Fluorinated silane self-assembled monolayers as resists for patterning indium tin oxide

Langmuir

Volumn 19, Issue 13, 2003, Pages 5273-5278

  Luscombe, Christine K ^a   Li, Hong Wei ^a   Huck, Wilhelm T S ^a   Holmes, Andrew B ^a  

^a UNIVERSITY OF CAMBRIDGE   (United Kingdom)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

FLUORINATED SILANE; INDIUM TIN OXIDE; PERFLUOROORGANOSILANES; SUPERCRITICAL CARBON DIOXIDE;

ADSORPTION; ATOMIC FORCE MICROSCOPY; CONTACT ANGLE; CYCLIC VOLTAMMETRY; FOURIER TRANSFORM INFRARED SPECTROSCOPY; MONOLAYERS; SELF ASSEMBLY; SILANES; SUBSTRATES; SURFACES; TEMPERATURE;

INDIUM COMPOUNDS;

EID: 0037805318     PISSN: 07437463     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/la0342114     Document Type: Article

References (66)

1. Yan, L.; Huck, W. T. S.; Whitesides, G. M. In Supramolecular Polymers; Ciferri, A., Ed.; Marcel Dekker: New York, 2000; p 435.
2. Ulman, A. Introduction to Thin Organic Films: From Langmuir - Blodgett to Self-Assembly; Academic: Boston, MA, 1991.
3. Mrksich, M.; Whitesides, G. M. Annu. Rev. Biophys. Biomol. Struct. 1996, 25, 55-78.
4. Whitesides, G. M.; Laibinis, P. E. Langmuir 1990, 6, 87-96.
5. Stewart, K. R.; Whitesides, G. M.; Godfried, H. P.; Silvera, I. F. Rev. Sci. Instrum. 1986, 57, 1381-1383.
6. (a) Häussling, L.; Michel, B.; Ringsdorf, H.; Rohrer, H. Angew. Chem., Int. Ed. Engl. 1991, 30, 569-572.
7. (b) Häussling, L.; Ringsdorf, H.; Schmitt, F.-J.; Knoll, W. Langmuir 1991, 7, 1837-1840.
8. (c) Spinke, J.; Liley, M.; Guder, H. J.; Angermaier, L.; Knoll, W. Langmuir 1993, 9, 1821-1825.
9. (d) Muller, W.; Ringsdorf, H.; Rump, E.; Wildburg, G.; Zhang, X.; Angermaier, L.; Knoll, W.; Liley, M.; Spinke, J. Science 1993, 262, 1706-1708.
10. (e) Prime, K. L.; Whitesides, G. M. Science 1991, 252, 1164-1167.
11. (a) Wolf, H.; Ringsdorf, H.; Delamarche, E.; Takami, T.; Kang, H.; Michel, B.; Gerber, C.; Jaschke, M.; Butt, H.-J.; Bamberg, E. J. Phys. Chem. 1995, 99, 7102-7107.
12. (b) Caldwell, W. B.; Campbell, D. J.; Chen, K. M.; Herr, B. R.; Mirkin, C. A.; Malik, A.; Durbin, M. K.; Dutta, P.; Huang, K. G. J. Am. Chem. Soc. 1995, 117, 6071-6082.
13. (c) Roscoe, S. B.; Kakkar, A. K.; Marks, T. J.; Malik, A.; Durbin, M. K.; Lin, W. P.; Wong, G. K.; Dutta, P. Langmuir 1996, 12, 4218-4223.
14. (d) Kim, E.; Whitesides, G. M.; Lee, L. K.; Smith, S. P.; Prentiss, M. Adv. Mater. 1996, 8, 139-142.
15. (a) Drawhorn, R. A.; Abbott, N. L. J. Phys. Chem. 1995, 99, 16511-16515.
16. (b) Gupta, V. K.; Abbott, N. L. Phys. Rev. 1996, 54, 4540-4543.
17. (a) Sondag-Huethorst, J. A. M.; van Helloputte, H. R. J.; Fokkink, L. G. J. Appl. Phys. Lett. 1994, 64, 285-287.
18. (b) Huang, J.; Hemminger, J. C. J. Am. Chem. Soc. 1993, 115, 3342-3343.
19. (c) Rogers, J. A.; Jackman, R. J.; Whitesides, G. M. Adv. Mater. 1997, 9, 475-477.
20. Green, J.-B. D.; MacDermott, M. T.; Porter, M. D.; Siperko, L. M. J. Phys. Chem. 1995, 99, 10960-10965.
21. Gardner, T. J.; Frisbie, C. D.; Wrighton, M. S. J. Am. Chem. Soc. 1995, 117, 6927-6933.
22. Appleyard, S. F. J.; Day, S. R.; Pickford, R. D.; Willis, M. R. J. Mater. Chem. 2000, 10, 169-173.
23. Meyer, T. J.; Meyer, G. J.; Pfennig, B. W.; Schoonover, J. R.; Timpson, C. J.; Wall, J. F.; Kobusch, C.; Chen, X. H.; Peek, B. M.; Wall, C. G.; Oh, W.; Erickson, B. W.; Bignozzi, C. A. Inorg. Chem. 1994, 33, 3952-3964.
24. Tanaka, T.; Honda, Y.; Sugi, M. Jpn. J. Appl. Phys. 1995, 34, 3250-3254.
25. Napier, M. E.; Thorp, H. H. Langmuir 1997, 13, 6342-6344.
26. Berlin, A.; Zotti, G.; Schiavon, G.; Zecchin, S. J. Am. Chem. Soc. 1998, 120, 13453-13460.
