Operational mechanism of light-emitting devices based on Ru(II) complexes: Evidence for electrochemical junction formation

Journal of Applied Physics

Volumn 94, Issue 1, 2003, Pages 115-122

  Rudmann, Hartmut ^a   Shimada, Satoru ^a   Rubner, Michael F ^a  

^a Massachusetts Institute of Technology   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

CAPACITANCE; COMPLEXATION; ELECTRIC POTENTIAL; ELECTRIC RESISTANCE; IONIC CONDUCTION; RUTHENIUM;

COUNTERIONS;

LIGHT EMITTING DIODES;

EID: 0041340531     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.1578174     Document Type: Article

References (32)

1. Q. B. Pei, G. Yu, C. Zhang, Y. Yang, and A. J. Heeger, Science 269, 1086 (1995).
2. Y. Yang and Q. B. Pei, J. Appl. Phys. 81, 3294 (1997).
3. Q. B. Pei and Y. Yang, Synth. Met. 80, 131 (1996).
4. D. L. Smith, J. Appl. Phys. 81, 2869 (1997).
5. J. A. Manzanares, H. Reiss, and A. J. Heeger, J. Phys. Chem. B 102, 4327 (1998).
6. D. J. Dick, A. J. Heeger, Y. Yang, and Q. B. Pei, Adv. Mater. (Weinheim, Ger.) 8, 985 (1996).
7. J. Gao, A. J. Heeger, I. H. Campbell, and D. L. Smith, Phys. Rev. B 59, R2482 (1999).
8. I. H. Campbell, D. L. Smith, C. J. Neef, and J. P. Ferraris, Appl. Phys. Lett. 72, 2565 (1998).
9. Y. F. Li, J. Gao, G. Yu, Y. Cao, and A. J. Heeger, Chem. Phys. Lett. 287, 83 (1998).
10. G. Yu, Y. Cao, C. Zhang, Y. F. Li, J. Gao, and A. J. Heeger, Appl. Phys. Lett. 73, 111 (1998).
11. J. C. deMello, N. Tessler, S. C. Graham, X. Li, A. B. Holmes, and R. H. Friend, Synth. Met. 85, 1277 (1997).
12. J. C. deMello, N. Tessler, S. C. Graham, and R. H. Friend, Phys. Rev. B 57, 12951 (1998).
13. J. C. deMello, J. J. M. Halls, S. C. Graham, N. Tessler, and R. H. Friend, Phys. Rev. Lett. 85, 421 (2000).
14. H. Rudmann and M. F. Rubner, J. Appl. Phys. 90, 4338 (2001).
15. F. G. Gao and A. J. Bard, J. Am. Chem. Soc. 122, 7426 (2000).
16. E. S. Handy, A. J. Pal, and M. F. Rubner, J. Am. Chem. Soc. 121, 3525 (1999).
17. C. S. Sosnoff, M. Sullivan, and R. W. Murray, J. Phys. Chem. 98, 13643 (1994).
18. J. C. Jernigan and R. W. Murray, J. Am. Chem. Soc. 109, 1738 (1987).
19. E. F. Dalton, N. A. Surridge, J. C. Jernigan, K. O. Wilbourn, J. S. Facci, and R. W. Murray, Chem. Phys. 141, 143 (1990).
20. C. E. D. Chidsey and R. W. Murray, Science (Washington, DC, U.S.) 231, 25 (1986).
21. M. Kaneko, Prog. Polym. Sci. 26, 1101 (2001).
22. H. Rudmann, S. Shimada, and M. F. Rubner, J. Am. Chem. Soc. 124, 4918 (2002).
23. F. Pichot, C. J. Bloom, L. S. Rider, and C. M. Elliott, J. Phys. Chem. B 102, 3525 (1998).
24. M. Buda, G. Kalyuzhny, and A. J. Bard, J. Am. Chem. Soc. 124, 6090 (2002).
25. H. Rudmann, S. Shimada, D. Oblas, J. Whitten, and M. F. Rubner, J. Appl. Phys. 92, 1576 (2002).
26. P. P. Soo, B. Huang, Y.-I. Jang, Y.-M. Chiang, D. R. Sadoway, and A. M. Mayes, J. Electrochem. Soc. 146, 32 (1999).
27. N. E. Tokel and A. J. Bard, J. Am. Chem. Soc. 94, 2862 (1972).
28. W. L. Wallace and A. J. Bard, J. Phys. Chem. 83, 1350 (1979).
29. K. M. Maness, R. G. Terrill, T. J. Meyer, R. W. Murray, and R. M. Wightman, J. Am. Chem. Soc. 118, 10609 (1996).
30. K. M. Maness, H. Masui, R. M. Wightman, and R. W. Murray, J. Am. Chem. Soc. 119, 3987 (1997).
31. R. G. Terrill, H. Tsuyonobu, and R. W. Murray, J. Phys. Chem. 99, 16676 (1995).
32. R. G. Terrill, J. E. Hutchinson, and R. W. Murray, J. Phys. Chem. 101, 1535 (1997).