Interface composition in magnetic tunnel junctions

Journal of Applied Physics

Volumn 89, Issue 11 II, 2001, Pages 6659-6661

  Schad, R ^a   Mayen, K ^a   McCord, J ^a   Allen, D ^a   Yang, D ^a,c   Tondra, M ^b   Wang, D ^b  

^a University of Alabama   (United States)

^b NVE CORPORATION   (United States)

^c Bruker Corporation   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0035356175     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.1356710     Document Type: Article

References (16)

1. M. Julliere, Phys. Lett. A 54A, 225 (1975).
2. J. S. Moodera, L. R. Kinder, T. M. Wong, and R. Meservey, Phys. Rev. Lett. 74, 3273 (1995).
3. J. M. Daughton, J. Appl. Phys. 81, 3758 (1997).
4. W. J. Gallagher et al., J. Appl. Phys. 81, 3741 (1997).
5. M. Tondra, J. M. Daughton, D. Wang, R. S. Beech, A. Fink, and J. A. Taylor, J. Appl. Phys. 83, 6688 (1998).
6. S. Zhang, P. M. Levy, A. C. Marley, and S. S. P. Parkin, Phys. Rev. Lett. 79, 3744 (1997).
7. J. M. MacLaren, W. H. Butler, and X.-G. Zhang, J. Appl. Phys. 83, 6521 (1998).
8. J. Barnas, S. F. Lee, P. Holody, L. F. Schelp, F. Petroff, and A. Fert, Acta Phys. Pol. 93, 387 (1998).
9. T. Mitsuzuka, K. Matsuda, A. Kamijo, and H. Tsuge, J. Appl. Phys. 85, 5807 (1999).
10. P. LeClair, J. T. Kohlhepp, A. A. Smits, H. J. M. Swagten, B. Koopmans, and W. J. M. de Jonge, J. Appl. Phys. 87, 6070 (2000).
11. E. Y. Chen, R. Whig, J. M. Slaughter, D. Cronk, J. Goggin, G. Steiner, and S. Tehrani, J. Appl. Phys. 87, 6061 (2000).
12. H. A. M. de Gronckel, H. Kohlstedt, and C. Daniels, Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. 70, 435 (2000).
13. K. Fuchs, Proc. Cambridge Philos. Soc. 34, 100 (1938).
14. M. Samant, S. S. P. Parkin, J. Luning, and J. Stöhr (these proceedings).
15. D. Allen, R. Schad, G. Zangari, I. Zana, M. Tondra, D. Wang, and D. Reed (these proceedings).
16. V. Da Costa, C. Tiusan, T. Dimopoulos, and K. Ounadjela, Phys. Rev. Lett. 85, 876 (2000).