-
1
-
-
2442609542
-
-
Nakamura, S.; Senoh, M.; Nagamura, S. I.; Iwasa, N.; Yamada, T.; Matsushita, T.; Sugimoto, Y; Kiyoku, H. Appl. Phys. Lett. 1997, 70, 868.
-
(1997)
Appl. Phys. Lett.
, vol.70
, pp. 868
-
-
Nakamura, S.1
Senoh, M.2
Nagamura, S.I.3
Iwasa, N.4
Yamada, T.5
Matsushita, T.6
Sugimoto, Y.7
Kiyoku, H.8
-
2
-
-
0028383203
-
-
Yoshida, S.; Sasaki, M.; Kawanishi, H. J. Cryst. Growth 1994, 136, 37.
-
(1994)
J. Cryst. Growth
, vol.136
, pp. 37
-
-
Yoshida, S.1
Sasaki, M.2
Kawanishi, H.3
-
5
-
-
0029287969
-
-
Khan, M. A.; Chen, Q.; Skogman, R. A.; Kuznia, J. N. Appl. Phys. Lett. 1995, 66, 2046.
-
(1995)
Appl. Phys. Lett.
, vol.66
, pp. 2046
-
-
Khan, M.A.1
Chen, Q.2
Skogman, R.A.3
Kuznia, J.N.4
-
6
-
-
0029377278
-
-
Nakamura, S.; Senoh, M.; Iwasa, N.; Nagamura, S. I. Appl. Phys. Lett. 1995, 67, 1868.
-
(1995)
Appl. Phys. Lett.
, vol.67
, pp. 1868
-
-
Nakamura, S.1
Senoh, M.2
Iwasa, N.3
Nagamura, S.I.4
-
7
-
-
0030081829
-
-
Nakamura, S.; Senoh, M.; Nagamura, S. I.; Iwasa N.; Yamada, T.; Matsushita, T.; Kiyoku, H.; Sugimoto, Y. Jpn. J. Appl. Phys.1996, 35, L217.
-
(1996)
Jpn. J. Appl. Phys.
, vol.35
-
-
Nakamura, S.1
Senoh, M.2
Nagamura, S.I.3
Iwasa, N.4
Yamada, T.5
Matsushita, T.6
Kiyoku, H.7
Sugimoto, Y.8
-
8
-
-
0000347988
-
-
Nakamura, S.; Senoh, M.; Nagahama, S.; Iwasa, N.; Yamada, T.; Matsushita, T.; Kiyoku, H.; Sugimoto, Y.; Kiyoku, H. Appl. Phys. Lett. 1997, 70, 1417.
-
(1997)
Appl. Phys. Lett.
, vol.70
, pp. 1417
-
-
Nakamura, S.1
Senoh, M.2
Nagahama, S.3
Iwasa, N.4
Yamada, T.5
Matsushita, T.6
Kiyoku, H.7
Sugimoto, Y.8
Kiyoku, H.9
-
9
-
-
0030645822
-
-
Keller, S.; Keller, B. P.; Kapolnek, D.; Mishra, U. K.; Denbaars, S. P.; Shmagin, I. K.; Kolbas, R. M.; Krishnankutty, S. J. Cryst. Growth 1997, 170, 349.
-
(1997)
J. Cryst. Growth
, vol.170
, pp. 349
-
-
Keller, S.1
Keller, B.P.2
Kapolnek, D.3
Mishra, U.K.4
Denbaars, S.P.5
Shmagin, I.K.6
Kolbas, R.M.7
Krishnankutty, S.8
-
11
-
-
0007812494
-
-
Lei, T.; Moustakas, T. D.; Graham, R. J.; He, Y.; Berkowrtz, S. J. J. Appl. Phys. 1992, 71, 4933.
-
(1992)
J. Appl. Phys.
, vol.71
, pp. 4933
-
-
Lei, T.1
Moustakas, T.D.2
Graham, R.J.3
He, Y.4
Berkowrtz, S.J.5
-
12
-
-
0027646593
-
-
Strite, S.; Lin, M. E.; Morkoc, H. Thin Solid Films 1993, 231, 197.
-
(1993)
Thin Solid Films
, vol.231
, pp. 197
-
-
Strite, S.1
Lin, M.E.2
Morkoc, H.3
-
13
-
-
21544461610
-
-
Morkoc, H.; Strite, S.; Gao, G. B.; Lin, M. E.; Sverdlov, B.; Burns, B. J. Appl. Phys. 1994, 76, 1363.
-
(1994)
J. Appl. Phys.
, vol.76
, pp. 1363
-
-
Morkoc, H.1
Strite, S.2
Gao, G.B.3
Lin, M.E.4
Sverdlov, B.5
Burns, B.6
-
15
-
-
0002262677
-
-
Yang X. H.; Schmidt, T. J.; Shan, W.; Song, J. J.; Goldenberg, B. Appl. Phys. Lett. 1995, 66, 1.
