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Journal of Applied Physics

Volumn 88, Issue 7, 2000, Pages 4091-4096

Effect of O:Er concentration ratio on the structural, electrical, and optical properties of Si:Er:O layers grown by molecular beam epitaxy

(9) Scalese, S a Franzo G a Mirabella, S a Re, M a Terrasi, A a Priolo, F a Rimini, E a Spinella, C b Carnera, A c

a INFM (Italy)

b CNR IMETEM (Italy)

c UNIVERSITY OF PADOVA (Italy)

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EID: 0008048656 PISSN: 00218979 EISSN: None Source Type: Journal
DOI: 10.1063/1.1308093 Document Type: Article

Times cited : (27)

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* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.