Correcting deviations in the shape of projected images in the electron beam block exposure column

Journal of Vacuum Science and Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures

Volumn 21, Issue 6, 2003, Pages 2680-2685

  Yamada, Akio ^a   Yabe, Takayuki ^a  

^a ADVANTEST CORPORATION   (Japan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ABERRATIONS; ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY; ELECTRON BEAMS; ELECTROSTATICS; LENSES; MASKS;

IMAGING BEAM CURRENTS; PROJECTION LENSES;

IMAGE ANALYSIS;

EID: 0942300046     PISSN: 10711023     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1116/1.1627817     Document Type: Conference Paper

References (8)

1. H. C. Pfeiffer, R. S. Dhaliwal, S. D. Golladay, S. K. Doran, M. S. Gordon, T. R. Groves, R. A. Kendall, J. E. Leiberman, P. F. Petric, D. J. Pincknev, R. J. Quickie, C. F. Robinson, J. D. Rockrohr, J. J. Senesi, W. Stickel, E. V. Tressler, A. Tanimoto, T. Yamaguchi, K. Okamoto, K. Suzuki, T. Okino, S. Kawata, K. Morita, S. C. Suziki, H. Shimizu, S. Kojima, G. Varnell, W. T. Novak, D. P. Stumbo, and M. Sogard, J. Vac. Sci. Technol. B 17, 2840 (1999).
2. L. R. Harriott, J. Vac. Sci. Technol. B 15, 2130 (1997).
3. W. Stickel and G. O. Langner, J. Vac. Sci. Technol. B 18, 3029 (2000).
4. S. Kojima, W. Stickel, J. D. Rockrohr, and M. Gordon, J. Vac. Sci. Technol. B 18, 3017 (2000).
5. S. D. Golladay, H. C. Pfeiffer, C. A. Bohnenkamp, R. S. Dhaliwal, W. A. Enichen, M. S. Gordon, R. A. Kendall, J. E. Leiberman, W. Stickel, J. D. Rockrohr, E. V. Tressler, A. Tanimoto, T. Yamaguchi, K. Okamoto, K. Suzuki, T. Miura, T. Okino, S. Kawata, K. Morita, S. C. Suziki, H. Shimizu, S. Kojima, G. Varnell, W. T. Novak, and M. Sogard, J. Vac. Sci. Technol. B 19, 2459 (2001).
6. A. Yamada, K. Sakamoto, S. Yamazaki, K. Kobayashi, S. Sagoh, M. Ohno, H. Watanabe, and H. Yasuda, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 33, 6959 (1994).
7. T. Haraguchi, T. Sakazaki, S. Hamaguchi, and H. Yasuda, J. Vac. Sci. Technol. B 20, 2726 (2002).
8. G. I. Winograd, W. D. Meisburger, and R. F. W. Pease, J. Vac. Sci. Technol. B 17, 2803 (1999).