Low-temperature synthesis multiwalled carbon nanotubes by microwave plasma chemical vapor deposition using CH4CO2 gas mixture

Japanese Journal of Applied Physics, Part 1: Regular Papers and Short Notes and Review Papers

Volumn 42, Issue 2 A, 2003, Pages 614-619

  Chen, Mi ^a   Chen, Chieng Ming ^a   Shi, Shin Chen ^a   Chen, Chia Fu ^a  

^a NATIONAL CHIAO TUNG UNIVERSITY   (Taiwan)

Author keywords

Carbon nanotubes; CH4 CO2 gas mixture; High yield; Low temperature; MPCVD

Indexed keywords

CARBON DIOXIDE; GROWTH (MATERIALS); HIGH RESOLUTION ELECTRON MICROSCOPY; LOW TEMPERATURE EFFECTS; METHANE; MICROWAVES; MIXTURES; MORPHOLOGY; PLASMA ENHANCED CHEMICAL VAPOR DEPOSITION; SCANNING ELECTRON MICROSCOPY; SYNTHESIS (CHEMICAL); TRANSMISSION ELECTRON MICROSCOPY;

DIAMETER; MULTIWALLED STRUCTURES;

CARBON NANOTUBES;

EID: 0038682116     PISSN: 00214922     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1143/jjap.42.614     Document Type: Article

References (31)

1. S. Iijima: Nature 354 (1991) 56.
2. R. Stevens, C. Nguyen, A. Cassell, L. Delzeit, M. Meyyappan and J. Han: Appl. Phys. Lett. 77 (2000) 3453.
3. X. K. Wang, X. W. Lin, V. P. Dravid, J. B. Ketterson and R. P. H. Chang: Appl. Phys. Lett. 66 (1995) 2430.
4. L. C. Qin, D. Zhou, A. R. Krauss and D. M. Gruen: Appl. Phys. Lett. 72 (1998) 3437.
5. Z. Shi, Y. Lian, X. Zhou, Z. Gu, Y. Zhang, S. Iijima, L. Zhou, K. T. Yue and S. Zhang: Carbon 37 (1999) 1449.
6. Z. P. Huang, J. W. Xu, Z. F. Ren, J. H. Wang, M. P. Siega and P. N. Provencio: Appl. Phys. Lett. 73 (1998) 3845.
7. C. J. Lee and J. Park: Carbon 39 (2001) 1891.
8. C. J. Lee, J. Park, Y. Huh and J. Y. Lee: Chem. Phys. Lett. 343 (2001) 33.
9. J. Jiao, P. E. Nolan, S. Seraphin, A. H. Cutler and D. C. Lynch: Electronchem. Soc. 143 (1996) 932.
10. R. T. K. Baker and J. J. Chludzinski, Jr.: J. Catal. 64 (1980) 464.
11. Y. M. Shyu and F. C. N. Hong: Diamond Relat. Mater. 10 (2001) 1241.
12. L. Ci, J. Wei, B. Wei, J. Liang, C. Xu and D. Wu: Carbon 39 (2001) 329.
13. Y. J. Yoon and H. K. Baik: Diamond Relat. Mater. 10 (2001) 1214.
14. J. H. Han, W. S. Yang and J. B. Yoo: J. Appl. Phys. 88 (2000) 7363.
15. C. F. Chen, S. H. Chen, H. W. Ko and S. E. Hsu: Diamond Relat. Mater. 3 (1994) 443.
16. C. F. Chen, S. H. Chen, T. M. Hong, H. W. Ko and S. E. Shen: Thin Solid Films 236 (1993) 120.
17. C. F. Chen, T. M. Hong and S. H. Chen: Scr. Metall. Mater. 29 (1993) 317.
18. C. F. Chen, T. M. Hong and S. H. Chen: J. Appl. Phys. 74 (1993) 4483.
19. M. Chen, C. M. Chen and C. F. Chen: J. Mater. Sci. 37 (2002) 3561.
20. M. Chen, C. M. Chen and C. F. Chen: Thin Solid Films 420-421 (2002) 230.
21. M. Chen, C. M. Chen and C. F. Chen: submitted to Diamond Relat. Mater.
22. Y. C. Choi, Y. M. Shin, Y. H. Lee, G. S. Lee, G. S. Park, W. B. Choi, N. S. Lee and J. M. Kim: Appl. Phys. Lett. 76 (2000) 2367.
23. N. M. Rodriguez: J. Mater. Res. 8 (1993) 3233.
24. M. J. Yacaman, M. M. Yoshida, L. Rendon and J. G. Santiesteban: Appl. Phys. Lett. 62 (1993) 657.
25. Y. C. Choi, Y. M. Shin, S. C. Lim, D. J. Bae, Y. H. Lee and B. S. Lee: J. Appl. Phys. 88 (2000) 4898.
26. C. J. Lee and J. Park: Appl. Phys. Lett. 77 (2000) 3397.
27. Y. Saito and T. J. Yoshikawa: J. Cryst. Growth 71 (1993) 154.
28. M. Jung, K. Y. Eun, J. K. Lee, Y. J. Baik, K. R. Lee and J. W. Park: Diamond Relat. Mater. 10 (2001) 1235.
29. W. S. Bacsa, D. Ugarte, A. Chatelain and W. A. de Hee: Phys. Rev. B 50 (1994) 15473.
30. Y. Satio, K. Hamaguchi, S. Uemura, K. Uchida, Y. Tasaka, F. Ikazaki, M. Yumura, A. Kasuya and Y. Nishina: Appl. Phys. A 67 (1998) 95.
31. X. P. Xu and G. R. Brandes: Appl. Phys. Lett. 74 (1999) 2549.