Formation of large positive silicon-cluster ions in a remote silane plasma

Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films

Volumn 17, Issue 4, 1999, Pages 1531-1535

  Kessels, W M M ^a   Leewis, C M ^a   Leroux, A ^a   Van De Sanden, M C M ^a   Schram, D C ^a  

^a EINDHOVEN UNIVERSITY OF TECHNOLOGY   (Netherlands)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0001187722     PISSN: 07342101     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1116/1.581847     Document Type: Article

References (26)

1. W. M. M. Kessels, M. C. M. van de Sanden, and D. C. Schram, Appl. Phys. Lett. 72, 2397 (1998).
2. W. M. M. Kessels, R. J. Severens, M. C. M. van de Sanden, and D. C. Schram, J. Non-Cryst. Solids 227-230, 133 (1998).
3. M. L. Mandich and W. D. Reents, Jr., J. Chem. Phys. 90, 3121 (1989).
4. M. L. Mandich, W. D. Reents, Jr., and K. D. Kolenbrander, J. Chem. Phys. 92, 437 (1990).
5. M. L. Mandich and W. D. Reents, Jr., J. Chem. Phys. 95, 7360 (1991).
6. W. D. Reents, Jr. and M. L. Mandich, J. Chem. Phys. 96, 4429 (1992).
7. M. C. M. van de Sanden, J. M. de Regt, and D. C. Schram, Plasma Sources Sci. Technol. 3, 501 (1994).
8. E. W. Peterson and L. Talbot, AIAA J. 8, 2215 (1970).
9. W. M. M. Kessels, C. M. Leewis, M. C. M. van de Sanden, and D. C. Schram (in preparation).
10. M. C. M. van de Sanden, R. J. Severens, W. M. M. Kessels, R. F. G. Meulenbroeks, and D. C. Schram, J. Appl. Phys. 84, 2426 (1998).
11. J. Perrin, O. Leroy, and M. C. Bordage, Contrib. Plasma Phys. 36, 1 (1996).
12. I. Haller, Appl. Phys. Lett. 37, 282 (1980).
13. H. A. Weakliem, R. D. Estes, and P. A. Longeway, J. Vac. Sci. Technol. A 5, 29 (1987).
14. J. M. S. Henis, G. W. Stewart, M. K. Tripodi, and P. P. Gaspar, J. Chem. Phys. 57, 389 (1972).
15. I. Haller, J. Vac. Sci. Technol. A 1, 1376 (1983).
16. K. Raghavachari and V. Logovinsky, Phys. Rev. Lett. 55, 2853 (1985).
17. Ch. Hollenstein, A. A. Howling, C. Courteille, J. L. Dorier, L. Sansonnens, D. Magni, and H. Müller, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 507 (1998).
18. Ch. Hollenstein, A. A. Howling, C. Courteille, D. Magni, S. Scholz Odermatt, G. M. W. Kroesen, N. Simons, W. de Zeeuw, and W. Schwarzenbach, J. Phys. D 31, 74 (1998).
19. J. A. Theil and G. Powell, J. Appl. Phys. 75, 2652 (1994).
20. G. M. W. Kroesen, D. C. Schram, A. T. M. Wilbers, and G. J. Meeusen, Contrib. Plasma Phys. 31, 27 (1991).
21. H. Murakami and T. Kanayama, Appl. Phys. Lett. 67, 2341 (1995).
22. M. O. Watanabe, H. Murakami, T. Miyazaki, and T. Kanayama, Appl. Phys. Lett. 71, 1207 (1997).
23. M. G. H. Boogaarts, G. J. Brinkman, H. W. P. van de Heijden, P. Vankan, S. Mazouffre, J. A. M. van der Mullen, D. C. Schram, and H. F. Döbele, Proceedings of the Eighth International Symposium, Laser-Aided Plasma Diagnostics (Doorwerth, The Netherlands, 1997), p. 109.
24. M. J. Kushner, J. Appl. Phys. 63, 2532 (1988).
25. W. D. Reents, Jr. and M. L. Mandich, Plasma Sources Sci. Technol. 3, 373 (1994).
26. W. M. M. Kessels, M. C. M. van de Sanden, R. J. Severens, L. J. Van IJzendoorn, and D. C. Schram, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 507 (1998).