Spatially resolved, excited state densities and neutral and ion temperatures in inductively coupled argon plasmas

Journal of Applied Physics

Volumn 80, Issue 5, 1996, Pages 2624-2636

  Hebner, G A ^a  

^a SANDIA NATIONAL LABORATORIES   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ABSORPTION SPECTROSCOPY; ARGON; ELECTRIC FIELDS; ELECTRODES; ELECTRON ENERGY LEVELS; ELECTRONIC DENSITY OF STATES; ENERGY TRANSFER; FLUORESCENCE; NITROGEN; TEMPERATURE MEASUREMENT; VELOCITY MEASUREMENT;

ELECTRON COLLISIONAL QUENCHING; EXCITED STATE DENSITIES; INDUCTIVELY COUPLED PLASMAS; ION TEMPERATURE; LASER INDUCED FLUORESCENCE; RADIATION TRAPPING; RADIOFREQUENCY POWER;

PLASMAS;

EID: 0030244288     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.363178     Document Type: Article

References (44)

1. J. Hopwood, Plasma Sources Sci. Technol. 1, 109 (1992).
2. P. A. Miller, G. A. Hebner, K. E. Greenberg, P. D. Pochan, and B. P. Aragon, J. Res. Natl. Int. Standard. Technol. 100, 427 (1995).
3. J. Hopwood, C. R. Guarnieri, S. J. Whitehair, and J. J. Cuomo, J. Vac. Sci. Technol. A 11, 152 (1993).
4. J. H. Keller, J. C. Foster, and M. S. Barnes, J. Vac. Sci. Technol. A 11, 2487 (1993).
5. V. I. Kolobov, D. F. Beale, L. J. Mahoney, and A. E. Wendt, Appl. Phys. Lett. 65, 537 (1994).
6. L. J. Mahoney, A. E. Wendt, E. Barrios, C. J. Richards, and J. L. Shohet, J. Appl. Phys. 76, 2041 (1994).
7. U. Kortshagen, I. Pukropski, and L. D. Tsendin, Phys. Rev. E 51, 6063 (1995).
8. J. Hopwood, C. R. Guarnieri, S. J. Whitehair, and J. J. Cuomo, J. Vac. Sci. Technol. A 11, 147 (1993).
9. J. A. Meyer and A. E. Wendt, J. Appl. Phys. 78, 90 (1995).
10. R. B. Piejak, V. A. Godyak, and B. M. Alexandrovich, Plasma Sources Sci. Technol. 1, 179 (1992).
11. V. A. Godyak, R. B. Piejak and B. M. Alexandrovich, Plasma Sources Sci. Technol. 3, 169 (1994).
12. U. Kortshagen and M. Zethoff, Plasma Sources Sci. Technol. 4, 541 (1995).
13. J. W. Woodworth, M. E. Riley, D. C. Meister, B. P. Aragon, M. S. Le, and H. H. Sawin, J. Appl. Phys. (to be published).
14. J. Hopwood, Appl. Phys. Lett. 62, 940 (1993).
15. D. F. Beale, A. E. Wendt, and L. J. Mahoney, J. Vac. Sci. Technol. A 12, 2775 (1994).
16. J. A. O'Neill, M. S. Barnes, and J. H. Keller, J. Appl. Phys. 73, 1621 (1993).
17. K. U. Riemann, Phys. Fluids 24, 2163 (1981).
18. M. M. Turner, Phys. Rev. Lett. 71, 1844 (1993).
19. R. A. Stewart, P. Vitello, D. B. Graves, E. F. Jaeger, and L. A. Berry, Plasma Sources Sci. Technol. 4, 36 (1995).
20. V. Vahedi, M. A. Lieberman, G. DiPeso, T. D. Rognilien, and D. Hewett, J. Appl. Phys. 78, 1 (1995).
21. R. S. Wise, D. P. Lymberopoulos, and D. J Economou (unpublished).
22. R. J. Hokstra and M. J. Kushner, J. Appl. Phys. 79, 2275 (1996).
23. J. Johannes, T. Bartel, G. A. Hebner, R. Wise, and D. J. Economou, American Vacumn Society Fall Meeting, Minneapolos MN, 1995.
24. E. Meeks, A. Ting, J. W. Shon, and C. Moen, American Vacumn Society Fall Meeting, Minneapolis, MN, 1995.
25. M. E. Riley, Sandia National Laboratories Report, SAND95-0775.
26. E. A. Den Hartog, H. Persing, and R. C. Woods, Appl. Phys. Lett. 57, 661 (1990).
27. K. P. Giapis, N. Sadeghi, J. Margot, R. A. Gottscho, and T. C. J. Lee, J. Appl. Phys. 73, 7188 (1993).
28. T. Nakano, N. Sadeghi, D. J. Trevor, R. A. Gottscho and R. W. Boswell, J. Appl. Phys. 72, 3384 (1992).
29. J. S. McKillop, J. C. Forster, and W. M. Holber, Appl. Phys. Lett. 55, 30 (1989).
30. J. S. McKillop, J. C. Forster, and W. M. Holber, Appl. Phys. Lett. 55, 30 (1989).
31. D. V. Tsu, R. T. Young, S. R. Ovhinsky, C. C. Klepper and L. A. Berry, J. Vac. Sci. Technol. A 13, 935 (1995).
32. P. J. Hargis, Jr., K. E. Greenberg, P. A. Miller, J. B. Gerardo, J. R. Torczynski, M. E. Riley, G. A. Hebner, J. R. Roberts, J. K. Olthoff, J. R. Whetstone, R. J. Van Brunt, M. A. Sobolewski, H. M. Anderson, M. P. Splichal, J. L. Mock, P. Bletzinger, A. Garscadden, R. A. Gottscho, G. Selwyn, M. Dalvie, J. E. Heidenreich, J. W. Butterbaugh, M. L. Brake, M. L. Passow, J. Pender, A. Lujan, M. E. Elta, D. B. Graves, H. H. Sawin, M. J. Kushner, J. T. Verdeyen, R. Horwath, and T. R. Turner, Rev. Sci. Instrum. 65, 140 (1994).
33. P. A. Miller, H. A. Anderson, and M. P. Splichal, J. Appl. Phys. 71, 1171 (1992).
34. K. E. Greenberg and G. A. Hebner, J. Appl. Phys. 73, 8126 (1993).
35. G. A. Hebner, K. E. Greenberg, and M. E. Riley, J. Appl. Phys. 76, 4036 (1994).
36. A. C. G. Mitchell and M. W. Zemansky, Resonance Radiation and Excited Atoms (Cambridge University Press, New York, 1934), Chap. 3.
37. F. Chatain, J. Derouard and N. Sadeghi, in 48th Gaseous Electronics Conference, Berkeley CA, October 9-13, 1995, paper HB-3.
38. K. Bockasten, J. Opt. Soc. Am. 51, 943 (1961).
39. B. K. McMillin and M. R. Zachariah, J. Appl. Phys. 77, 5538 (1995).
40. T. Holstein, Phys. Rev. 72, 1212 (1947).
41. T. Holstein, Phys. Rev. 83, 1159 (1951).
42. T. Nakano, N. Sadeghi, and R. A. Gottscho, Appl. Phys. Lett. 58, 458 (1991).
43. J. A. Hornbeck, Phys. Rev. 84, 615 (1951).
44. W. H. Cramer, J. Chem. Phys. 30, 641 (1959).