-
1
-
-
0042441975
-
-
Golding, T. D.; Holland, O. W.; Kim, M. J.; Dinan, J. H.; Almeida, L. A.; Arias, J. M.; Bajaj, J.; Shih, H. D.; Kirk, W. P. J. Electron. Mater. 2003, 32, 882.
-
(2003)
J. Electron. Mater.
, vol.32
, pp. 882
-
-
Golding, T.D.1
Holland, O.W.2
Kim, M.J.3
Dinan, J.H.4
Almeida, L.A.5
Arias, J.M.6
Bajaj, J.7
Shih, H.D.8
Kirk, W.P.9
-
3
-
-
1642385820
-
-
Lee, M. L.; Pitera, A. J.; Fitzgerald, E. A. J. Vac. Sci. Technol. B 2004, 22, 158.
-
(2004)
J. Vac. Sci. Technol. B
, vol.22
, pp. 158
-
-
Lee, M.L.1
Pitera, A.J.2
Fitzgerald, E.A.3
-
4
-
-
2942610594
-
-
Hu, C.-W.; Chizmeshya, A. V. G.; Tolle, J.; Kouvetakis, J.; Tsong, I. S. T. J. Cryst. Growth 2004, 267 (3-4), 554.
-
(2004)
J. Cryst. Growth
, vol.267
, Issue.3-4
, pp. 554
-
-
Hu, C.-W.1
Chizmeshya, A.V.G.2
Tolle, J.3
Kouvetakis, J.4
Tsong, I.S.T.5
-
5
-
-
0038638976
-
-
Tolle, J.; Roucka, R.; Tsong, I. S. T.; Ritter, C.; Crozier, P. A.; Chizmeshya, A. V. G.; Kouvetakis, J. J. Appl. Phys. 2003, 82 (15), 2398.
-
(2003)
J. Appl. Phys.
, vol.82
, Issue.15
, pp. 2398
-
-
Tolle, J.1
Roucka, R.2
Tsong, I.S.T.3
Ritter, C.4
Crozier, P.A.5
Chizmeshya, A.V.G.6
Kouvetakis, J.7
-
6
-
-
2542443598
-
-
Tolle, J.; Kim, D.; Mahajan, S.; Bell, A.; Ponce, F. A.; Kottke, M.; Kouvetakis J.; Tsong, I. S. T. Appl. Phys. Lett. 2004, 84, 3510.
-
(2004)
Appl. Phys. Lett.
, vol.84
, pp. 3510
-
-
Tolle, J.1
Kim, D.2
Mahajan, S.3
Bell, A.4
Ponce, F.A.5
Kottke, M.6
Kouvetakis, J.7
Tsong, I.S.T.8
-
7
-
-
0033521177
-
-
Ross, F. M.; Tromp, R. M.; Reuter, M. C. Science 1999, 256, 1931.
-
(1999)
Science
, vol.256
, pp. 1931
-
-
Ross, F.M.1
Tromp, R.M.2
Reuter, M.C.3
-
8
-
-
0026158174
-
-
Davis, R. F. Keiner, G.; Shur, M.; Palmour, J. W.; Edmond, J. A. Proc. IEEE 1991, 677.
-
(1991)
Proc. IEEE
, pp. 677
-
-
Davis, R.F.1
Keiner, G.2
Shur, M.3
Palmour, J.W.4
Edmond, J.A.5
-
9
-
-
25444436322
-
-
John Wiley and Sons Inc.: Switzerland
-
Bechstdet, F.; Kackell, P.; Zywietz, A.; Karch, K.; Adolph, B.; Tenelsen, K.; Furthmuller, J. Silicon Carbide: A Review of Fundamental Questions and Applications to Current Device Technology, John Wiley and Sons Inc.: Switzerland, 1997; p 5.
-
(1997)
Silicon Carbide: A Review of Fundamental Questions and Applications to Current Device Technology
-
-
Bechstdet, F.1
Kackell, P.2
Zywietz, A.3
Karch, K.4
Adolph, B.5
Tenelsen, K.6
Furthmuller, J.7
-
11
-
-
0001668114
-
-
Nutt, S. R.; Smith, D. J.; Kim, H. J.; Davis, R. F. Appl. Phys. Lett. 1987, 50 (4), 203.
