Investigations in the sheath region of a radio frequency biased inductively coupled discharge

Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films

Volumn 16, Issue 1, 1998, Pages 306-315

  Benck, E C ^a   Schwabedissen, A ^a   Gates, A ^a,b   Roberts, J R ^a  

^a NATIONAL INSTITUTE OF STANDARDS AND TECHNOLOGY   (United States)

^b MIAMI UNIVERSITY   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0032332338     PISSN: 07342101     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1116/1.580987     Document Type: Article

References (40)

1. J. H. Keller, Plasma Sources Sci. Teehnol. 5, 166 (1996).
2. J. R. Woodworth, M. E. Riley, D. C. Meister, B. P. Aragon, M. S. Le, and H. H. Sawin, J. Appl. Phys. 80, 304 (1996).
3. R. J. Hoekstra and M. J. Kushner, J. Appl. Phys. 79, 2275 (1996).
4. J. A. O'Neill, M. S. Barnes, and J. H. Keller, J. Appl. Phys. 73, 1621 (1993).
5. J. B. O. Caughman and W. M. Holber, J. Vac. Sci. Teehnol. A 11, 2897 (1993).
6. J. Hopwood, Plasma Sources Sci. Teehnol. 1, 109 (1992).
7. A. J. Perry, D. Vender, and R. W. Boswell, J. Vac. Sci. Teehnol. B 9, 661 (1991).
8. R. W. Boswell, A. J. Perry, and E. Emami, J. Vac. Sci. Technol. A 7, 3345 (1989).
9. J. Hopwood, Appl. Phys. Lett. 62, 940 (1993).
10. U. Kortshagen and M. Zethoff, Plasma Sources Sci. Technol. 4, 541 (1995).
11. P. Hargis Jr., K. E. Greenberg, P. A. Miller, J. B. Gerado, J. R. Torczynski, M. E. Riley, G. A. Hebner, J. R. Roberts, J. K. Olthoff, J. R. Whetstone, R. J. Van Brunt, M. A. Sobolewski, H. M. Anderson, M. P. Splichal, J. L. Mock, P. Bletzinger, A. Garscadden, R. A. Gottscho, G. Selwyn, M. Dalvie, J. E. Heidenreich, J. W. Butterbaugh, M. L. Brake, M. L. Passow, J. Pender, A. Lujan, M. E. Elta, D. B. Graves, H. H. Sawin, M. J. Kushner, J. T. Verdeyen, R. Horwath, and T. R. Turner, Rev. Sci. Instrum. 65, 140 (1994).
12. http://physics.nist.gov/rfcell
13. P. Miller, G. A. Hebner, K. E. Greenberg, P. D. Pochan, and B. P. Aragon, J. Res. Natl. Inst. Stand. Technol. 100, 427 (1995).
14. L. J. Mahoney, A. E. Wendt, E. Barrios, C. J. Richards, and J. L. Shohet, J. Appl. Phys. 76, 2041 (1994).
15. A. Schwabedissen, E. C. Benck, and J. R. Roberts, Phys. Rev. E 55, 3450 (1997).
16. M. Sobolewski, J. Res. Natl. Inst. Stand. Technol. 100, 341 (1995); IEEE Trans. Plasma Sci. 23, 1006 (1995).
17. M. Sobolewski, J. Res. Natl. Inst. Stand. Technol. 100, 341 (1995); IEEE Trans. Plasma Sci. 23, 1006 (1995).
18. J. R. Roberts, J. Res. Natl. Inst. Stand. Technol. 100, 353 (1995).
19. W. L. Wiese, M. W. Smith, and B. M. Miles, Atomic Transition Probabilities, Vol. II, Sodium through Calcium, NSRDS-NBS22 (1969), p. 193.
20. R. E. H. Clark, J. B. Mann, G. Csanak, and A. L. Merts, Los Alamos Report LA-UR-89-2675, II, Chap. III (1989).
21. U. Kortshagen, I. Pukropski, and M. Zethoff, J. Appl. Phys. 76, 2041 (1994).
22. M. A. Lieberman and A. J. Lichtenberg, Principles of Plasma Discharges and Materials Processing (Wiley, New York, 1994).
23. P. A. Chatterton, J. A. Rees, N. L. Wu, and K. Al-Assadi, Vacuum 42, 489 (1991).
24. V. A. Godyak, R. B. Piejak, and B. M. Alexandrovich, Plasma Sources Sci. Technol. 1, 36 (1992).
25. V. A. Godyak and N. Sternberg, Phys. Rev. A 42, 2299 (1990).
26. U. Elender, B. H. Nguyen Thi, and K. Wiesemann, Plasma Sources Sci. Technol. 5, 61 (1996).
27. B. P. Wood, M. A. Lieberman, and A. J. Lichtenberg, IEEE Trans. Plasma Sci. 23, 89 (1995).
28. K.-U. Riemann, J. Phys. D 24, 493 (1991).
29. M. M. Turner, Phys. Rev. Lett. 71, 1844 (1993).
30. V. A. Godyak, R. B. Piejak, and B. M. Alexandrovich, Plasma Sources Sci. Technol. 3, 169 (1994).
31. J. Hopwood, C. R. Guarnieri, S. J. Whitehair, and J. J. Cuomo, J. Vac. Sci. Technol. A 11, 147 (1993).
32. M. Malingre, Radio Sci. 19, 400 (1984).
33. G. A. Hebner, J. Appl. Phys. 80, 2624 (1996).
34. G. M. Sessler, Phys. Lett. 22, 363 (1966).
35. S. Watanabe and H. Tanaca, Plasma Phys. 15, 501 (1970).
36. A. D. Kuypers and H. J. Hopman, J. Appl. Phys. 67, 1235 (1990).
37. J. Liu, G. L. Huppert, and H. H. Sawin, J. Appl. Phys. 68, 3916 (1990).
38. A. Manenschijn and W. J. Goedheer, J. Appl. Phys. 69, 2923 (1991).
39. D. Martin and H. Oechsner, Vacuum 47, 1017 (1996).
40. M. Sobolewski and Y. Wang (unpublished).