Using higher flexural modes in non-contact force microscopy

Applied Surface Science

Volumn 157, Issue 4, 2000, Pages 337-342

  Pfeiffer, O ^a   Loppacher, C ^a   Wattinger, C ^a   Bammerlin, M ^a   Gysin, U ^a   Guggisberg, M ^a   Rast, S ^a   Bennewitz, R ^a   Meyer, E ^a   Guntherodt H J ^a  

^a UNIVERSITY OF BASEL   (Switzerland)

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ATOMIC FORCE MICROSCOPY; HEAT LOSSES; OSCILLATIONS; VACUUM TECHNOLOGY;

DYNAMIC FORCE MICROSCOPY (DFM); NONCONTACT FORCE MICROSCOPY; ULTRAHIGH VACUUM (UHV);

SILICON;

EID: 0033742954     PISSN: 01694332     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1016/S0169-4332(99)00548-6     Document Type: Article

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