Microwave dielectric relaxation of the polycrystalline (Ba,Sr) TiO 3 thin films

Applied Physics Letters

Volumn 86, Issue 18, 2005, Pages 1-3

  Moon, Taeho ^a   Lee, Byungjoo ^a   Kim, Tae Gon ^a   Oh, Jeongmin ^a   Noh, Young Woo ^a   Nam, Sangwook ^a   Park, Byungwoo ^a  

^a Seoul National University   (South Korea)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

DIELECTRIC PROPERTIES; MAGNETRON SPUTTERING; MICROWAVES; OXYGEN; POLYCRYSTALLINE MATERIALS; RANDOM ACCESS STORAGE; RELAXATION PROCESSES; TITANIUM COMPOUNDS;

CONFOCAL SCANNING; DIELETRIC LOSSES; MICROWAVE DIELECTRIC RELAXATION; POLAR NANOREGION (PNR);

THIN FILMS;

EID: 20844447145     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.1923760     Document Type: Article

References (20)

1. S. K. Streiffer, C. Basceri, C. B. Parker, S. E. Lash, and A. I. Kingon, J. Appl. Phys. 86, 4565 (1999).
2. P. Padmini, T. R. Taylor, M. J. Lefevre, A. S. Nagra, R. A. York, and J. S. Speck, Appl. Phys. Lett. 75, 3186 (1999).
3. S. E. Moon, E.-K. Kim, M.-H. Kwak, H.-C. Ryu, Y.-T. Kim, K.-Y. Kang, S.-J. Lee, and W. J. Kim, Appl. Phys. Lett. 83, 2166 (2003).
4. T. R. Taylor, P. J. Hansen, B. Acikel, N. Pervez, R. A. York, S. K. Streiffer, and J. S. Speck, Appl. Phys. Lett. 80, 1978 (2002).
5. Y. G. Wang, M. E. Reeves, W. J. Kim, J. S. Horwitz, and F. J. Rachford, Appl. Phys. Lett. 78, 3872 (2001).
6. A. A. Sirenko, I. A. Akimov, J. R. Fox, A. M. Clark, H.-C. Li, W. Si, and X. X. Xi, Phys. Rev. Lett. 82, 4500 (1999).
7. T.-G. Kim, J. Oh, T. Moon, Y. Kim, B. Park, Y.-T. Lee, and S. Nam, J. Mater. Res. 18, 682 (2003).
8. C. Hubert, J. Levy, T. V. Rivkin, C. Carlson, P. A. Parilla, J. D. Perkins, and D. S. Ginley, Appl. Phys. Lett. 79, 2058 (2001).
9. D. A. Tenne, A. Soukiassian, X. X. Xi, H. Choosuwan, R. Guo, and A. S. Bhalla, J. Appl. Phys. 96, 6597 (2004).
10. Z. Ma, A. J. Becker, P. Polakos, H. Huggins, J. Pastalan, H. Wu, K. Watts, Y. H. Wong, and P. Mankiewich, IEEE Trans. Electron Devices 45, 1811 (1998).
11. Y. Kim, J. Oh, T.-G. Kim, and B. Park, Appl. Phys. Lett. 78, 2363 (2001).
12. S. Stemmer, S. K. Streiffer, N. D. Browning, and A. I. Kingon, Appl. Phys. Lett. 74, 2432 (1999).
13. J. Im, O. Auciello, P. K. Baumann, S. K. Streiffer, D. Y. Kaufman, and A. R. Krauss, Appl. Phys. Lett. 76, 625 (2000).
14. A. K. Jonscher, Dielectric Relaxation in Solids (Chelsea Dielectrics Press, London, 1983).
15. M. Schumacher and R. Waser, Integr. Ferroelectr. 22, 109 (1998).
16. J. D. Baniecki, R. B. Laibowitz, T. M. Shaw, P. R. Duncombe, D. A. Neumayer, D. E. Kotecki, H. Shen, and Q. Y. Ma, Appl. Phys. Lett. 72, 498 (1998).
17. Y. I. Yuzyuk, J. L. Sauvajol, P. Simon, V. L. Lorman, V. A. Alyoshin, I. N. Zakharchenko, and E. V. Sviridov, J. Appl. Phys. 93, 9930 (2003).
18. W. L. Warren, G. E. Pike, K. Vanheusden, D. Dimos, B. A. Tuttle, and J. Robertson, J. Appl. Phys. 79, 9250 (1996).
19. O. G. Vendik, S. P. Zubko, and M. A. Nikol'ski, J. Appl. Phys. 92, 7448 (2002).
20. K. F. Astafiev, V. O. Sherman, A. K. Tagantsev, N. Setter, T. Kaydanova, and D. S. Ginley, Appl. Phys. Lett. 84, 2385 (2004).