Reduction of the transition temperature of C54 TiSi 2 through a Ta interlayer

Journal of the Korean Physical Society

Volumn 35, Issue SUPPL. 4, 1999, Pages

  Jung, Bokhee ^a   Kim, Young Do ^a   Jeon, Hyeongtag ^a   Yang, Woochul ^b   Nemanich, R J ^b  

^a Hanyang University   (South Korea)

^b NORTH CAROLINA STATE UNIVERSITY   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0033267887     PISSN: 03744884     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: None     Document Type: Article

References (16)

1. G. L. Miles, R. W. Mann and J. E. Bertsch, Thin Solid Films. 290, 469 (1996).
2. K. L. Saenger, C. Carbral, Jr., L. A. Clevenger, R. A. Roy and Wind, J. Appl. Phys. 78, 7040 (1995).
3. S. Lee, H. Lee and H. Jeon, Jpn. J. Appl. Phys. 36, 7317 (1997).
4. H. Jeon, C. A. Sukow, J. W. Honeycutt, G. A. Rozgonyi and R. J. Nemanich, J. Appl. Phys. 71, 4269 (1992).
5. R. Beyer, D. Coulman and P. Merchant, J. Appl. Phys. 61, 5110 (1987).
6. X.-H. Li, J. R. A. Carlsson, S. F. Gong and H. T. G. Hentzell, J. Appl. Phys. 72, 514 (1992).
7. R. K. Shukla and J. S. Multani, IEEE Multilevel Interconnection Conf., 470 (1987).
8. C. Y. Ting, F. M. d'Heurle, S. S. Iyer and P. M. Fryer, J. Electrochem. Soc. 133, 2621 (1986).
9. H. Kuwano, J. R. Phillips and J. W. Mayer, Appl. Phys. Lett. 56, 440 (1990).
10. C.-C Chen, Q. F. Wang, F. Jonckx, J.-S. Jenq and K. Maex, Mat. Res. Symp. Proc. 402, 89 (1996).
11. R. W. Mann, G. L. Miles, T. A. Knotts, D. W. Rakowski, L. A. Clevenger, J. M. E. Harper, F. M. d'Heurle and C. Cabral, Jr., Appl. Phys. Lett. 67, 3729 (1995).
12. A. Mouroux, S.-L. Zhang and C. S. Peterson, Phys. Rev. B56, 10614 (1997).
13. H. Jeon, H. Choi and T. Ahn, J. Korean Phys. Soc. 29, 781 (1996).
14. W. Lee and H. Jeon, J. Korean Phys. Soc. 30, 307 (1997).
15. B. Choi and H. Jeon, J. Korean Phys. Soc. 33, 579 (1998).
16. R. Dahan, J. Pelleg and L. Zevin, J. Appl. Phys. 67, 2885 (1990).