-
(1987)
Appl. Phys. Lett.
, vol.50
, Issue.4
, pp. 203
-
-
Nutt, S.R.1
Smith, D.J.2
Kim, H.J.3
Davis, R.F.4
-
12
-
-
0030085243
-
-
Wu, C. H.; Jacob, C.; Ning, X. J.; Nishino, S.; Pirouz, P. J. Cryst. Growth 1996, 158 (4), 480.
-
(1996)
J. Cryst. Growth
, vol.158
, Issue.4
, pp. 480
-
-
Wu, C.H.1
Jacob, C.2
Ning, X.J.3
Nishino, S.4
Pirouz, P.5
-
13
-
-
36449003312
-
-
Boo, J. H.; Yu, K. S.; Lee, M.; Kim, Y. Appl. Phys. Lett. 1995, 66 (25), 3486.
-
(1995)
Appl. Phys. Lett.
, vol.66
, Issue.25
, pp. 3486
-
-
Boo, J.H.1
Yu, K.S.2
Lee, M.3
Kim, Y.4
-
14
-
-
0040035854
-
-
Chaddha, A. K.; Parsons, J. D.; Wu, J.; Chen, H.-S.; Roberts, D. A.; Hockenhull, H. Appl. Phys. Lett. 1993, 62, 3097.
-
(1993)
Appl. Phys. Lett.
, vol.62
, pp. 3097
-
-
Chaddha, A.K.1
Parsons, J.D.2
Wu, J.3
Chen, H.-S.4
Roberts, D.A.5
Hockenhull, H.6
-
15
-
-
25444469510
-
-
Tromp, R. M.; Ross, F. M.; Reuter, M. C. Phys. Rev. Lett. 2000, 84, 461.
-
(2000)
Phys. Rev. Lett.
, vol.84
, pp. 461
-
-
Tromp, R.M.1
Ross, F.M.2
Reuter, M.C.3
-
16
-
-
0032535998
-
-
Medeiros-Rebeiro, G.; Bratkovski, A.; Kamins, T.; Ohlberg, D.; Williams R. Science 1998, 279, 353.
-
(1998)
Science
, vol.279
, pp. 353
-
-
Medeiros-Rebeiro, G.1
Bratkovski, A.2
Kamins, T.3
Ohlberg, D.4
Williams, R.5
-
17
-
-
0000193202
-
-
Chaparo, S.; Zhang, Y.; Drucker, J.; Chandasekhar, D.; McCartney, M.; Smith, D. J. Phys. Rev. Lett. 2000, 87, 2245.
-
(2000)
J. Phys. Rev. Lett.
, vol.87
, pp. 2245
-
-
Chaparo, S.1
Zhang, Y.2
Drucker, J.3
Chandasekhar, D.4
McCartney, M.5
Smith, D.6
-
18
-
-
0000819704
-
-
Trampert, A.; Brandt, O.; Yang, H.; Ploog, K. H. Appl. Phys. Lett. 1997, 70, 583.
-
(1997)
Appl. Phys. Lett.
, vol.70
, pp. 583
-
-
Trampert, A.1
Brandt, O.2
Yang, H.3
Ploog, K.H.4
-
22
-
-
0001470281
-
-
Yamamoto, K.; Kobayashi, K.; Kawanowa, H.; Souda, R. Phys. Rev. B 1999, 60, 15617.
-
(1999)
Phys. Rev. B
, vol.60
, pp. 15617
-
-
Yamamoto, K.1
Kobayashi, K.2
Kawanowa, H.3
Souda, R.4
-
23
-
-
0040432438
-
-
Vajeeston, P.; Ravindran, P.; Ravil, C.; Asokamani, R. Phys. Rev. B 2001, 63, 45115.
-
(2001)
Phys. Rev. B
, vol.63
, pp. 45115
-
-
Vajeeston, P.1
Ravindran, P.2
Ravil, C.3
Asokamani, R.4
-
24
-
-
0035886109
-
-
Grossner, U.; Furthmüller, J.; Bechstedt, F. Phys. Rev. B 2001, 46, 165308.
-
(2001)
Phys. Rev. B
, vol.46
, pp. 165308
-
-
Grossner, U.1
Furthmüller, J.2
Bechstedt, F.3
|