-
(1995)
Appl. Phys. Lett.
, vol.66
, pp. 1
-
-
Yang, X.H.1
Schmidt, T.J.2
Shan, W.3
Song, J.J.4
Goldenberg, B.5
-
16
-
-
0029346363
-
-
Kim, S. T.; Amano, H.; Akasaki, I. Appl. Phys. Lett. 1995, 67, 267.
-
(1995)
Appl. Phys. Lett.
, vol.67
, pp. 267
-
-
Kim, S.T.1
Amano, H.2
Akasaki, I.3
-
17
-
-
0015571420
-
-
Yim W. M.; Stotko, E. J.; Zanzucchi, P. J.; Pankove, J. I.; Ettenberg, M.; Gilbert, S. L. J. Appl. Phys. 1973, 44, 292.
-
(1973)
J. Appl. Phys.
, vol.44
, pp. 292
-
-
Yim, W.M.1
Stotko, E.J.2
Zanzucchi, P.J.3
Pankove, J.I.4
Ettenberg, M.5
Gilbert, S.L.6
-
19
-
-
84984333538
-
-
Marasino, L. A.; Pichugin, I. G.; Tlaczala, M. Krist. Technol. 1977, 12, 541.
-
(1977)
Krist. Technol.
, vol.12
, pp. 541
-
-
Marasino, L.A.1
Pichugin, I.G.2
Tlaczala, M.3
-
21
-
-
77956669164
-
-
Paisley, M. J.; Sitar, Z.; Posthill, J. B.; Davis, R. F. J. Vac. Sci. Technol. A 1989, 7, 701.
-
(1989)
J. Vac. Sci. Technol. A
, vol.7
, pp. 701
-
-
Paisley, M.J.1
Sitar, Z.2
Posthill, J.B.3
Davis, R.F.4
-
22
-
-
0006457850
-
-
Detchprohm, T.; Hiramatsu, K.; Sawaki, I.; Akasaki, I. J. Cryst. Growth, 1994, 137, 171.
-
(1994)
J. Cryst. Growth
, vol.137
, pp. 171
-
-
Detchprohm, T.1
Hiramatsu, K.2
Sawaki, I.3
Akasaki, I.4
-
23
-
-
0003766698
-
-
Baixia, L.; Yinkui, L.; Yi, L. J. Mater. Chem. 1993, 3, 117.
-
(1993)
J. Mater. Chem.
, vol.3
, pp. 117
-
-
Baixia, L.1
Yinkui, L.2
Yi, L.3
-
24
-
-
10444280821
-
-
Boyd, D. C.; Haasch, R. T.; Mantel, D. R.; Schulze, R. K.; Evans, J. F.; Gladfelter, W. L. Chem. Mater. 1989, 1, 119.
-
(1989)
Chem. Mater.
, vol.1
, pp. 119
-
-
Boyd, D.C.1
Haasch, R.T.2
Mantel, D.R.3
Schulze, R.K.4
Evans, J.F.5
Gladfelter, W.L.6
-
25
-
-
0043209288
-
-
Khan, M. A.; Kuznia, J. N.; Van Hove, J. M.; Olson, D. T. Appl. Phys. Lett. 1991, 58, 526.
-
(1991)
Appl. Phys. Lett.
, vol.58
, pp. 526
-
-
Khan, M.A.1
Kuznia, J.N.2
Van Hove, J.M.3
Olson, D.T.4
-
26
-
-
0000164534
-
-
Miehr, A.; Mattner, M. R.; Fischer, R. A. Organometallics 1996, 15, 2053.
-
(1996)
Organometallics
, vol.15
, pp. 2053
-
-
Miehr, A.1
Mattner, M.R.2
Fischer, R.A.3
-
29
-
-
0021513561
-
-
Kawabata, T.; Matsuda, T.; Koike, S. J. Appl. Phys. 1981, 56, 2367.
-
(1981)
J. Appl. Phys.
, vol.56
, pp. 2367
-
-
Kawabata, T.1
Matsuda, T.2
Koike, S.3
-
32
-
-
33751156434
-
-
Lakhotia, V.; Neumayer, D. A.; Cowley, A. H.; Jones, R. A.; Ekerdt, J. G. Chem. Mater. 1995, 7, 546.
-
(1995)
Chem. Mater.
, vol.7
, pp. 546
-
-
Lakhotia, V.1
Neumayer, D.A.2
Cowley, A.H.3
Jones, R.A.4
Ekerdt, J.G.5
-
33
-
-
0542451184
-
-
Gordon, R. G.; Hoffman, D. M.; Riaz, U. Mater. Res. Soc. Proc. 1991, 204, 95.
