Tris-(8-hydroxyquinoline)aluminum-modified indium tin oxide for enhancing the efficiency and reliability of organic light-emitting devices

Applied Physics Letters

Volumn 85, Issue 19, 2004, Pages 4511-4513

  Liew, Yoon Fei ^a,b   Zhu, Furong ^a   Chua, Soo Jin ^a,b   Tang, Jian Xin ^c  

^a INSTITUTE OF MATERIALS RESEARCH AND ENGINEERING   (Singapore)

^b NATIONAL UNIVERSITY OF SINGAPORE   (Singapore)

^c CITY UNIVERSITY OF HONG KONG   (Hong Kong)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

INDIUM TIN OXIDE (ITO); ORGANIC INTERFACES; ORGANIC LIGHT-EMITTING DEVICES (OLED); ULTRAVIOLET PHOTOELECTRON SPECTROSCOPY;

ALUMINUM; CURRENT DENSITY; ELECTRIC POTENTIAL; ELECTROLUMINESCENCE; LIGHT EMITTING DIODES; PHOTOELECTRON SPECTROSCOPY; RELIABILITY; STABILITY;

INDIUM COMPOUNDS;

EID: 10844280950     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.1815374     Document Type: Conference Paper

References (26)

1. C. Hosokawa, H. Tokailin, H. Higashi, and T. Kusumoto, Appl. Phys. Lett. 60, 1220 (1992).
2. R. G. Kepler, P. M. Beeson, S. J. Jacobs, R. A. Anderson, M. B. Sinclair, V. S. Valencia, and P. A. Cahill, Appl. Phys. Lett. 66, 3618 (1995).
3. B. J. Chen, W. Y. Lai, Z. Q. Gao, C. S. Lee, S. T. Lee, and W. A. Gambling. Appl. Phys. Lett. 75, 4010 (1999).
4. C. W. Tang and S. A. VanSlyke, Appl. Phys. Lett. 51, 913 (1987).
5. N. Stossel, J. Staudigel, F. Steuber, J. Simmerer, and A. Winnacker, Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. 68, 387 (1999).
6. N. Stossel, J. Staudigel, F. Steuber, J. Blassing, J. Simmerer, A. Winnacker, H. Neuner, D. Metzdorf, H. H. Johannes, and W. Kowalsky, Synth. Met. 111-112, 19 (2000).
7. L. S. Hung, C. W. Tang, and M. G. Mason, Appl. Phys. Lett. 70, 152 (1997).
8. G. E. Jabbour, Y. Kawabe, S. E. Shaheen, J. F. Wang, M. M. Morrell, B. Kippelen, and N. Peyghambarian, Appl. Phys. Lett. 71, 1762 (1997).
9. G. E. Jabbour, B. Kippelen, N. R. Armstrong, and N. Peyghambarian, Appl. Phys. Lett. 73, 1185 (1998).
10. J. S. Kim, M. Granström, R. H. Friend, N. Johansson, W. R. Salaneck, R. Daik, W. J. Feast, and F. Cacialli, J. Appl. Phys. 84, 6859 (1998).
11. F. Nuesch, L. J. Rothberg, E. W. Forsythe, Q. T. Le, and Y. Gao, Appl. Phys. Lett. 74, 880 (1999).
12. C. C. Wu, C. I. Wu, J. C. Sturm, and A. Kahn, Appl. Phys. Lett. 70, 1348 (1997).
13. B. L. Low, F. R. Zhu, K. R. Zhang, and S. J. Chua, Appl. Phys. Lett. 80, 4659 (2002).
14. S. A. VanSlyke, C. H. Chen, and C. W. Tang, Appl. Phys. Lett. 69, 2160 (1996).
15. E. W. Forsythe and M. A. Abkowitz, J. Phys. Chem. B 104, 3948 (2000).
16. L. S. Hung, L. R. Zheng, and M. G. Mason, Appl. Phys. Lett. 78, 673 (2001).
17. C. O. Poon, F. L. Wong, S. W. Tong, R. Q. Zhang, C. S. Lee, and S. T. Lee, Appl. Phys. Lett. 83, 1038 (2003).
18. F. R. Zhu, B. L. Low, K. R. Zhang, and S. J. Chua, Appl. Phys. Lett. 79, 1205 (2001).
19. C. Yan, M. Zharnikov, A. Golzhauser, and M. Grunze, Langmuir 16, 6208 (2000).
20. S. Y. Oh, Y. Y. Yun, D. Y. Kim, and S. K. Han, Langmuir 15, 4690 (1999).
21. J. E. Malinsky, G. E. Mabbour, S. E. Shaheen, J. D. Anderson, A. G. Richter, T. J. Marks, N. R. Armstrong, B. K. Pulak Dutta, and N. Peyghambarian, Adv. Mater. (Weinheim, Ger.) 11, 227 (1999).
22. C. Adachi, K. Nagai, and N. Tamoto, Appl. Phys, Lett. 66, 2679 (1995).
23. Y. Hamada, T. Sano, K. Shibata, and K. Kuroki, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 34, L824 (1995).
24. J. McElvain, H. Antoniadis, M. R. Huesehen, J. N. Miller, D. M. Roitman, and R. L. Moon, J. Appl. Phys. 80, 6002 (1996).
25. H. Aziz, Z. D. Popovic, N. X. Hu, A. M. Hör, and G. Xu, Science 283, 1900 (1999).
26. Y. F. Liew, F. R. Zhu, and S. J. Chua, Chem. Phys. Lett. 394, 275 (2004).