27. Zotti, G.; Schiavon, G.; Zecchin, S.; Berlin, A.; Pagani, G. Langmuir 1998, 14, 1728-1733.
28. Kondo, T.; Takechi, M.; Sato, Y.; Uosaki, K. J. Electroanal. Chem. 1995, 381, 203-209.
29. Yan, C.; Zharnikov, M.; Golzhauser, A.; Grunze, M. Langmuir 2000, 16, 6208-6215.
30. Oh, S.-Y.; Yun, Y.-J.; Kim, D.-Y.; Han, S.-H. Langmuir 1999, 15, 4690-4692.
31. Breen, T. L.; Fryer, P. M.; Nunes, R. W.; Rothwell, M. E. Langmuir 2002, 18, 194-197.
32. Chen, K.; Caldwell, W. B.; Mirkin, C. A. J. Am. Chem. Soc. 1993, 115, 1193-1194.
33. Hillebrandt, H.; Tanaka, M. J. Phys. Chem. B 2001, 105, 4270-4276.
34. Markovich, I.; Mandler, D. J. Electroanal. Chem. 2001, 500, 453-460.
35. St. John, P. M.; Craighead, H. G. J. Vac. Sci. Technol., B 1996, 14, 69-74.
36. Koide, Y.; Wang, Q. W.; Cui, J.; Benson, D. D.; Marks, T. J. J. Am. Chem. Soc. 2000, 122, 11266-11267.
37. (a) Gross, T.; Buchhauser, J.; Ludemann, H.-D. J. Chem. Phys. 1998, 109, 4518-4522.
38. (b) Etesse, P.; Zega, J. A.; Kobayashi, R. J. Chem. Phys. 1992, 97, 2022-2029.
39. Cooper, A. I. J. Mater. Chem. 2000, 10, 207-234 and references contained therein.
40. Holmes, A. B.; Huck, W. T. S.; Luscombe, C. K.; Fukushima, H.; Ishida, M.; Miyashita, S. U. S. Patent 2 197 879 2002.
41. Cao, C.; Fadeev, A. Y.; McCarthy, T. J. Langmuir 2001, 17, 757-761.
42. Fadeev, A. Y.; McCarthy, T. J. Langmuir 2000, 16, 7268-7274.
43. Sagiv, J. J. Am. Chem. Soc. 1980, 102, 92-98.
44. Tabushi, I.; Kurihara, K.; Naka, K.; Yamamura, K.; Hatakeyama, H. Tetrahedron Lett. 1987, 28, 4299-4302.
45. Yamamura, K.; Hatakeyama, H.; Naka, K.; Tabushi, I.; Kurihara, K. Chem. Commun. 1988, 79-81.
46. Wilson, R.; Schiffrin, D. J. Analyst 1995, 120, 175-178.
47. White, H. S.; Murray, R. W. Anal. Chem. 1979, 51, 236-239.
48. Wier, L. M.; Murray, R. W. J. Electrochem. Soc. 1979, 126, 617-623.
49. Moses, P. R.; Wier, L.; Murray, R. W. Anal. Chem. 1975, 47, 1882-1886.
50. Asanov, A. N.; Wilson, W. W.; Oldham, P. B. Anal. Chem. 1998, 70, 1156-1163.
51. Kim, J. S.; Friend, R. H.; Cacialli, F. Synth. Met. 2000, 111, 369-372.
52. Kim, J. S.; Friend, R. H.; Cacialli, F. J. Appl. Phys. 1999, 86, 2774-2778.
53. Johnson, R. E.; Dettre, R. H. Contact angle, Wettability and Adhesion; In ACS Advances in Chemistry Series; American Chemical Society: Washington, DC, 1964; Vol. 43.
54. Parikh, A. N.; Allara, D. L.; Ben Azouz, I.; Rondelez, F. J. Phys. Chem. 1994, 98, 7577-7590.
55. Maoz, R.; Sagiv, J. J. Colloid Interface Sci. 1984, 100, 465-496.
56. Kessel, C. R.; Granick, S. Langmuir 1991, 7, 532-538.
57. Harder, P.; Bierbaum, K.; Woell, C.; Granze, M.; Heid, S.; Effenberger, F. Langmuir 1997, 13, 445-454.
58. Lenk, T. J.; Hallmark, V. M.; Hoffmann, C. L.; Rabolt, J. F.; Castner, D. G.; Erdelen, C.; Ringsdorf, H. Langmuir 1994, 10, 4610-4617.
59. Bard, A. J.; Faulkner, L. R. Electrochemical Methods: Fundamentals and Applications, 2nd ed.; Wiley: New York, 1980.
60. Porter, M. D.; Bright, T. B.; Allara, D. L.; Chidsey, E. D. J. Am. Chem. Soc. 1987, 109, 3559-3568.
61. Dayton, M. A.; Brown, J. C.; Stutts, K. J.; Wightman, R. M. Anal. Chem. 1980, 52, 946-950.
62. Amatore, C.; Saveant, J. M.; Tessier, D. J. Electroanal. Chem. 1983, 147, 39-51.
63. Koide, Y.; Such, M. W.; Basu, R.; Evmenko, G.; Cui, J.; Dutta, P.; Hersam, M. C.; Marks, T. J. Langmuir 2003, 19, 86-93.
64. Micholson, R. S. Anal. Chem. 1965, 37, 1351-1355.
65. Nicholson, R. S.; Shain, I. Anal. Chem. 1964, 36, 706-723.
66. Wipf, D. O.; Kristensen, E. W.; Deakin, M. R.; Wightman, R. M. Anal. Chem. 1988, 60, 306-310.