Metalorganic chemical vapor deposition of thin film ZrO2 and Pb(Zr,Ti)O3: Precursor chemistry and process characteristics

Japanese Journal of Applied Physics, Part 1: Regular Papers and Short Notes and Review Papers

Volumn 41, Issue 11 B, 2002, Pages 6695-6700

  Chen, Ing Shin ^a   Hendrix, Bryan C ^a   Bilodeau, Steven M ^a   Wang, Ziyun ^a   Xu, Chongying ^a   Johnston, Stephen ^a   Van Buskirk, Peter C ^a   Baum, Thomas H ^a   Roeder, Jeffrey F ^a  

^a ENTEGRIS INC   (United States)

Author keywords

Ferroelectric memory; Lead zirconate titanate; MOCVD; Zirconium oxide

Indexed keywords

CARBON; METALLORGANIC CHEMICAL VAPOR DEPOSITION; SILICON; ZIRCONIA;

FERROELECTRIC MEMORY; LEAD ZIRCONATE TITANATE; SILICON SUBSTRATES;

THIN FILMS;

EID: 1242267445     PISSN: 00214922     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1143/JJAP.41.6695     Document Type: Article

References (16)

1. T. S. Moise, S. R. Summerfelt, G. Xing, L. Colombo, T. Sakoda, S. R. Gilbert, A. L. S. Loke, S. Ma, R. Kavari, L. A. Wills, T. Hsu, J. Amano, S. T. Johnston, D. J. Vestyck, M. W. Russell and S. M. Bilodeau: Int. Electronic Device Meet. Tech. Dig. (1999) p. 940.
2. K. Amanuma, T. Tatsumi, Y. Maejima, S. Takahashi, H. Hada, H. Okizaki and T. Kunio: Int. Electronic Device Meet. Tech. Dig. (1998) p. 363.
3. P. C. Van Buskirk, S. M. Bilodeau, J. F. Roeder and P. S. Kirlin: Jpn. J. Appl. Phys. 35 (1996) 2520.
4. P.C. Van Buskirk, M.W.Russell, S.T.Johnston and S.M.Bilodeau: Ext. Abstr. of 8th US-Japan Seminar on Dielectric & Piezoelectric Ceramics (1997) p. 80.
5. I.-S. Chen and J. F. Roeder: Ferroelectric Thin Films VII-Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 541 (Materials Research Society, Pittsburgh, PA, 1999) p. 375.
6. C. M. Foster: Thin Films, in Thin Film Ferroelectric Materials and Devices, ed. R. Ramesh (Kluwer, Norwell, MA, 1997) Chap. 7, p. 170.
7. J. Si, S. B. Desu and C. Y. Tsai: J. Mater. Res. 9 (1994) 1721.
8. H. Yamazaki, T. Tsuyama, I. Kobayashi and Y. Sugimori: Jpn. J. Appl. Phys. 31 (1992) 2995.
9. H. Tomonari, T. Ishiu, K. Sakata and T. Takenaka: Jpn. J. Appl. Phys. 31 (1992) 2998.
10. J. F. Roeder, B. A. Vaartstra, P. C. Van Buskirk and H. R. Beratan: Metal-Organic Chemical Vapor Deposition of Electronic Ceramics II-Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 415 (Materials Research Society, Pittsburgh, PA, 1996) p. 123.
11. J. F. Roeder, T. H. Baum, S. M. Bilodeau, G. T. Stauf, C. Ragaglia, M. W. Russell and P. C. Van Buskirk: Adv. Mater, for Opt. & Electron. 10 (2000) 145.
12. I.-S. Chen, J. F. Roeder, T. E. Glassman and T. H. Baum: Chem. Mater. 11 (1999) 209.
13. A. C. Jones, T. J. Leedham, P. J. Wright, M. J. Crosbie, P. A. Lane, D. J. Williams, K. A. Fleeting, D. J. Otway and P. O'Brien: Chem. Vapor Deposition 4 (1998) 46.
14. K. Nagashima and H. Funakubo: Jpn. J. Appl. Phys. 39 (2000) 212.
15. S. R. Summerfelt, T. S. Moise, G. Xing, L. Colombo, T. Sakoda, S. R. Gilbert, A. L. S. Loke, S. Ma, L. A. Wills, R. Kavari, T. Hsu, J. Amano, S. T. Johnston, D. J. Vestyck, M. W. Russell, S. M. Bilodeau and P. C. Van Buskirk: Appl. Phpys. Lett. 79 (2001) 4004.
16. T. Sakoda, T. S. Moise, S. R. Summerfelt, L. Colombo, G. Xing, S. R. Gilbert, A. L. S. Loke, S. Ma, R. Kavari, L. A. Wills and J. Amano: Jpn. J. Appl. Phys. 40 (2001) 2911.