X-ray photoelectron spectroscopic study of KrF excimer laser nitrided InP surface

Journal of Applied Physics

Volumn 90, Issue 12, 2001, Pages 5851-5855

  Akane, Toshimitsu ^a   Sugioka, Koji ^a   Midorikawa, Katsumi ^a   Dubowski, Jan J ^b   Aoki, Naoko ^c   Toyoda, Koichi ^c  

^a INST OF PHYS AND CHEMICAL RESEARCH   (Japan)

^b NATIONAL RESEARCH COUNCIL CANADA   (Canada)

^c TOKYO UNIVERSITY OF SCIENCE   (Japan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0035894167     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.1412837     Document Type: Article

References (28)

1. Y. Guldner, Appl. Phys. Lett. 40, 877 (1982).
2. R. Lai, P. K. Bhattacharya, D. Pavlidis, and T. Brock, Electron. Lett. 27, 365 (1991).
3. G. Sasaki, K. Koide, N. Kuwata, K. Ono, and K. Yoshida, IEEE Electron Device Lett. ED-13, 105 (1992).
4. C. J. Sandroff, R. N. Nottenburg, J.-C. Bischoff, and R. Bhat, Appl. Phys. Lett. 51, 33 (1987).
5. Y. Nannichi, J. Fan, H. Oigawa, and A. Koma, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 27, L2367 (1988).
6. M. S. Carpenter, M. R. Melloch, and T. E. Dungan, Appl. Phys. Lett. 53, 66 (1988).
7. C. J. Sandroff, M. S. Hedge, L. A. Farrow, R. Bhat, J. P. Harbison, and C. C. Chang, J. Appl. Phys. 67, 586 (1990).
8. N. Yoshida, S. Chichibu, T. Akane, M. Totsuka, H. Uji, S. Matsumoto, and H. Higuchi, Appl. Phys. Lett. 63, 3035 (1993).
9. R. Iyer, R. R. Chang, and D. L. Lile, Appl. Phys. Lett. 53, 134 (1988).
10. C. W. Wilmsen, K. M. Geib, J. Shin, R. Iyer, and D. L. Lile, J. Vac. Sci. Technol. B 7, 851 (1989).
11. Y. Tao, A. Yelon, E. Sacher, Z. H. Lu, and M. J. Graham, Appl. Phys. Lett. 60, 2669 (1992).
12. N. Yoshida, M. Totsuka, J. Ino, and S. Matsumoto, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 33, 1248 (1994).
13. S. Habibi, M. Totsuka, J. Tanaka, and S. Matsumoto, J. Vac. Sci. Technol. B 13, 1466 (1995).
14. H. Oigawa, J. Fan, Y. Nannichi, H. Sugahara, and M. Oshima, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 30, L322 (1991).
15. T. Hashizume, Appl. Phys. Lett. 75, 615 (1999).
16. X.-Y. Zhu, M. Wolf, and J. M. White, J. Vac. Sci. Technol. A 11, 838 (1993).
17. J. S. Pan, A. T. S. Wee, C. H. A. Huan, H. S. Tan, and K. L. Tan, J. Phys. D 29, 2997 (1996).
18. K. Kamimura, Y. Takase, and Y. Onuma, Appl. Surf. Sci. 41/42, 443 (1989).
19. M. Yamaguchi, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 19, L401 (1980).
20. P. Soukiassian, H. I. Starnberg, and T. Kendelewicz, Appl. Surf. Sci. 56-58, 772 (1992).
21. Q. Guo and O. Kato, J. Appl. Phys. 73, 7969 (1993).
22. R. Heydel, R. Matz, and W. Göpel, Appl. Surf. Sci. 69, 38 (1993).
23. K. Watanabe, J. Chem. Phys. 22, 1564 (1954).
24. M. F. Barthe, C. Perrin, L. Vivert, B. Dubreuil, and T. Gibert, Appl. Surf. Sci. 96-98, 359 (1996).
25. Y. C. Kao, T. P. E. Broekaet, H. Y. Liu, S. Tang, I. H. Ho, and G. B. Stringfellow, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 423, 335 (1996).
26. Y. H. Jeong, J. H. Lee, Y. H. Bae, and Y. T. Hong, Appl. Phys. Lett. 57, 2680 (1990).
27. C. S. Sundararaman, H. Lafontaine, S. Poulin, A. Mouton, and J. F. Currie, J. Vac. Sci. Technol. B 9, 1433 (1991).
28. G. Hollinger and C. Estrada, J. Microsc. Spectrosc. Electron. 13, 31 (1988).