Ferroelectric properties of (Ba, Sr)TiO3 thin films grown on YBa2Cu3O7 layers

Journal of Applied Physics

Volumn 94, Issue 6, 2003, Pages 4042-4046

  Tao, K ^a   Hao, Z ^a   Xu, B ^a   Chen, B ^a   Miao, J ^a   Yang, H ^a   Zhao, B R ^a  

^a INSTITUTE OF PHYSICS   (China)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

BARIUM COMPOUNDS; FERROELECTRICITY; MAGNETRON SPUTTERING; PERMITTIVITY; PULSED LASER DEPOSITION; YTTRIUM BARIUM COPPER OXIDES;

HYSTERESIS LOOPS;

THIN FILMS;

EID: 0141955831     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.1596714     Document Type: Article

References (18)

1. M. Izuha, K. Abe, M. Koike, S. Takeno, and N. Fukushima, Appl. Phys. Lett. 70, 1405 (1997).
2. C. S. Hwang, S. O. Park, H. J. Cho, C. S. Kang, S. I. Lee, and M. Y. Lee, Appl. Phys. Lett. 67, 2819 (1995).
3. K. W. Van Keuls, R. R. Romanofsky, D. Y. Bohman, M. D. Winter, F. A. Miranda, C. H. Mueller, R. E. Treece, T. V. Rivkin, and D. Galt, Appl. Phys. Lett. 71, 3075 (1997).
4. J. Im, O. Auciello, P. K. Baumann, S. K. Streiffer, D. Y. Kaufman, and A. R. Krauss, Appl. Phys. Lett. 76, 625 (2000).
5. D. L. Kaiser, M. D. Vaudin, L. D. Rotter, Z. L. Wang, J. P. Cline, C. S. Hwang, R. B. Marinenko, and J. G. Gillen, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 361, 355 (1995).
6. J. S. Horwitz, J. M. Pond, B. Tadayan, R. C. Y. Auyeung, P. C. Dorsey, D. B. Chrosey, S. C. Qadri, and C. Muller, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 361, 515 (1995).
7. N. J. Wu, H. Lin, K. Xie, X. Y. Li, and A. Ignatiev, Physica C 232, 151 (1994).
8. Z. G. Zhang, J. S. Liu, Y. N. Wang, J. S. Zhu, F. Yan, X. B. Chen, and H. M. Shen, Appl. Phys. Lett. 73, 788 (1998).
9. J. F. Scott, B. M. Melnick, C. A. Araujo, L. D. Mcmillan, and R. Zuleez, Integr. Ferroelectr. 1, 323 (1992).
10. C. Sudhama, J. Kim, J. Lee, and V. Chikarmane, J. Vac. Sci. Technol. B 11, 1302 (1993).
11. S. Zafar, R. E. Jones, B. Jiang, B. White, V. Kaushik, and S. Gillespie, Appl. Phys. Lett. 73, 3533 (1998).
12. Y. P. Wang and T. Y. Tseng, J. Appl. Phys. 81, 6762 (1997).
13. M. Ohrign, The Materials Science of Thin Films (Academic, New York, 1992).
14. J. F. Scott, C. A. Araujo, B. M. Melnick, L. D. Mcmillan, and R. Zuleeg, J. Appl. Phys. 70, 382 (1991).
15. Y. Shimada, A. Inoue, T. Nasu, K. Arita, Y. Nagano, A. Matsuda, Y. Uemoto, E. Fujii, M. Azuma, Y. Oishi, S. I. Hayashi, and T. Otsuki, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 35, 140 (1996).
16. S. M. Sze, Physics of Semiconductor Devices, 2nd ed. (Wiley, New York, 1981).
17. S. T. Chang and J. Y. Lee, Appl. Phys. Lett. 80, 655 (2002).
18. C. J. Peng and S. B. Krupanidhi, J. Mater. Res. 10, 708 (1995).