-
4
-
-
0042978287
-
-
K. Kim, M. H. An, Y. G. Shin, M. S. Suh, C. J. Youn, Y. H. Lee, K. B. Lee, and H. J. Lee, J. Vac. Sci. Technol. B 14, 2667 (1996).
-
(1996)
J. Vac. Sci. Technol. B
, vol.14
, pp. 2667
-
-
Kim, K.1
An, M.H.2
Shin, Y.G.3
Suh, M.S.4
Youn, C.J.5
Lee, Y.H.6
Lee, K.B.7
Lee, H.J.8
-
5
-
-
0002373320
-
-
T. Ueno, A. Morioka, S. Chikamura, and Y. Iwasaki, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 39, L327 (2000).
-
(2000)
Jpn. J. Appl. Phys., Part 2
, vol.39
-
-
Ueno, T.1
Morioka, A.2
Chikamura, S.3
Iwasaki, Y.4
-
6
-
-
0020718495
-
-
M. Brake, J. Hinkle, J. Asmussen, M. Hawley, and R. Kerber, Plasma Chem. Plasma Process. 3, 63 (1983).
-
(1983)
Plasma Chem. Plasma Process
, vol.3
, pp. 63
-
-
Brake, M.1
Hinkle, J.2
Asmussen, J.3
Hawley, M.4
Kerber, R.5
-
8
-
-
0001224690
-
-
H. M. Katsch, A. Tewes, E. Quandt, A. Goehlich, T. Kawetzki, and H. F. Döbele, J. Appl. Phys. 88, 6232 (2000).
-
(2000)
J. Appl. Phys.
, vol.88
, pp. 6232
-
-
Katsch, H.M.1
Tewes, A.2
Quandt, E.3
Goehlich, A.4
Kawetzki, T.5
Döbele, H.F.6
-
9
-
-
0028492649
-
-
J. Amoorim, G. Baravian, M. Touzeau, and J. Jolly, J. Appl. Phys. 76, 1487 (1994).
-
(1994)
J. Appl. Phys.
, vol.76
, pp. 1487
-
-
Amoorim, J.1
Baravian, G.2
Touzeau, M.3
Jolly, J.4
-
13
-
-
0031176026
-
-
J. Matsushita, K. Sasaki, and K. Kadota, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 36, 4747 (1997).
-
(1997)
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1
, vol.36
, pp. 4747
-
-
Matsushita, J.1
Sasaki, K.2
Kadota, K.3
-
14
-
-
0000534308
-
-
J. P. Booth, O. Joubert, J. Pelletier, and N. Sadeghi, J. Appl. Phys. 69, 618 (1991).
-
(1991)
J. Appl. Phys.
, vol.69
, pp. 618
-
-
Booth, J.P.1
Joubert, O.2
Pelletier, J.3
Sadeghi, N.4
-
15
-
-
0001376970
-
-
S. Takashima, M. Hori, T. Goto, A. Kono, M. Ito, and K. Yoneda, Appl. Phys. Lett. 75, 3929 (1999).
-
(1999)
Appl. Phys. Lett.
, vol.75
, pp. 3929
-
-
Takashima, S.1
Hori, M.2
Goto, T.3
Kono, A.4
Ito, M.5
Yoneda, K.6
-
16
-
-
0035271895
-
-
S. Takashima, S. Arai, A. Kono, M. Ito, K. Yoneda, M. Hori, and T. Goto, J. Vac. Sci. Tschnol. A 19, 599 (2001).
-
(2001)
J. Vac. Sci. Tschnol. A
, vol.19
, pp. 599
-
-
Takashima, S.1
Arai, S.2
Kono, A.3
Ito, M.4
Yoneda, K.5
Hori, M.6
Goto, T.7
-
17
-
-
33845468902
-
-
H. Nagai, S. Takashima, M. Hiramatsu, M. Hori, and T. Goto, J. Appl. Phys. 91, 2615 (2002).
-
(2002)
J. Appl. Phys.
, vol.91
, pp. 2615
-
-
Nagai, H.1
Takashima, S.2
Hiramatsu, M.3
Hori, M.4
Goto, T.5
-
18
-
-
0035576034
-
-
S. Takashima, A. Kono, K. Yoneda, M. Hori, and T. Goto, J. Appl. Phys. 90, 5497 (2001).
-
(2001)
J. Appl. Phys.
, vol.90
, pp. 5497
-
-
Takashima, S.1
Kono, A.2
Yoneda, K.3
Hori, M.4
Goto, T.5
-
20
-
-
0001033376
-
-
H. Ito, K. Teii, H. Funakoshi, M. Hori, T. Goto, M. Ito, and T. Takeo, J. Appl. Phys. 88, 4537 (2000).
-
(2000)
J. Appl. Phys.
, vol.88
, pp. 4537
-
-
Ito, H.1
Teii, K.2
Funakoshi, H.3
Hori, M.4
Goto, T.5
Ito, M.6
Takeo, T.7
-
24
-
-
0031223801
-
-
Y. Kawai, K. Sasaki, and K. Kadota, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 36, L1261 (1997).
-
(1997)
Jpn. J. Appl. Phys., Part 2
, vol.36
-
-
Kawai, Y.1
Sasaki, K.2
Kadota, K.3
|