Depth distribution of luminescent Si nanocrystals in Si implanted SiO2 films on Si

Journal of Applied Physics

Volumn 86, Issue 2, 1999, Pages 759-763

  Brongersma, M L ^a   Polman, A ^a   Min, K S ^b   Atwater, H A ^b  

^a FOM INSTITUTE AMOLF   (Netherlands)

^b NONE

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0001221863     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.370800     Document Type: Article

References (25)

1. S. Tiwari, F. Rana, H. Hanafi, A. Hartstein, E. Crabbe, and K. Chan, Appl. Phys. Lett. 68, 1377 (1996).
2. K. D. Hirschman, L. Tsybeskov, S. D. Duttagupta, and P. M. Fauchet, Nature (London) 384, 338 (1996).
3. Y. Kanemitsu, Phys. Rep. 263, 1 (1995).
4. M. L. Brongersma, K. S. Min, E. Boer, T. Tambo, A. Polman, and H. A. Atwater, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 486, (1998).
5. T. Shimizu-Iwayama, M. Oshima, T. Niimi, S. Nakao, K. Saitoh, T. Fujita, and N. Itoh, J. Phys.: Condens. Matter 5, 375 (1993).
6. J. G. Zhu, C. W. White, J. D. Budai, S. P. Withrow, and Y. Chen, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 358, 175 (1995).
7. G. Ghislotti, B. Nielsen, P. Asoka-Kumar, K. G. Lynn, A. Gambhir, L. F. Di Mauro, and C. E. Bottani, J. Appl. Phys. 79, 8660 (1996).
8. K. S. Min, K. V. Shcheglov, C. M. Yang, H. A. Atwater, M. L. Brongersma, and A. Polman, Appl. Phys. Lett. 69, 2033 (1996).
9. J. Linnros, A. Galeckas, N. Lalic, and V. Grivickas, Thin Solid Films 297, 167 (1997).
10. L. Rebohle, L. Borany, R. A. Yankov, W. Skorupa, I. E. Tyschenko, H. Fröb, and K. Leo, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 486, (1998).
11. M. S. Hybertsen, Phys. Rev. Lett. 72, 1514 (1994).
12. C. Delerue, G. Allan, and M. Lannoo, Phys. Rev. B 48, 11024 (1993).
13. J. P. Biersack and L. J. Haggmark, Nucl. Instrum. Methods 174, 257 (1980).
14. Quick Reference Manual for Si Integrated Circuit Technology, edited by W. E. Beadle, J. C. C. Tsai, and R. D. Plummer (Wiley, New York, 1985).
15. R. T. Collins, P. M. Fauchet, and M. A. Tischler, Phys. Today 1, 24 (1997).
16. J. C. Maxwell-Garnett, Philos. Trans. R. Soc. London 203, 385 (1904).
17. M. L. Brongersma, M. J. A. de Dood, K. S. Min, H. A. Atwater, and A. Polman (unpublished).
18. L. A. Nesbit, Appl. Phys. Lett. 46, 38 (1985).
19. J. von Borany, R. Grötzschel, K. H. Heinig, W. Matz, B. Schmidt, and W. Skorupa, Appl. Phys. Lett. 71, 3215 (1997).
20. Th. Förster, in Comparative Effects of Radiation, edited by M. Burton, J. S. Kirby-Smith, and J. L. Magee (Wiley, New York, 1960), p. 301.
21. D. L. Dexter, J. Chem. Phys. 21, 836 (1953).
22. C. R. Kagan, C. B. Murray, M. Nirmal, and M. G. Bawendi, Phys. Rev. Lett. 76, 1517 (1996).
23. J. C. Vial, A. Bsiesy, F. Gaspard, R. Herino, M. Ligeon, F. Muller, R. Romestain, and R. M. Macfarlane, Phys. Rev. B 45, 14171 (1992).
24. I. Mihalcescu, J. C. Vial, and R. Romestain, Phys. Rev. Lett. 80, 3392 (1998).
25. E. Snoeks, A. Lagendijk, and A. Polman, Phys. Rev. Lett. 74, 2459 (1995).