Composition-control of magnetron-sputter-deposited (BaxSr1 - X)Ti1 + yO3 + z thin films for voltage tunable devices

Applied Physics Letters

Volumn 76, Issue 5, 2000, Pages 625-627

  Im, Jaemo ^a   Auciello, O ^a   Baumann, P K ^a   Streiffer, S K ^a   Kaufman, D Y ^a   Krauss, A R ^a  

^a ARGONNE NATIONAL LABORATORY   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0001212954     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.125839     Document Type: Article

References (18)

1. S. R. Summerfelt, in Ferroelectric Thin Films, edited by R. Ramesh (Kluwer Academic, Netherlands, 1997), Chap. 1, p. 1.
2. A. I. Kingon, S. K. Streiffer, C. Basceri, and S. R. Summerfelt, Mater. Res. Bull. 21, 18 (1995).
3. J. M. Ponds, S. W. Kirchoefer, W. Chang, J. S. Horwitz, and D. B. Chrisey, Integr. Ferroelectr. 22, 317 (1998).
4. F. A. Miranda, F. W. Van Keuls, R. R. Romanofsky, and G. Subramanyam, Integr. Ferroelectr. 22, 269 (1998).
5. J. D. Baniecki, R. B. Laibowitz, T. W. Shaw, P. R. Duncombe, D. A. Neumayer, D. E. Kotecki, H. Shen, and Q. Y. Ma. Appl. Phys. Lett. 72, 498 (1998).
6. S. K. Streiffer, C. Basceri, C. B. Parker, S. E. Lash, and A. I. Kingon, J. Appl. Phys. 86, 4565 (1999).
7. C. Basceri, S. K. Streiffer, A. I. Kingon, and R. Waser. J. Appl. Phys. 82, 2497 (1997).
8. S. Yamamichi, H. Yabuta, T. Sakuma, and Y. Miyasaka, Appl. Phys. Lett. 64, 1644 (1994).
9. T. Kawahara, M. Yamamuka, T. Makita, J. Naka, A. Yuuki, N. Mikami, and K. Ono, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 33, 5129 (1994).
10. P. C. van Buskirk, J. F. Roeder, and S. Bilodeau, Integr. Ferroelectr. 10, 9 (1995).
11. X. Wang, U. Helmersson, L. D. Madsen, I. P. Ivanov, P. Münger, S. Rudner, B. Hjörvarsson, and J. Sundgren, J. Vac. Sci. Technol. A 17, 564 (1999).
12. K. Koguchi, T. Matsumoto, and T. Kawai, Science 267, 71 (1995).
13. K. Tanabe, D. K. Lathrop, S. E. Russek, and R. A. Buhrman, J. Appl. Phys. 66, 3148 (1989).
14. U. Poppe, J. Schubert, R. R. Arons, W. Evers, C. H. Freiburg, W. Reicherk, K. Schmidt, W. Sybertz, and K. Urban, Solid State Commun. 66, 661 (1988).
15. C. B. Eom, J. K. Sun, K. Yamamoto, A. F. Marshall, K. E. Luther, and T. H. Geballe, Appl. Phys. Lett. 55, 595 (1989).
16. B. A. Baumert, T. L. Tsai, L. H. Chang, T. R. Remmel, M. L. Kottke, P. L. Fejes, W. Chen, E. P. Ehlert, D. F. Sullivan, C. J. Tracy, and B. M. Melnick, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 493, 21 (1998).
17. A. B. Kozyrev, V. N. Keis, G. Koepf, R. Yandrofski, O. I. Soldatenkov, K. A. Dudin, and D. P. Dovgan, Microelectron. Eng. 29, 257 (1995).
18. G. K. Wehner, J. Vac. Sci. Technol. A 1, 487 (1983).