-
(1991)
Mater. Res. Soc. Proc.
, vol.204
, pp. 95
-
-
Gordon, R.G.1
Hoffman, D.M.2
Riaz, U.3
-
36
-
-
0000282225
-
-
Neumayer, D. A.; Cowley, A. H.; Decken, A.; Jones R. A.; Lakhotia, L.; Ekerdt, J. G. J. Am. Chem. Soc. 1995, 117, 5893.
-
(1995)
J. Am. Chem. Soc.
, vol.117
, pp. 5893
-
-
Neumayer, D.A.1
Cowley, A.H.2
Decken, A.3
Jones, R.A.4
Lakhotia, L.5
Ekerdt, J.G.6
-
37
-
-
0025838428
-
-
Ho, K. L.; Jensen, K. F.; Hwang, J.-W.; Gladfelter, W. L.; Evans, J. F. J. Cryst. Growth 1991, 107, 376.
-
(1991)
J. Cryst. Growth
, vol.107
, pp. 376
-
-
Ho, K.L.1
Jensen, K.F.2
Hwang, J.-W.3
Gladfelter, W.L.4
Evans, J.F.5
-
38
-
-
0024607862
-
-
Interrante, L. V.; Lee, W.; McConnell, M.; Lewis, N.; Hall, E. J. Electrochem. Soc. 1989, 136, 472.
-
(1989)
J. Electrochem. Soc.
, vol.136
, pp. 472
-
-
Interrante, L.V.1
Lee, W.2
McConnell, M.3
Lewis, N.4
Hall, E.5
-
39
-
-
0039446405
-
-
Park, H. S.; Moktari, M.; Roesky, H. W. Chem. Vap. Deposition 1996, 2, 135.
-
(1996)
Chem. Vap. Deposition
, vol.2
, pp. 135
-
-
Park, H.S.1
Moktari, M.2
Roesky, H.W.3
-
40
-
-
0030106052
-
-
Miehr, A.; Ambacher, O.; Rieger, W.; Metzger, T.; Born, E.; Fischer, R. A. Chem. Vap. Deposition 1996, 2, 51.
-
(1996)
Chem. Vap. Deposition
, vol.2
, pp. 51
-
-
Miehr, A.1
Ambacher, O.2
Rieger, W.3
Metzger, T.4
Born, E.5
Fischer, R.A.6
-
42
-
-
0542429287
-
-
JCPDS International Center for Diffraction Data, Swartmore, PA, 1992, Card No. (2-1078) hexagonal GaN
-
JCPDS International Center for Diffraction Data, Swartmore, PA, 1992, Card No. (2-1078) hexagonal GaN.
-
-
-
-
43
-
-
0542381738
-
-
JCPDS International Center for Diffraction Data, Swartmore, PA, 1992, Card No. (5-0601) Gallium
-
JCPDS International Center for Diffraction Data, Swartmore, PA, 1992, Card No. (5-0601) Gallium.
-
-
-
-
44
-
-
25344472313
-
-
Hwang, J.-W.; Campbell, J. P.; Kozubowski, J.; Hanson, S. A.; Evans, J. F.; Gladfelter, W. L. Chem. Mater. 1995, 7, 515.
-
(1995)
Chem. Mater.
, vol.7
, pp. 515
-
-
Hwang, J.-W.1
Campbell, J.P.2
Kozubowski, J.3
Hanson, S.A.4
Evans, J.F.5
Gladfelter, W.L.6
-
46
-
-
0025436121
-
-
Matsuoka, T.; Sasaki, T.; Katsui, A. Optoelectronics Device & Technologies (OP-DET) 1990, 5, 53.
-
(1990)
Optoelectronics Device & Technologies (OP-DET)
, vol.5
, pp. 53
-
-
Matsuoka, T.1
Sasaki, T.2
Katsui, A.3
-
47
-
-
21544466840
-
-
Powell, R. C.; Lee, N. E.; Kim, Y. W.; Greene, J. E. J. Appl. Phys. 1993, 73, 189.
-
(1993)
J. Appl. Phys.
, vol.73
, pp. 189
-
-
Powell, R.C.1
Lee, N.E.2
Kim, Y.W.3
Greene, J.E.4
-
49
-
-
84897062779
-
-
Detchprohm, T.; Hiramatsu, K.; Itoh, K.; Akasaki, I. Jpn. J. Appl. Phys. 1992, 31, L1454.
-
(1992)
Jpn. J. Appl. Phys.
, vol.31
-
-
Detchprohm, T.1
Hiramatsu, K.2
Itoh, K.3
Akasaki, I.4
|