Ion-enhanced etching of Si(100) with molecular chlorine: Neutral and ionic product yields as a function of ion kinetic energy and molecular chlorine flux

Journal of Physical Chemistry B

Volumn 104, Issue 14, 2000, Pages 3261-3266

  Materer, N ^a   Goodman, Rory S ^b   Leone, Stephen R ^c  

^a University of Colorado   (United States)

^b OKLAHOMA STATE UNIVERSITY   (United States)

^c NATIONAL INSTITUTE OF STANDARDS AND TECHNOLOGY   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0346507578     PISSN: 15206106     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/jp993278q     Document Type: Article

References (35)

1. Suzuki, K.; Itabashi, N. Pure Appl. Chem. 1996, 68, 1011.
2. Flamm, D. L. Pure Appl. Chem. 1990, 62, 1709.
3. Donnelly, V. M.; Flamm, D. L. Solid State Technol. 1981, 24, 161.
4. Hamers, R. J.; Wang, Y. J. Chem. Rev. 1996, 96, 1261.
5. Engel, T. Jpn. J. Appl. Phys., Pan 1 1996, 35, 2403.
6. Leone, S. R. Jpn. J. Appl. Phys., Part I 1995, 34, 2073.
7. Waltenburg, H. N.; Yates, J. T., Jr. Chem. Rev. 1995, 95, 1589.
8. Rhodin, T. Prog. Surf. Sci. 1995, 50, 131.
9. Winters, H. F.; Coburn, J. W. Surf. Sei. Rep. 1992, 14, 161.
10. Yu, M. L.; DeLouise, L. A. Surf. Sci. Rep. 1994, 19, 285.
11. Zalm, P. C. Vacuum 1986, 36, 787.
12. Chang, J. P.; Arnold, J. C.; Zau, G. C. H.; Shin, H.-S.; Sawin, H. H. J. Vac. Sci. Technol., A 1997, 15, 1853.
13. Levinson, J. A.; Shaqfeh, E. S. G.; Balooch, M.; Hamza, A. V. J. Vac. Sci. Technol., A 1997, 15, 1902.
14. Materer, N.; Goodman, R. S.; Leone, S. R. J. Vac. Sci. Technol., A 1997, 15, 2134.
15. Goodman, R. S.; Materer, N.; Leone, S. R. J. Vac. Sci. Technol., A 1999, 17, 3340.
16. Coburn, J. W. J. Vac. Sci. Technol., B 1994, 12, 1384.
17. Kolfschoten, A. W.; Baring, R. A.; Haring, A.; de Vries, A. E. J. Appl. Phys. 1984, 55, 3813.
18. McNevin, S. C.; Decker, G. E. J. Vac. Sci. Technol., B 1985, 3, 485.
19. van Zwol, J.; van Laar, J.; Kolfschoten, A. W.; Dieleman, J. J. Vac. Sci. Technol., B 1987, 5, 1410.
20. Barker, R. A.; Mayer, T. M.; Pearson, W. C. J. Vac. Sci. Technol., B 1983, 1, 37.
21. Rossen, R. A.; Sawin, H. H. J. Vac. Sci. Technol, A 1987,5, 1595.
22. Barone, M. E.; Graves, D. B. J. Appl. Phys. 1995, 78, 6604.
23. Feil, H.; Dieleman, J.; Garrison, B. J. J. Appl. Phys. 1993, 74, 1303.
24. Kubota, N. A.; Economou, D. J.; Plimpton, S. J. J. Appl. Phys. 1998, 83, 4055.
25. Hanson, D. E.; Voter, A. F.; Kress, J. D. J. Appl. Phys. 1997, 82, 3552.
26. Wiley, W. C.; McLaren, I. H. Rev. Sci. Instrum. 1955, 26, 1150.
27. Koehler, B. G.; Mak, C. H.; Arthur, D. A.; Coon, P. A.; George, S. M. J. Chem. Phys. 1988, 89, 1709.
28. Yu, M. L. In Sputtering by Particle Bombardment III; Behrish, R., Wittmaack, K., Eds.; Springer-Verlag: Berlin, Heidelberg, 1991; p 91.
29. Oostra, D. J.; Haring, A.; van Ingen, R. P.; de Vries, A. E.; van Veen, G. N. A. J. Appl. Phys. 1988, 64, 315.
30. Steinbruchel, C. Appl. Phys. Lett. 1989, 55, 1960.
31. Szabo, A.; Farrall, P. D.; Engel, T. Surf. Sci. 1994, 312, 284.
32. Athavale, S. D.; Economou, D. J. J. Vac. Sci. Technol., A 1995, 13,966.
33. Smith, R.; Harrison, D. E., Jr.; Garrision, B. J. Phys. Rev. B 1989, 40, 93.
34. Backer, R. A.; Mayer, T. M.; Pearson, W. C. J. Vac. Sci. Technol., B 1983, 1, 37.
35. Sanders, F. H. M.; Kolfschoten, A. W.; Dieleman, J.; Haring, R. A.; Haring, A.; de Vries, A. E. J. Vac. Sci. Teclmol., A 1984, 2, 487.