Very-low-operating-voltage organic light-emitting diodes using a p-doped amorphous hole injection layer

Applied Physics Letters

Volumn 78, Issue 4, 2001, Pages 410-412

  Zhou, X ^a   Pfeiffer, M ^a   Blochwitz, J ^a   Werner, A ^a   Nollau, A ^a   Fritz, T ^a   Leo, K ^a  

^a DRESDEN UNIVERSITY OF TECHNOLOGY   (Germany)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0012393478     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.1343849     Document Type: Article

References (27)

1. J. R. Sheats, H. Antoniadis, M. Hueschen, W. Leonard, J, Miller, R. Moon, D. Roitman, and A. Stocking, Science 273, 884 (1996).
2. Z. Shen, P. E. Burrows, V. Bulovic, S. R. Forrest, and M. E. Thompson, Science 276, 2009 (1997).
3. R. H. Friend, R. W. Gymer, A. B. Holmes, J. H. Burroughes, R. N. Marks, C. Taliani, D. D. C. Bradley, D. A. Dos Santos, J. L. Bredas, M. Logdlund, and W. R. Salaneck, Nature (London) 397, 121 (1999).
4. C. W. Tang and S. A. Van Slyke, Appl. Phys. Lett. 51, 913 (1987).
5. C. W. Tang, S. A. Van Slyke, and C. H. Chen. J. Appl. Phys. 65, 3610 (1989).
6. X. Zhou, J. He, L. S. Liao, M. Lu, Z. H. Xiong, X. M. Ding, X. Y. Hou, F. G. Tao, C. E. Zhou, and S. T. Lee, Appl. Phys. Lett. 74, 609 (1999).
7. X. Zhou, J. He, L. S. Liao, M. Lu, X. M. Ding, X. Y. Hou, X. M. Zhang, X. Q. He, and S. T. Lee, Adv. Mater. 12, 265 (2000).
8. S. A. Van Slyke and C. W. Tang, U.S. Patent No. 4,720,432 (1988).
9. C. Hosokawa, H. Higashi, H. Nakamura, and T. Kusumoto, Appl. Phys. Lett. 67, 3853 (1995).
10. S. A. Van Slyke, C. H. Chen. and C. W. Tang, Appl. Phys. Lett. 69, 2160 (1996).
11. J. Shi and C. W. Tang, Appl. Phys. Lett. 70, 1665 (1997).
12. L. S. Hung, C. W. Tang, and M. G. Mason, Appl. Phys. Lett. 70, 152 (1997).
13. J. Kido and Y. Lizumi, Appl. Phys. Lett. 73, 2721 (1998).
14. Y. Shirota, Y. Kuwabara, H. Inada, T. Wakimoto, H. Nakada, Y. Yonemoto, S. Kawami, and K. Imai, Appl. Phys. Lett. 65, 807 (1994).
15. Shirota, Y. Kuwabara, D. Okuda, R. Okuda, H. Ogawa, H. Inada, T. Wakimoto, H. Nukada, Y. Yonemoto, S. Kawami, and K. Imai, J. Lumin, 72-74, 985 (1997).
16. C. Gieheler, H. Antoniadis, D. D. C. Bradley, and Y. Shirota, J. Appl. Phys. 85, 608 (1999).
17. C. Giebeler, H. Antoniadis, D. D. C. Bradley, and Y. Shirota, Appl. Phys. Letl. 72, 2448 (1998).
18. Y. Shirota, T. Kohata, and N. Noma, Chem. Lett. 1989, 1145.
19. Kido and T. Matsumoto, Appl. Phys. Lett. 73, 2866 (1998).
20. A. Yamamori, C. Adaehi, T. Koyama, and Y. Taniguchi, Appl. Phys. Lett. 72, 2147 (1998).
21. J. Blochwitz, M. Pfeiffer, T. Fritz, and K. Leo, Appl. Phys. Lett. 73, 729 (1998).
22. M. Pfeiffer, A. Beyer, T. Fritz, and K. Leo, Appl. Phys. Lett. 73, 3202 (1998).
23. X. Zhou, J. Blochwitz, M. Pfeiffer, A. Nollau, T. Friu, and K. Leo (unpublished).
24. 2. (http:// www.edtltd.co.uk/newresults.htm).
25. G. E. Jabbour, Y. Kawabe, S. E. Shaheen, J. F. Wang, M. M. Morell, B. Kippelen, and N. Peyghambarian, Appl. Phys. Lett. 71, 1762 (1997).
26. H. Tang, F. Li, and J. Shinar, Appl. Phys. Lett. 71, 2560 (1997).
27. V. Choong, S. Shi, J. Curless, C. L. Shieh, H. C. Lee, F. So. J. Shen, and J. Yang, Appl. Phys. Lett. 75, 172 (1999).