Sigmon, Appl. Phys. Lett. 29, 92 (1976).
31. R. G. Elliman, D. C. Jacobson, J. Linnros, and J. M. Poate, Appl. Phys. Lett. 51, 314 (1987).
32. J. M. Poate, J. Linnros, F. Priolo, D. C. Jacobson, J. L. Batstone, and M. O. Thompson, Phys. Rev. Lett. 60, 1322 (1988).
33. C. W. White, S. R. Wilson, B. R. Appleton, and F. W. Young, Jr., J. Appl. Phys. 51, 738 (1980).
34. M. J. Aziz, J. Appl. Phys. 53, 1158 (1982).
35. M. J. Aziz, Appl. Phys. Lett. 43, 552 (1983).
36. M. J. Aziz, Phys. Rev. Lett. 56, 2489 (1986).
37. A. Mattoni and L. Colombo, Phys. Rev. B 69, 045204 (2004).