Single-electron tunneling at room temperature in TixSi 1-xO2 nanocomposite thin films

Applied Physics Letters

Volumn 87, Issue 25, 2005, Pages 1-3

  Sarkar, D K ^a   Brassard, D ^a   El Khakani, M A ^a   Ouellet, L ^b  

^a INSTITUT NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE   (Canada)

^b DALSA Semiconductor Inc   (Canada)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

DISPERSIONS; ELECTRIC CONDUCTANCE; ELECTRIC POTENTIAL; ELECTRON TUNNELING; NANOSTRUCTURED MATERIALS; OPTIMIZATION; SOL-GELS; TITANIUM COMPOUNDS;

NANOPRECIPITATES; SINGLE-ELECTRON TUNNELING; TITANIUM SILICATE;

THIN FILMS;

EID: 29144497971     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.2147729     Document Type: Article

References (30)

1. M. A. Garcia, S. E. Paje, J. Llopis, M. A. Villegas, and J. M. Fernandez Navarro, J. Phys. D 32, 975 (1999).
2. G. Mitrikas, C. C. Trapalis, and G. Kordas, J. Non-Cryst. Solids 286, 41 (2001).
3. D. K. Sarkar, F. Cloutier, and M. A. El Khakani, J. Appl. Phys. 97, 084302 (2005).
4. L. Armelao, P. Colombo, G. Rranozzi, and M. Guglielmi, J. Non-Cryst. Solids 139, 198 (1992).
5. Xingtao Gao, Simon R. Bare, J. L. G. Fierro, Miguel A. Banares, and I. E. Wachs, J. Phys. Chem. B 102, 5653 (1998).
6. R. G. Greegor, F. W. Lytle, D. R. Sandstrom, J. Wong, and P. Schultz, J. Non-Cryst. Solids 55, 27 (1983).
7. A. Atik and J. Zarzycki, J. Mater. Sci. Lett. 13, 1301 (1994).
8. K. Yu-Zhang, G. Boisjolly, J. Rivory, L. Kilian, and C. Colliex, Thin Solid Films 253, 299 (1994).
9. D. Zhu and T. Kosugi, J. Non-Cryst. Solids 202, 88 (1996).
10. C. Anderson and A. J. Bard, J. Phys. Chem. B 101, 2611 (1997).
11. R. Hutter, T. Mallat, and A. Baiker, J. Catal. 153, 665 (1995).
12. D. K. Sarkar, E. Desbiens, and M. A. El Khakani, Appl. Phys. Lett. 80, 294 (2002).
13. A. Nishiyama, A. Kaneko, M. Koyama, Y. Kamata, I. Fujiwara, M. Koike, M. Yoshiki, and M. Koike, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 670, K4.8.1 (2001).
14. D. Brassard, D. K. Sarkar, and M. A. El Khakani, J. Vac. Sci. Technol. A 22, 851 (2004).
15. D. Brassard, D. K. Sarkar, M. A. El Khakani, and L. Ouellet, Appl. Phys. Lett. 84, 2304 (2004).
16. G. Brusatin, M. Guglielmi, P. Innocenzi, A. Martucci, G. Battaglin, S. Pelli, and G. Righini, J. Non-Cryst. Solids 220, 202 (1997).
17. H. Yamashita, S. Kawasaki, Y. Ichihashi, M. Harada, M. Takeuchi, M. Anpo, G. Stewart, M. A. Fox, C. Louis, and M. Che, J. Phys. Chem. B 102, 5857 (1998).
18. J. Yu, X. Zhao, J. C. Yu, G. Zhong, J. Han, and Q. Zhao, J. Mater. Sci. Lett. 0261-8028 20, 1745 (2001); J. Yu, J. C. Yu, and X. Zhao, J. Sol-Gel Sci. Technol. 24, 95 (2002).
19. J. Yu, X. Zhao, J. C. Yu, G. Zhong, J. Han, and Q. Zhao, J. Mater. Sci. Lett. 0261-8028 20, 1745 (2001); J. Yu, J. C. Yu, and X. Zhao, J. Sol-Gel Sci. Technol. 24, 95 (2002).
20. S. H. Ehrman, S. K. Friedlander, and M. R. Zachariah, J. Mater. Res. 14, 4551 (1999).
21. C. F. Song, M. K. Lu, P. Yang, D. Xu, and D. R. Yuan, Thin Solid Films 413, 155 (2002).
22. Y. Kotani, A. Matsuda, M. Tatsumisago, T. Minami, T. Umezawa, and T. Kogure, J. Sol-Gel Sci. Technol. 19, 585 (2000).
23. Y. Wakayama, T. Kubota, H. Suzuki, T. Kamikado, and S. Mashiko, J. Appl. Phys. 94, 4711 (2003).
24. T. Kamiya, K. Nakahata, Y. T. Tan, Z. A. K. Durrani, and I. Shimizu, J. Appl. Phys. 89, 6265 (2001).
25. E. Bar-Sadeh, Y. Goldstein, C. Zhang, H. Deng, and B. Abeles, Phys. Rev. B 50, 8961 (1994).
26. E. Kapetanakis, P. Normand, D. Tsoukalas, and K. Beltsios, Appl. Phys. Lett. 80, 2794 (2002).
27. T. W. Kim, D. C. Choo, J. H. Shim, and S. O. Kang, Appl. Phys. Lett. 80, 2168 (2002).
28. J. Oh, V. Meunier, H. Ham, and R. J. Jemaich, J. Appl. Phys. 92, 3332 (2002).
29. A. Rose, Phys. Rev. 97, 1538 (1955).
30. J. G. Hou, B. Wang, J. Yang, K. Wang, W. Lu, Z. Li, H. Wang, D. M. Chen, and Q. Zhu, Phys. Rev. Lett. 90, 246803-1 (2003).