Effect of surface morphology of Ni thin film on the growth of aligned carbon nanotubes by microwave plasma-enhanced chemical vapor deposition

Journal of Applied Physics

Volumn 88, Issue 8, 2000, Pages 4898-4903

  Choi, Young Chul ^a   Shin, Young Min ^a   Lim, Seong Chu ^a   Bae, Dong Jae ^a   Lee, Young Hee ^a   Lee, Byung Soo ^a   Chung, Dong Chul ^b  

^a Chonbuk National University   (South Korea)

^b Woosuk University   (South Korea)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0001704772     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.1314614     Document Type: Article

References (32)

1. S. Iijima, Nature (London) 354, 56 (1991).
2. K. A. Dean and B. R. Chalamala, J. Appl. Phys. 85, 3832 (1999).
3. P. G. Collins and A. Zettl, Phys. Rev. B 55, 9391 (1997).
4. A. C. Dillon, K. B. Jones, T. A. Bekkedahl, C. H. Klang, D. S. Bethune, and M. J. Heben, Nature (London) 386, 377 (1997).
5. S. M. Lee et al., Synth. Met. 113, 209 (2000).
6. C. Liu, Y. Y. Fan, M. Liu, H. T. Cong, H. M. Cheng, and M. S. Dresselhaus, Science 286, 1127 (1999).
7. B. I. Yakobson, C. J. Brabec, and J. Bernholc, Phys. Rev. Lett. 76, 2511 (1996).
8. J. P. Salvetat, G. A. D. Briggs, J. M. Bonard, R. R. Bacsa, A. J. Kulik, T. Stockli, N. A. Burnham, and L. Forro, Phys. Rev. Lett. 82, 944 (1999).
9. J. W. Mintmire, B. I. Dunlap, and C. T. White, Phys. Rev. Lett. 68, 631 (1992).
10. N. Hamada, S. Sawada, and A. Oshiyama, Phys. Rev. Lett. 68, 1579 (1992).
11. A. Thess et al., Science 273, 483 (1996).
12. C. Journet, W. K. Maser, P. Bernier, A. Loiseau, M. Lamy de la Chapelle, S. Lefrant, P. Deniard, R. Lee, and J. E. Fischer, Nature (London) 388, 756 (1997).
13. Z. P. Huang, J. W. Xu, Z. F. Ren, J. H. Wang, M. P. Siegal, and P. N. Provencio, Appl. Phys. Lett. 73, 3845 (1998).
14. Y. C. Choi, Y. M. Shin, Y. H. Lee, B. S. Lee, G. S. Park, W. B. Choi, N. S. Lee, and J. M. Kim, Appl. Phys. Lett. 76, 2367 (2000).
15. Z. F. Ren, Z. P. Huang, J. W. Xu, J. H. Wang, P. Bush, M. P. Siegal, and P. N. Provencio, Science 282, 1105 (1998).
16. W. Z. Li, S. S. Xie, L. X. Qian, B. H. Chang, B. S. Zou, W. Y. Zhou, R. A. Zhao, and G. Wang, Science 274, 1701 (1996).
17. S. Fan, M. G. Chapline, N. R. Franklin, T. W. Tombler, A. M. Casell, and H. Dai, Science 283, 512 (1999).
18. C. J. Lee et al., Appl. Phys. Lett. 75, 1721 (1999).
19. Y. C. Choi, D. J. Bae, Y. H. Lee, B. S. Lee, I. T. Han, W. B. Choi, N. S. Lee, and J. M. Kim, Synth. Met. 108, 159 (2000).
20. B. Champman, Glow Discharge Processes (Wiley, New York, 1980), Chap. 6, p. 201.
21. Y. C. Choi, D. J. Bae, Y. H. Lee, B. S. Lee, G.-S. Park, W. B. Choi, N. S. Lee, and J. M. Kim, J. Vac. Sci. Technol. A 18, 1864 (2000).
22. S. S. Xie, B. H. Chang, W. Z. Li, Z. W. Pan, L. F. Sun, J. M. Mao, X. H. Chen, L. X. Qian, and W. Y. Zhou, Adv. Mater. 11, 1135 (1999), and reference therein.
23. O. M. Kuttel, O. Groening, C. Emmenegger, and L. Schlapbach, Appl. Phys. Lett. 73, 2113 (1998).
24. W. Li, H. Zhang, C. Wang, Y. Zhang, L. Xu, K. Zhu, and S. Xie, Appl. Phys. Lett. 70, 2684 (1997).
25. M. A. Pimenta, A. Marucci, S. A. Empedocles, M. G. Bawendi, E. B. Hanlon, A. M. Rao, P. C. Eklund, R. E. Smalley, G. Dresslhaus, and M. S. Dresselhaus, Phys. Rev. B 58, R16 016 (1998).
26. W. B. Choi et al., Appl. Phys. Lett. 75, 3129 (1999).
27. W. A. de Heer, J.-M. Bonard, K. Fauth, A. Chatelain, L. Forro, and D. Ugarte, Adv. Mater. 9, 87 (1997).
28. J.-M. Bonard, F. Maier, T. Stockli, W. A. de Heer, A. Chatelain, J.-P. Salvetat, and L. Forro, Ultramicroscopy 73, 7 (1998).
29. J. P. Barbour, W. W. Dolan, J. K. Trolan, E. E. Martin, and W. P. Dyke, Phys. Rev. 92, 45 (1953).
30. L. M. Baskin, O. I. Lvov, and G. N. Fursey, Phys. Status Solidi B 47, 49 (1971).
31. D. T. Carroll, P. Redlich, P. M. Ajayan, J.-C. Charlier, X. Blasé, A. DeVita, and R. Car, Phys. Rev. Lett. 78, 2811 (1997).
32. J.-M. Bonard, J.-P. Salvetat, T. Stockii, W. A. de Heer, L. Forro, and A. Chatelain, Appl. Phys. Lett. 73, 918 (1998).