Nucleation and growth kinetics in semiconductor chemical vapor deposition

Physical Review B - Condensed Matter and Materials Physics

Volumn 63, Issue 4, 2001, Pages

  Spitzmuller J ^a   Fehrenbacher, M ^a   Rauscher, H ^a   Behm, R J ^a  

^a UNIVERSITY OF ULM   (Germany)

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SILICON DERIVATIVE;

ARTICLE; CRYSTALLIZATION; DISSOCIATION; MOLECULAR DYNAMICS; SCANNING TUNNELING MICROSCOPY; SEMICONDUCTOR; VAPORIZATION;

EID: 0035131093     PISSN: 10980121     EISSN: 1550235X     Source Type: Journal    
DOI: 10.1103/PhysRevB.63.041302     Document Type: Article

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